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介质阻挡无声放电中电子温度和电子能量分布的探极诊断 被引量：3
1
作者 凌一鸣 徐建军 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期218-221,共4页
用对称双探极和非对称双探极分别诊断氖气中介质阻挡无声放电的电子温度和电子能量分布 .本文概述其诊断技术的原理、装置和实验结果 ,并分析讨论了实验结果 .实验表明 ,这种放电的电子温度随着气压的增加而减少 ,并明显高于相应气压下... 用对称双探极和非对称双探极分别诊断氖气中介质阻挡无声放电的电子温度和电子能量分布 .本文概述其诊断技术的原理、装置和实验结果 ,并分析讨论了实验结果 .实验表明 ,这种放电的电子温度随着气压的增加而减少 ,并明显高于相应气压下的直流放电电子温度 ,而且 。 展开更多
关键词 探极诊断 电子能量分布 介质阻挡放电 无声放电 气体放电
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新型荫罩式PDP单元结构的优化设计 被引量：5
2
作者 杨兰兰 屠彦 +2 位作者 王保平 尹涵春 童林夙 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2003年第6期389-394,共6页
本文讨论了新型荫罩式PDP单元结构的变化对放电的影响 ,从放电强度和放电效率的角度对单元结构进行优化设计。研究了取代介质障壁的荫罩的高度、宽度变化和荫罩内边界形状的变化对放电的影响 ,给出了不同结构下平均粒子浓度随时间的变... 本文讨论了新型荫罩式PDP单元结构的变化对放电的影响 ,从放电强度和放电效率的角度对单元结构进行优化设计。研究了取代介质障壁的荫罩的高度、宽度变化和荫罩内边界形状的变化对放电的影响 ,给出了不同结构下平均粒子浓度随时间的变化曲线和放电效率的变化趋势。模拟结果表明荫罩边界为内斜式的结构在响应时间、峰值浓度和放电效率上都具有较大优势 。 展开更多
关键词 荫罩式等离子体显示器 PDP 放电效率 单元结构 结构设计 放电强度
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SMPDP放电单元中荧光粉层对放电特性的影响 被引量：2
3
作者 张雄 屠彦 +3 位作者 崔伟 王保平 尹涵春 童林夙 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2003年第6期395-399,共5页
本文采用流体模型 ,计算了新型荫罩式PDP(SMPDP)放电单元的放电特性。研究了放电单元中荧光粉层的厚度对放电过程和着火电压的影响。模拟结果表明 ,在SMPDP结构中 ,荧光粉层厚度的变化 ,对放电过程的影响小于通常的表面放电型PDP(ACCPDP... 本文采用流体模型 ,计算了新型荫罩式PDP(SMPDP)放电单元的放电特性。研究了放电单元中荧光粉层的厚度对放电过程和着火电压的影响。模拟结果表明 ,在SMPDP结构中 ,荧光粉层厚度的变化 ,对放电过程的影响小于通常的表面放电型PDP(ACCPDP)。最低着火电压随荧光粉层厚度的不同变化较小。因此 ,SMPDP结构中 。 展开更多
关键词 荫罩式等离子体平板显示器 SMPDP 荧光粉 放电特性 着火电压
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用于彩色交流等离子体显示板的Ne-Ar-Xe混合气体的研究 被引量：1
4
作者 胡文波 罗亦麟 孙鉴 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期95-98,共4页
由氖 (Ne)氙 (Xe)气体混合组成的放电气体使彩色交流等离子体显示板 (AC PDP)具有着火电压低 ,亮度、光效高的优点 ,但激发态氖原子发出的橙红色可见光对荧光粉发光的色纯影响很大。通过对充入Ne Ar Xe混合气体 (氩气分压强与气体总压... 由氖 (Ne)氙 (Xe)气体混合组成的放电气体使彩色交流等离子体显示板 (AC PDP)具有着火电压低 ,亮度、光效高的优点 ,但激发态氖原子发出的橙红色可见光对荧光粉发光的色纯影响很大。通过对充入Ne Ar Xe混合气体 (氩气分压强与气体总压强之比从 0 .0 2到 0 .40 )的AC PDP的着火电压、维持电压工作范围、亮度、光效和白场色度的测量 ,研究了氩气对AC PDP光电性能的影响。经过综合比较 ,氩气和氙气分压强与气体总压强之比分别为 0 0 5和 0 0 4时 ,PDP的白场色度较佳 ,而且着火电压适中 ,亮度和光效较高。最后从理论上分析了在Ne 展开更多
