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非晶态碳薄膜对金属二次电子发射的影响
1
作者 胡笑钏 刘样溪 +1 位作者 楚坤 段潮锋 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期291-299,共9页
非晶态碳薄膜由于具有极低的二次电子发射系数(secondary electron yield,SEY),在真空微波器件与设备异常放电领域引起了广泛关注.然而,非晶态碳薄膜对二次电子发射影响的动态过程及微观机理仍缺乏了解.本文采用Monte Carlo方法,建立了C... 非晶态碳薄膜由于具有极低的二次电子发射系数(secondary electron yield,SEY),在真空微波器件与设备异常放电领域引起了广泛关注.然而,非晶态碳薄膜对二次电子发射影响的动态过程及微观机理仍缺乏了解.本文采用Monte Carlo方法,建立了Cu表面非晶态碳薄膜的二次电子发射数值模拟模型,能够精确地模拟电子与薄膜及基底材料的散射及二次电子发射的微观物理过程.结果表明,随着薄膜厚度从0 nm增加至1.5 nm时,SEY峰值下降了大约20%;继续增大厚度,SEY峰值不再下降.然而,当薄膜厚度大于0.9 nm时,SEY曲线呈现出双峰形态,但随着薄膜厚度增加至3 nm,第二峰逐渐减弱甚至消失.电子散射轨迹和二次电子能量分布结果,表明这种双峰现象是由于电子在两种材料中散射所致.相比以往模型,所提模型考虑了功函数的变化以及界面势垒对电子散射路径的影响.该模型从微观层面上解释了SEY曲线双峰现象形成的原因,相关的计算结果为非晶态碳薄膜对SEY的抑制规律提供了理论预测. 展开更多
关键词 二次电子发射 非晶态碳薄膜 金属 Monte Carlo模拟
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多层薄膜二次电子发射特性的理论研究 被引量：2
2
作者 陈凤 郭金川 +1 位作者 陈泗方 周彬 《深圳大学学报（理工版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期417-421,共5页
为提高硅基微通道板(silicon-based microchannel plate,Si-MCP)的增益特性,提出采用复合发射层结构取代常规的单发射层结构以改善微通道内壁的二次电子发射特性.计算了Si O2/Si、Al2O3/Si、Mg O/Si双层薄膜在不同厚度下的二次电子发射... 为提高硅基微通道板(silicon-based microchannel plate,Si-MCP)的增益特性,提出采用复合发射层结构取代常规的单发射层结构以改善微通道内壁的二次电子发射特性.计算了Si O2/Si、Al2O3/Si、Mg O/Si双层薄膜在不同厚度下的二次电子发射系数与初电子能量的关系曲线,并对结果进行了比对验证.该计算结果对设计制作硅基MCP具有一定参考价值. 展开更多
关键词 薄膜物理学 硅基微通道板 二次电子发射 数值模拟 发射系数 薄膜厚度
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多层薄膜的二次电子发射蒙特卡罗模拟研究 被引量：1
3
作者 彭敏 程文杰 曹猛 《空间电子技术》 2022年第4期72-78,共7页
为了深入研究多层薄膜材料中二次电子发射这一影响部件微放电效应的重要物理过程,基于金属表面多代二次电子发射蒙特卡罗模型,建立了多层薄膜二次电子发射蒙特卡罗模型,并构建了多层薄膜的平面和矩形沟槽这两种表面结构。通过对这两种... 为了深入研究多层薄膜材料中二次电子发射这一影响部件微放电效应的重要物理过程,基于金属表面多代二次电子发射蒙特卡罗模型,建立了多层薄膜二次电子发射蒙特卡罗模型,并构建了多层薄膜的平面和矩形沟槽这两种表面结构。通过对这两种表面的多层薄膜二次电子发射系数进行蒙特卡罗模拟,并对不同薄膜厚度的二次电子发射系数模拟结果进行分析,验证了多层薄膜抑制二次电子产额的实验效果,并得出抑制效果与多层薄膜厚度和表面结构有关的结论。 展开更多
关键词 二次电子发射 多层薄膜 蒙特卡罗模拟
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次级发射的应用现状和发展前景 被引量：1
4
作者 朱木易 高玉娟 《真空电子技术》 2015年第2期64-66,共3页
本文通过对次级发射的背景和国内外同行的研究介绍,显示了次级发射研究在真空电子器件中的重要性。同时,介绍了在次级发射研究上的一些成绩,并提出一些新想法以供有兴趣的读者讨论。
关键词 次级发射 电荷充电 负电子亲和势 金刚石薄膜
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热解乙氧基铝制备次级电子发射膜
5
作者 谢伯兴 《电子科学学刊》 CSCD 1990年第1期109-112,共4页
利用某些有机烷氧基金属化合物的热分解,可在玻璃、金属、陶瓷或半导体基片上沉积相应的金属氧化物次级发射膜。例如:由乙氧基镁(或铝)的热解制得MgO(或Al_2O_3)膜。本工作由自制乙氧基铝和五氯化钼,在玻璃基底上热解沉积制得合适电阻... 利用某些有机烷氧基金属化合物的热分解,可在玻璃、金属、陶瓷或半导体基片上沉积相应的金属氧化物次级发射膜。例如:由乙氧基镁(或铝)的热解制得MgO(或Al_2O_3)膜。本工作由自制乙氧基铝和五氯化钼,在玻璃基底上热解沉积制得合适电阻率的次级发射膜Al_2O_3∶Mo(?)膜厚1000(?),电阻率10~7-10~8Ω·(cm),最大次级电子发射系数 δ_(max)=3.1,热解条件为450℃,12mm。 展开更多
关键词 次极 电子发射膜 热解沉积 乙氧基
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MgO薄膜二次电子发射系数测量装置的设计 被引量：6
6
作者 吕晓军 喻志农 郑德修 《真空电子技术》 2000年第5期5-8,共4页
Mg O薄膜的二次电子发射系数 γ在彩色等离子体显示器的研究中是一个非常重要的参数。因此 ,准确的测量 Mg O膜的二次电子发射系数是很有必要的。本文分析了在二次电子发射系数测量中最容易出现的一些问题 ,并从 Mg O膜的二次电子发射... Mg O薄膜的二次电子发射系数 γ在彩色等离子体显示器的研究中是一个非常重要的参数。因此 ,准确的测量 Mg O膜的二次电子发射系数是很有必要的。本文分析了在二次电子发射系数测量中最容易出现的一些问题 ,并从 Mg O膜的二次电子发射机理入手 ,阐述了一种测量二次电子发射系数的方法。这种方法在实践中证明是行之有效的。 展开更多
关键词 二次电子发射系数 氧化镁薄膜 测量装置 设计
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