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两步退火法对硫化铅薄膜光电性能的影响
1
作者 范良朝 黄智 +3 位作者 吕全江 刘桂武 乔冠军 刘军林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期278-284,共7页
采用先低温O2气氛退火,后高温N2气氛退火的两步退火法工艺,探究了两步退火法对化学浴沉积(CBD)制备的多晶硫化铅(PbS)薄膜光电性能的影响。结果表明,相比于一步退火法,两步退火法所得的PbS薄膜具有较大的晶粒尺寸、较少的晶界和良好的... 采用先低温O2气氛退火,后高温N2气氛退火的两步退火法工艺,探究了两步退火法对化学浴沉积(CBD)制备的多晶硫化铅(PbS)薄膜光电性能的影响。结果表明,相比于一步退火法,两步退火法所得的PbS薄膜具有较大的晶粒尺寸、较少的晶界和良好的光电性能。在两步退火法中,当第二步退火时间为80 min时,PbS薄膜的响应度为2.33 A·W^(-1),比探测率为1.18×10^(10)cm·H1/2·W^(-1),与一步退火法相比分别提高了259%和236%,即两步退火法可以在传统一步退火法的基础上进一步提高PbS红外光电探测器的性能。 展开更多
关键词 薄膜 硫化铅薄膜 退火 化学浴沉积 响应度 比探测率
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pH值对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响 被引量：2
2
作者 韩文 曹丽云 黄剑锋 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期60-63,共4页
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积液pH值对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表... 采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积液pH值对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=3 V,pH=2.4,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜均匀而致密,随pH值增加,薄膜的压应力及禁带宽度呈现先减小后增大的变化趋势。所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.38~0.39 eV。 展开更多
关键词 pbs薄膜 电沉积 PH值 光学性能
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PbS薄膜的研究进展 被引量：1
3
作者 韩文 曹丽云 黄剑锋 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期744-747,765,共5页
通过对PbS薄膜的结构特征、制备方法、应用领域的综述,提出并设计了水热法、溶胶凝胶法和水热电沉积法等几种简单的制备PbS薄膜的新方法,展望了PbS薄膜的发展前景,PbS薄膜将向制备简单化、功能完善化、应用多样化的方向发展。
关键词 pbs薄膜 结构 制备 应用
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硫化铅薄膜材料的合成及应用研究进展 被引量：1
4
作者 郭乃妮 《应用化工》 CAS CSCD 2011年第4期704-706,710,共4页
综述了PbS薄膜材料的合成方法、应用现状,结合薄膜材料的发展需求提出了电子束辐射法、超声法、微波法等几种高效合成均匀致密PbS薄膜的新方法,展望了PbS薄膜材料的发展前景。
关键词 pbs薄膜 合成 应用 进展
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退火时间对PbS薄膜结构和光学特性的影响 被引量：1
5
作者 武怡 高斐 +4 位作者 刘生忠 马笑轩 王浩石 宋飞莺 陈彦伟 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期23-25,33,共4页
利用化学浴沉积法在玻璃衬底上50℃沉积3h制备硫化铅（PbS）纳米晶薄膜.将得到的PbS薄膜在300℃氮气中进行不同时间（0～120min）的退火.利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和紫外-可见-近红外分光光... 利用化学浴沉积法在玻璃衬底上50℃沉积3h制备硫化铅（PbS）纳米晶薄膜.将得到的PbS薄膜在300℃氮气中进行不同时间（0～120min）的退火.利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和紫外-可见-近红外分光光度计对PbS薄膜的结构和光学特性进行研究.PbS薄膜在玻璃基底上粘附力较强,结晶度良好,呈面心立方结构且沿（111）方向择优生长.不同的退火时间导致PbS薄膜的结构、形貌、光学特性均产生明显差异.退火30 min的PbS薄膜的结晶度最好,其带隙变化范围为0.90～1.70 eV. 展开更多
关键词 pbs薄膜 化学浴沉积 薄膜结构 光学特性
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电沉积法制备PbS薄膜的XRD分析(英文)
6
作者 韩文 曹丽云 +1 位作者 黄剑锋 吴建鹏 《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2008年第6期36-38,57,共4页
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)对薄膜的结构进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的晶相组成的影响.结果表明:在U=3.0 V时,可制备出沿(111)晶面取向生长的立方相PbS薄膜;随沉积电压从3.0 V增加到4.... 采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)对薄膜的结构进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的晶相组成的影响.结果表明:在U=3.0 V时,可制备出沿(111)晶面取向生长的立方相PbS薄膜;随沉积电压从3.0 V增加到4.5 V,薄膜的生长取向从(111)晶面变为(200)晶面,且PbS衍射峰的强度越来越强,到18 V时达到最强. 展开更多
关键词 pbs薄膜 阴极电沉积 沉积电压 XRD
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丝网印刷法制备PbS薄膜研究
7
作者 徐惠芳 欧阳燕 +1 位作者 詹福南 张建军 《南昌航空大学学报（自然科学版）》 CAS 2015年第2期70-74,共5页
采用有机熔盐法合成纳米PbS前驱粉体。使用松油醇作分散试剂配置印刷浆料，采用丝网印刷技术在普通玻璃片上沉积PbS薄膜层，并对PbS薄膜层进行退火处理，采用XRD、SEM、紫外一可见光谱和荧光光谱对所制备的PbS薄膜进行了表征。XRD结果... 采用有机熔盐法合成纳米PbS前驱粉体。使用松油醇作分散试剂配置印刷浆料，采用丝网印刷技术在普通玻璃片上沉积PbS薄膜层，并对PbS薄膜层进行退火处理，采用XRD、SEM、紫外一可见光谱和荧光光谱对所制备的PbS薄膜进行了表征。XRD结果显示所制备的样品只有PbS物相。SEM结果表明：所制备的PbS薄膜中，PbS纳米晶呈棒状，分布较均匀，其直径大约为100nm左右，长度大约2—5斗m，但较疏松。通过丝网印刷工艺研究结果表明：随着丝网印刷次数的增加，PbS薄膜的厚度逐渐增大，当丝网印刷次数为3次时，薄膜厚度为2μ皿。紫外一可见光谱和荧光光谱结果表明：所制备的PbS薄膜在350—1100nm波长范围有大的吸收，而且在488nm处有一宽的荧光发射峰。PbS薄膜是可用作薄膜太阳能电池的潜在光吸收材料。 展开更多
关键词 pbs薄膜 有机熔盐法 丝网印刷法 光学性能 表征
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沉积温度对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响
8
作者 韩文 曹丽云 +1 位作者 黄剑锋 王吉富 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期847-850,共4页
采用电沉积法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积温度对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=... 采用电沉积法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积温度对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=3 V,pH=2.5,T=60℃,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜显微结构均匀而致密,随着反应温度从20℃增加到60℃,薄膜内的压应力逐渐减小,禁带宽度也随着变小。所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.39 eV。 展开更多
关键词 pbs薄膜 电沉积 沉积温度 光学性能
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电压对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响
9
作者 韩文 曹丽云 +2 位作者 黄剑锋 吴建鹏 曾燮榕 《武汉理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期8-10,共3页
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及紫外/可见/近红外光谱仪对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=... 采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及紫外/可见/近红外光谱仪对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=18 V,pH=2.5,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜组成均匀而致密,对紫外线有较强的吸收作用,而对可见光有较好的透过作用。随沉积电压增加,薄膜的结晶性变好,光吸收性能明显增强。 展开更多
关键词 pbs薄膜 电沉积 沉积电压 光学性能
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