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不同光刻胶有效曝光量的探讨
1
作者
张洪波
张启生
《徐州建筑职业技术学院学报》
2011年第1期37-39,50,共4页
对瑞红胶及Shipley胶制作光栅掩模时的有效曝光量进行了实验.结果表明瑞红胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.65倍,Shipley胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.8倍;且同种光刻胶的光栅掩模在不同空频...
对瑞红胶及Shipley胶制作光栅掩模时的有效曝光量进行了实验.结果表明瑞红胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.65倍,Shipley胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.8倍;且同种光刻胶的光栅掩模在不同空频的有效曝光量亦不同,即光刻胶的有效曝光量与感光效率及光栅掩模所在的空频有关.
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关键词
Shipley光刻胶
瑞红光刻胶
光栅掩模
有效曝光量
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职称材料
题名
不同光刻胶有效曝光量的探讨
1
作者
张洪波
张启生
机构
徐州建筑职业技术学院教务处
徐州工程机械股份有限公司技术部
出处
《徐州建筑职业技术学院学报》
2011年第1期37-39,50,共4页
基金
2010年校级科研课题:光刻胶光栅掩膜槽型的控制与研究(JYA309-20)
文摘
对瑞红胶及Shipley胶制作光栅掩模时的有效曝光量进行了实验.结果表明瑞红胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.65倍,Shipley胶全息曝光对应的感光效率只是单束光曝光感光效率的0.8倍;且同种光刻胶的光栅掩模在不同空频的有效曝光量亦不同,即光刻胶的有效曝光量与感光效率及光栅掩模所在的空频有关.
关键词
Shipley光刻胶
瑞红光刻胶
光栅掩模
有效曝光量
Keywords
ruihong
photo
resist
raster
masking
effective
exposure
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
不同光刻胶有效曝光量的探讨
张洪波
张启生
《徐州建筑职业技术学院学报》
2011
0
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