期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
PS-VA模式预倾角的影响因素研究
1
作者 梁瑞祥 徐凯 +5 位作者 温刚 崔青 员国良 李元元 王岩 段楠 《河北省科学院学报》 CAS 2024年第3期55-58,63,共5页
TFT-LCD有多种显示模式,其中PS-VA模式以其高透过率、高对比度而被广泛应用。与传统的VA显示模式相比,PS-VA模式不需要通过PI来控制预倾角大小。PS-VA模式是在液晶中添加一定量的可聚合性化合物(RM),通过改变制程条件实现不同的预倾角... TFT-LCD有多种显示模式,其中PS-VA模式以其高透过率、高对比度而被广泛应用。与传统的VA显示模式相比,PS-VA模式不需要通过PI来控制预倾角大小。PS-VA模式是在液晶中添加一定量的可聚合性化合物(RM),通过改变制程条件实现不同的预倾角大小。本文主要研究了RM浓度、UV1加电电压、UV1固化光计量三个条件对预倾角大小的影响。结果表明,预倾角大小和RM浓度、UV1加电电压、UV1固化光计量均有很强的正相关性。在现实生产的过程中,可以根据不同产品的需求来调整相应的影响因素,以达到最佳的预倾角设计。 展开更多
关键词 可聚合垂直配向 预倾角 可聚合性化合物
下载PDF
PS-VA模式中RM残留量对信赖性的影响(英文) 被引量:1
2
作者 贵丽红 池宝林 +5 位作者 赵国 高红茹 温刚 李正强 舒克伦 梁瑞祥 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2017年第10期799-803,共5页
PSVA技术已经广泛应用于电视技术,但是残像问题仍然没有解决,为了改善PS-VA电视屏的IS表现,本文通过UV1和UV2制程影响RM来研究RM的残留量与IS表现的关系,结果表明RM残留量和IS有很强的相关性。众所周知,离子浓度是IS问题的关键因素,基... PSVA技术已经广泛应用于电视技术,但是残像问题仍然没有解决,为了改善PS-VA电视屏的IS表现,本文通过UV1和UV2制程影响RM来研究RM的残留量与IS表现的关系,结果表明RM残留量和IS有很强的相关性。众所周知,离子浓度是IS问题的关键因素,基于分析RM残留量和离子浓度的关系,我们开了一种改善PS-VA模式IS问题的新技术,另外,本文提出通过设计新的母体混晶材料,使PS-VA制程后液晶具有更低RM残留量来改善IS问题,同时通过大量的测试数据验证改善效果,其中离子浓度由Toyo6254测试,通过SEM和AFM来分析表面形态。 展开更多
关键词 ps-va 残像 RM残留量 离子浓度 液晶
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部