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ZnS:Zn,Pb薄膜的制备及其发光性能研究 被引量：8
1
作者 张晓松 李岚 +2 位作者 陶怡 徐征 邹开顺 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1040-1044,共5页
用电子束蒸发的方法制备了ZnS:Zn,Pb荧光薄膜,分别经400℃、600℃退火处理。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光(PL)谱等,表征了ZnS:Zn,Pb荧光薄膜的结构、成分、形貌和发光性能。实验表明,随着... 用电子束蒸发的方法制备了ZnS:Zn,Pb荧光薄膜,分别经400℃、600℃退火处理。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光(PL)谱等,表征了ZnS:Zn,Pb荧光薄膜的结构、成分、形貌和发光性能。实验表明,随着退火温度的升高,薄膜的结构程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,提高了薄膜的发光性能。因此,退火处理是提高ZnS:Zn,Pb荧光薄膜发光性能的有效方法之一。 展开更多
关键词 ZnS:Zn pb薄膜 电子束蒸发 场发射显示器(FED) 退火处理
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分子动力学模拟Pb纳米薄膜的结合能和晶格参数的尺寸效应
2
作者 齐卫宏 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期131-132,145,共3页
利用MaterialsExplorer分子动力学软件包,模拟研究了尺寸为0.5～15nm的Pb纳米薄膜的结合能和晶格参数的尺寸效应。研究表明,Pb纳米薄膜的结合能和晶格参数都随薄膜厚度的减小而降低,但降低的幅度要比同尺寸的Pb纳米团簇小。在模拟过程中... 利用MaterialsExplorer分子动力学软件包,模拟研究了尺寸为0.5～15nm的Pb纳米薄膜的结合能和晶格参数的尺寸效应。研究表明,Pb纳米薄膜的结合能和晶格参数都随薄膜厚度的减小而降低,但降低的幅度要比同尺寸的Pb纳米团簇小。在模拟过程中,由于薄膜充分弛豫,模拟的结合能比SAD模型的计算结果要高一些。 展开更多
关键词 pb薄膜 结合能 晶格参数 尺寸效应
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磁控溅射共沉积Al-Pb复合薄膜微观结构及电性能 被引量：3
3
作者 郭中正 孙勇 +2 位作者 段林昆 李玉阁 彭明军 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第16期12-15,共4页
采用磁控溅射共沉积法制备Al-Pb复合薄膜,运用TEM、SEM、EDX和电阻-温度仪对薄膜微观结构和电性能进行研究。结果表明,Al-Pb薄膜具有温度敏感性,电阻温度系数(TCR)可达8.4×10-3℃-1。薄膜微观结构含富Al基体相和富Pb第二相,呈两相... 采用磁控溅射共沉积法制备Al-Pb复合薄膜,运用TEM、SEM、EDX和电阻-温度仪对薄膜微观结构和电性能进行研究。结果表明,Al-Pb薄膜具有温度敏感性,电阻温度系数(TCR)可达8.4×10-3℃-1。薄膜微观结构含富Al基体相和富Pb第二相,呈两相组织。随着厚度的增大,第二相粒子及基体相晶粒粒度增大,界面密度降低,界面电子散射效应减弱,电阻率下降,TCR值增大。与Al膜和移去Al基体形成的Pb膜的电性能对比研究显示,Al-Pb薄膜存在并联导电机制,电阻率受两相电阻率和体积分数的影响。 展开更多
关键词 Al-pb复合薄膜 磁控共沉积 微观结构 温度敏感性 电阻温度系数
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磁控共溅射Al-Pb合金薄膜中固溶度的扩展 被引量：1
4
作者 郭中正 孙勇 +2 位作者 李玉阁 周铖 彭明军 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期10-13,共4页
利用磁控共溅射法在液氮冷却的衬底(LNCs)上制备了Al-Pb合金薄膜,运用EDX、XRD、TEM和SEM对薄膜成分、结构及形貌进行了研究。结果表明,Al-Pb薄膜在Pb含量为7.38%～2.73%(原子分数,下同)的宽范围内,均存在Al在Pb中的fccPb(Al)亚稳过饱... 利用磁控共溅射法在液氮冷却的衬底(LNCs)上制备了Al-Pb合金薄膜,运用EDX、XRD、TEM和SEM对薄膜成分、结构及形貌进行了研究。结果表明,Al-Pb薄膜在Pb含量为7.38%～2.73%(原子分数,下同)的宽范围内,均存在Al在Pb中的fccPb(Al)亚稳过饱和置换固溶体,固溶度与膜成分相关,随薄膜Pb含量的变化,固溶度在3.03%～5.31%Al之间变化,Al-48.9%Pb膜扩展固溶度最大(5.31%Al),薄膜Pb含量降低或升高时,fccPb(Al)固溶体的固溶度下降。此结果与Miedema理论计算的Al-Pb系混合焓随Pb含量的变化趋势相似。低温衬底下Pb的体扩散弱化并导致相分离倾向降低是固溶延展的动力学原因。 展开更多
关键词 Al—pb合金薄膜 亚稳固溶体 扩展固溶度 磁控共溅射
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铝铅均质合金膜的制备与研究
5
作者 杨宁 孙勇 郭中正 《云南大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期41-44,共4页
利用磁控共溅射法制备Al-Pb合金薄膜.运用SEM、EDS、TEM对薄膜成分、结构进行分析,用分子动力学模拟薄膜中Al、Pb原子的聚集状态.结果发现铅含量影响着Al-Pb合金膜的结构,靶材中Pb的原子分数控制在4%范围内时,薄膜中Al和Pb在纳米级范围... 利用磁控共溅射法制备Al-Pb合金薄膜.运用SEM、EDS、TEM对薄膜成分、结构进行分析,用分子动力学模拟薄膜中Al、Pb原子的聚集状态.结果发现铅含量影响着Al-Pb合金膜的结构,靶材中Pb的原子分数控制在4%范围内时,薄膜中Al和Pb在纳米级范围内可以实现均匀混合,得到均质合金膜.随着Pb含量的增加薄膜中Pb原子会出现聚集,形成不均匀结构.这与分子动力学模拟的结果相一致. 展开更多
关键词 Al-pb合金薄膜 磁控共溅射 均质合金
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