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RF/DC溅射316L/SiO_2复合膜力学性能与显微结构的研究 被引量：1
1
作者 温伟祥 胡社军 +6 位作者 曾鹏 吴起白 谢光荣 黄拿灿 胡显奇 盛钢 盛忠 《真空》 CAS 北大核心 2001年第2期30-32,共3页
利用射频 /直流磁控溅射法制备了 316 L不锈钢 / Si O2 复合薄膜 ,并对其组织、相结构和力学性能进行了测试分析。结果表明 :直流磁控溅射 316 L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要由 Fe- Cr和 - Fe相构成 ,在 Fe-Cr(110 )晶面出现明显择优... 利用射频 /直流磁控溅射法制备了 316 L不锈钢 / Si O2 复合薄膜 ,并对其组织、相结构和力学性能进行了测试分析。结果表明 :直流磁控溅射 316 L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要由 Fe- Cr和 - Fe相构成 ,在 Fe-Cr(110 )晶面出现明显择优取向 ;由于 Si O2 的掺合 ,使 316 L不锈钢 / Si O2 复合薄膜柱状晶变细小 ,出现明显的二次柱状晶 ,Fe- Cr的 (110 )晶面择优取向消失 ,而 Fe- Cr的 (2 11)晶面衍射峰强度明显增强 ,316不锈钢膜硬度明显高于 316 L块体 ,掺入 Si O2 的金属 展开更多
关键词 rf/dc溅射 316L不锈钢 二氧化硅 金属基陶瓷增强复合膜 显微结构 力学性能
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射频/直流磁控溅射不锈钢/Al_2O_3复合薄膜组织与性能研究 被引量：1
2
作者 温伟祥 胡社军 +6 位作者 曾鹏 吴起白 谢光荣 黄拿灿 胡显奇 盛钢 盛忠 《新技术新工艺》 北大核心 2001年第2期40-42,共3页
利用射频 /直流磁控溅射法 ,制备了 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合薄膜 ,研究了 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合膜的组织形貌 ,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明 :直流磁控溅射 31 6L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要有 Fe- Cr和γ-... 利用射频 /直流磁控溅射法 ,制备了 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合薄膜 ,研究了 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合膜的组织形貌 ,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明 :直流磁控溅射 31 6L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要有 Fe- Cr和γ- Fe相构成 ,在 Fe- Cr( 1 1 0 )晶面出现明显的择优取向 ;由于射频溅射 Al2 O3 陶瓷的掺合 ,使 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合薄膜柱状晶细化 ,并出现二次柱状晶 ,在 Fe- Cr( 2 1 1 )晶面出现明显的择优取向 ,31 6L不锈钢膜硬度明显高于 31 6L块体 ,掺合了 Al2 O3 的金属 /陶瓷复合薄膜耐磨性有显著的提高。 展开更多
关键词 射频 直流磁控溅射 不锈钢/Al2O3薄膜 组织 性能
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射频/直流磁控溅射316L不锈钢/陶瓷复合薄膜组织与性能的研究 被引量：1
3
作者 胡社军 温伟祥 +6 位作者 曾鹏 吴起白 谢光荣 黄拿灿 胡显奇 盛钢 盛忠 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第4期61-64,共4页
利用射频/直流磁控溅射法,制备了316L 不锈钢/SiO_2(Al_2O_3)复合膜,研完了薄膜的组织和形貌,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明,溅射316L 不锈钢薄膜和316L/SiO_2(Al_2O_3)复合薄膜都呈柱状晶结构.主要由Fe-Cr 和γ-Fe 相构成;溅... 利用射频/直流磁控溅射法,制备了316L 不锈钢/SiO_2(Al_2O_3)复合膜,研完了薄膜的组织和形貌,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明,溅射316L 不锈钢薄膜和316L/SiO_2(Al_2O_3)复合薄膜都呈柱状晶结构.主要由Fe-Cr 和γ-Fe 相构成;溅射316L 不锈钢薄膜在 Fe-Cr(110)晶面出现明显的择优取向;由于射频溅射陶瓷的掺合.使316L 不锈钢/陶瓷复合薄膜柱状晶细化.并出现二次柱状晶,在 Fe-Cr(211)晶面出现明显的择优取向.尽管316L 不锈钢/陶瓷复合膜的显微硬度相对于磁控溅射316L 薄膜提高不大,但其抗磨损性能明显提高,以316L/Al_2O_3复合膜尤为显著。 展开更多
关键词 射频/真流磁控溅射 316L不锈钢 陶瓷 复合薄膜 组织 性能
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NH3气氛处理制备p型ZnO薄膜及性能表征 被引量：2
4
作者 唐立丹 张跃 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期1145-1149,共5页
采用NH3气氛处理直流/射频共溅射方法制得的ZnO:Al薄膜,从而获得Al+N共掺p型ZnO薄膜.XRD,场发射扫描电子显微镜测试及Hall效应测试发现,处理温度对ZnO薄膜的结构和电学性能具有较大的影响,其中处理温度为700℃时,薄膜具有较好的c轴择优... 采用NH3气氛处理直流/射频共溅射方法制得的ZnO:Al薄膜,从而获得Al+N共掺p型ZnO薄膜.XRD,场发射扫描电子显微镜测试及Hall效应测试发现,处理温度对ZnO薄膜的结构和电学性能具有较大的影响,其中处理温度为700℃时,薄膜具有较好的c轴择优取向,并且薄膜表面平整,结构紧密,晶粒大小均匀,无明显空洞和裂缝,具有良好的表面质量,晶粒尺寸约为40—60nm,薄膜的导电类型由n型转变为p型. 展开更多
关键词 P型ZNO Al+N共掺杂 直流/射频共溅射
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