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基板界面对PS/PMMA溶液共混物溶剂挥发成膜相结构的影响 被引量:4
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作者 孔祥明 谢续明 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第1期124-128,共5页
研究了PS PMMA的共混物溶液溶剂蒸发成膜时的基板界面效应 .利用扫描电子显微镜 (SEM)研究了PS PMMA(5 5 ) (W W) THF高分子共混物溶液在不同基板上通过溶剂挥发成膜的相形态结构 .通过FTIR及ATR FTIR检测了共混物薄膜及其表面的共混... 研究了PS PMMA的共混物溶液溶剂蒸发成膜时的基板界面效应 .利用扫描电子显微镜 (SEM)研究了PS PMMA(5 5 ) (W W) THF高分子共混物溶液在不同基板上通过溶剂挥发成膜的相形态结构 .通过FTIR及ATR FTIR检测了共混物薄膜及其表面的共混组成 .研究结果表明 ,成膜基板对高分子共混物溶液成膜后的相形态有很重要的影响 .控制共混物溶液体系成膜过程中的动力学因素 。 展开更多
关键词 基板界面 PS/pmma 溶液共混物 溶剂 挥发成膜 相结构 相形态 梯度结构 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯
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铁尾矿多孔基板的制备及其在Co3O4纳米线合成中的应用 被引量:3
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作者 黄丹丹 严倩倩 +2 位作者 薛旭阳 任钰 沈岩柏 《矿产保护与利用》 2020年第3期64-68,共5页
以齐大山磁选的铁尾矿为原料,通过添加造孔剂采用模压—烧结法制备得到铁尾矿多孔基板,并探讨所获基板在Co3O4纳米材料合成中的应用。在对铁尾矿的粒度及成分分析的基础上,考察了造孔剂聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微球的添加量对铁尾矿多孔... 以齐大山磁选的铁尾矿为原料,通过添加造孔剂采用模压—烧结法制备得到铁尾矿多孔基板,并探讨所获基板在Co3O4纳米材料合成中的应用。在对铁尾矿的粒度及成分分析的基础上,考察了造孔剂聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微球的添加量对铁尾矿多孔基板的体积密度和显气孔率的影响规律。通过扫描电镜观察可知,铁尾矿中添加10%的PMMA微球时,所获多孔基板的孔隙结构最优。以Co(NO3)2·6H2O为钴源,尿素为碱源,蔗糖为模板剂,采用水热法在铁尾矿多孔基板表面制备得到Co3O4纳米线,并探究水热时间对Co3O4纳米线形貌的影响规律。分析结果表明,在水热温度160℃反应6 h时所获的Co3O4纳米线具有长径比高、形貌均一的特点,适用于作为纳米传感器的潜在原材料。 展开更多
关键词 铁尾矿 pmma微球 多孔基板 Co3O4纳米线 水热法
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聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的弹性模量测量研究 被引量:3
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作者 许兴中 赵钢 +2 位作者 刘勇 荣皓 褚家如 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2011年第8期1-5,11,共6页
高聚物材料由于其易热变形、常温下状态稳定且不易被破坏等优点,是新型的存储技术———基于扫描探针显微术(SPM)的热机械超高密度信息存储技术的理想存储介质材料,存储介质的力学特性是影响热机械形成的数据斑形貌的重要因素。实验使... 高聚物材料由于其易热变形、常温下状态稳定且不易被破坏等优点,是新型的存储技术———基于扫描探针显微术(SPM)的热机械超高密度信息存储技术的理想存储介质材料,存储介质的力学特性是影响热机械形成的数据斑形貌的重要因素。实验使用纳米压痕法对270nm厚聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜的弹性模量进行测试,采用两次保载过程,有效地消除了材料的黏性对测试结果的影响。同时研究了基底效应的影响,通过引入与深度相关的影响因子估算基底的影响,得到PMMA薄膜在常温下的弹性模量为6.5GPa。 展开更多
关键词 聚甲基丙烯酸甲酯 薄膜 纳米压痕 弹性模量 黏性 基底效应
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有机玻璃基底AZO/Ag/AZO复合薄膜的制备与性能
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作者 徐清源 张运生 +3 位作者 陈琛 冯海兵 黄鹏 祖成奎 《航空材料学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第1期87-97,共11页