关键词 彩色交流等离子体显示板 气体放电 着火电压 白场色度 氖 氩 氙 混合气体
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彩色等离子体显示器闪烁指数评价法 被引量：2
5
作者 张小宁 刘纯亮 +1 位作者 刘祖军 沈思宽 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1292-1295,共4页
为减小彩色等离子体显示器(PDP)的闪烁,在分析PDP闪烁的主要原因是固定位置的高亮度输出和子场间强烈亮度差的基础上,根据闪烁理论和亮度的脑电图响应模型,提出了用闪烁指数评价PDP闪烁的新方法.该方法认为闪烁主要是由直流亮度分量上... 为减小彩色等离子体显示器(PDP)的闪烁,在分析PDP闪烁的主要原因是固定位置的高亮度输出和子场间强烈亮度差的基础上,根据闪烁理论和亮度的脑电图响应模型,提出了用闪烁指数评价PDP闪烁的新方法.该方法认为闪烁主要是由直流亮度分量上叠加的基频亮度分量引起的,因此定义闪烁指数为基频分量和直流分量平方和的正平方根之比.对闪烁指数的仿真计算结果表明:增加子场数目、主要权重子场的对称选取及它们在一帧中的均匀交错分布都会使闪烁指数减小.根据图像的灰度区间选择适当的子场顺序,可以进一步优化闪烁. 展开更多
关键词 等离子体显示器 子场 闪烁
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PDP荧光粉参数测量装置的研制 被引量：2
6
作者 冯志庆 李志刚 +1 位作者 王淑荣 李福田 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1222-1224,共3页
等离子平面显示(PDP)用荧光粉的主要参数有发射光谱,色坐标,激发光谱,相对亮度等。由于PDP荧光粉的激发光源在紫外 真空紫外波段,因此需要一套真空紫外激发 荧光光谱仪装置来测量这些参数。介绍了一种采用30W氘灯激发光源的PDP粉体测试... 等离子平面显示(PDP)用荧光粉的主要参数有发射光谱,色坐标,激发光谱,相对亮度等。由于PDP荧光粉的激发光源在紫外 真空紫外波段,因此需要一套真空紫外激发 荧光光谱仪装置来测量这些参数。介绍了一种采用30W氘灯激发光源的PDP粉体测试装置。通过光路的聚焦式设计和高增益放大器的采用,实现了120～300nm波段,分辨率好于2nm的激发光谱测量。测试结果表明发射光谱和激发光谱的重复性好于±2%,色坐标误差小于±0.001。 展开更多
关键词 PDP 荧光粉 色坐标 波段 激发光源 高增益 放大器 激发光谱 发射光谱 真空紫外激发
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电子束蒸镀制备的Mg-Zr-O复合介质保护膜结晶取向的研究 被引量：1
7
作者 郭滨刚 刘纯亮 +2 位作者 刘柳 范玉峰 夏星 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期53-56,共4页
采用电子束蒸发制备Mg Zr O复合介质保护膜 ,使用X射线衍射测试Mg Zr O复合介质保护膜的结晶择优取向 ,研究了ZrO2 掺杂及工艺参数对Mg Zr O复合介质保护膜结晶取向的影响。结果表明 ,ZrO2 掺杂会使Mg Zr O复合介质保护膜产生晶格畸变 ... 采用电子束蒸发制备Mg Zr O复合介质保护膜 ,使用X射线衍射测试Mg Zr O复合介质保护膜的结晶择优取向 ,研究了ZrO2 掺杂及工艺参数对Mg Zr O复合介质保护膜结晶取向的影响。结果表明 ,ZrO2 掺杂会使Mg Zr O复合介质保护膜产生晶格畸变 ,并改变其结晶取向。当ZrO2 掺杂比为 0和 0 .10时 ,晶格畸变较小 ,容易获得 (111)结晶取向 ;当ZrO2 掺杂比为0 .0 5和 0 .2 0时 ,晶格畸变较大 ,容易获得 (2 2 0 )或 (2 0 0 )结晶取向。蒸镀工艺对 (111)、(2 0 0 )和 (2 2 0 )取向的影响不尽相同 :较高的蒸镀速率有利于获得较强的 (111)、(2 0 0 )和 (2 2 0 )衍射峰 ;较低的基板温度有利于获得 (111)和 (2 2 0 )结晶取向 ,而较高的基板温度则有利于获得 (2 0 0 )结晶取向。 展开更多
关键词 结晶取向 蒸镀 复合介质 掺杂 ZRO2 晶格畸变 衍射 保护膜 基板 电子束
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