采用低温磁控溅射技术在有机玻璃(聚甲基丙烯酸甲酯PMMA)表面制备铝掺杂氧化锌(AZO)叠层AZO/Ag/AZO透明导电薄膜,研究AZO溅射功率对AZO/Ag/AZO薄膜结构和性能的影响,探讨PMMA层合结构的耐湿热性和加温性能。通过扫描电子显微镜(SEM)、... 采用低温磁控溅射技术在有机玻璃(聚甲基丙烯酸甲酯PMMA)表面制备铝掺杂氧化锌(AZO)叠层AZO/Ag/AZO透明导电薄膜,研究AZO溅射功率对AZO/Ag/AZO薄膜结构和性能的影响,探讨PMMA层合结构的耐湿热性和加温性能。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)表征薄膜的形貌和结构。结果表明:AZO的溅射功率影响了AZO层表面能以及薄膜的结晶度,在100 W和150 W溅射功率下制备出的AZO/Ag/AZO薄膜室温下具有3.7Ω/sq的低薄膜电阻和86.1%的高透光率,采用PMMA和聚氨酯胶片对薄膜进行层合封装,湿热30天后仍保持光学、电学性能稳定。PMMA层合结构在加温过程中的时间-温度曲线表明在5 V直流电压下层合玻璃具有较快的温度响应时间和良好的温度均匀性。-10~-40℃空气对流中PMMA层合结构表现出良好的温度稳定性。 展开更多
关键词 pmma AZO/Ag/AZO 层合 耐湿热性 电加温
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溶剂对PMMA基底上金属薄膜形貌的影响
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作者 薛秀丽 曾超峰 +2 位作者 王世斌 李林安 王志勇 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第A01期412-415,共4页
为了研究溶剂对金属薄膜/聚合物基底结构的表界面破坏的影响,利用直流磁控溅射法在PMMA基底上沉积金属钛、铜、铝和镍薄膜,采用无水乙醇、丙酮、三氯甲烷和水四种溶剂接触金属薄膜/基底的表面,用光学显微镜观测薄膜的形貌变化。结果表明... 为了研究溶剂对金属薄膜/聚合物基底结构的表界面破坏的影响,利用直流磁控溅射法在PMMA基底上沉积金属钛、铜、铝和镍薄膜,采用无水乙醇、丙酮、三氯甲烷和水四种溶剂接触金属薄膜/基底的表面,用光学显微镜观测薄膜的形貌变化。结果表明:除了水以外,其他溶剂通过薄膜缺陷处渗透到薄膜/基底界面后接触PMMA基底,无水乙醇和丙酮与PMMA基底发生溶胀反应,导致膜基界面断裂,薄膜脱离界面发生屈曲,并发生动态扩展直至稳定;三氯甲烷与PMMA基底发生溶解反应,使得膜基界面断裂,薄膜先脱离界面产生屈曲然后塌陷至界面形成褶皱。薄膜基底结构界面的破坏涉及到溶剂与聚合物基底的物化反应,即能否与基底发生溶胀或者溶解。由此可见,溶剂会对金属膜/聚合物基底结构的完整性产生影响,并且缩短结构的使用寿命。但是可以通过这种方式来制造规则、可控的薄膜屈曲模式。 展开更多
关键词 无水乙醇 pmma基底 界面反应 金属薄膜
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基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜
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作者 陈少军 李以贵 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期349-351,共3页
LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的... LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的成本。分析讨论了基于电子束制作掩膜版和基于准分子激光制作掩膜版两种方法,得出了准分子激光制作的掩膜在成本和时间上都有优势的结论。将通过准分子激光技术制作的掩膜置于X射线下,在PMMA基板上可以加工很好的三维微结构。通过依次直接激光烧蚀金薄膜可以加工具有一系列微球状结构的吸收体图形,再将此图形转写到PMMA基板上,可以得到的最低像素为25μm。 展开更多
关键词 准分子激光 掩膜版投影 LIGA掩膜版 pmma基板
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基板界面对PS/PMMA共混物薄膜相逆转组成比的影响 被引量:11
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作者 方健 孔祥明 +2 位作者 郭宝华 胡平 谢续明 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期151-153,共3页
The effect of substrate on the phase morphologies of PMMA/PS blend films was investigated by means of phase contrast microscope. PMMA/PS blend films were cast onto various substrates(such as glass substrate and PP sub... The effect of substrate on the phase morphologies of PMMA/PS blend films was investigated by means of phase contrast microscope. PMMA/PS blend films were cast onto various substrates(such as glass substrate and PP substrate) by spin-coating with thickness of about 10 μm. It was observed that there was a large difference of the phase inversion region between the blend films cast on glass and on PP substrates. On glass substrate, the phase inversion occurred at about \%Φ\%_m=0 4(PS mass fraction) while at \%Φ\%_m=0 5 on PP substrate. This implies that there is a shift of the phase inversion region with the change of substrate in cast polymer blend films. In other words, phase inversion region depends on the substrate. ATR-FTIR analysis was used to detect the composition of the surface and the bottom of the films(about 100 μm thick) obtained by evaporating solvent from the polymer blend solution. The ATR-FTIR spectra of the surface and the bottom of the PMMA/PS blend thin films cast on glass substrate and PP substrate showed that PMMA component preferentially segregated to glass substrate and PS component was enriched on the PP substrate. This selective segregation was due to the difference of the wetting abilities of PS and PMMA on the two kinds of substrates. The polymer-substrate interfacial tension γ were calculated and the results supported the ATR-FTIR results. It could be inferred that the shift of the phase inversion region with the change of the substrate in PMMA/PS blend film was due to the fact that the composition of the blend in the bulk changed, owing to the selective enrichment of one component of polymer blend to the substrate. In other words, the affinity between polymer and substrate can strongly influence the phase morphologies and the phase inversion region in polymer blend films. 展开更多
关键词 共混物薄膜 相逆转 基板界面 界面张力 聚苯乙烯 聚甲基丙烯酸甲酯
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超声波键合能量引导微结构PMMA基片的制作(英文) 被引量:2
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作者 陶琳 罗怡 +2 位作者 张彦国 张宗波 王晓东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期1373-1378,共6页
为了用超声波键合的方法实现微流控芯片的封装,采用选择性键合方式在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基片的微沟道两侧设计、制作了能量引导微结构,用热压法在同一PMMA基片上一次成形了凸起的能量引导微结构和凹陷的微沟道。用套刻和湿法腐蚀的... 为了用超声波键合的方法实现微流控芯片的封装,采用选择性键合方式在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基片的微沟道两侧设计、制作了能量引导微结构,用热压法在同一PMMA基片上一次成形了凸起的能量引导微结构和凹陷的微沟道。用套刻和湿法腐蚀的方法制作了复合一体化硅模具。通过正交实验,确定了优化后的热压工艺参数。实验结果表明,由于同时存在凹、凸微结构,因此优化后的热压成形温度比传统的热压凹陷结构的成形温度提高15 ~20 ℃,在温度为140 ℃、保压时间为300 s、压力为1 .65MPa的实验条件下,微结构的复制精度达到了99 %。 展开更多
关键词 聚甲基丙烯酸甲酯基片 能量引导微结构 微超声键合 热压
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液相检测的Love波传感器的制作与研究 被引量:1
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作者 史建亮 胡友旺 +1 位作者 贾宏光 张平 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2007年第5期533-536,共4页
在分析Love波传感器液相质量检测机理的基础上,设计并制作了以36°YXLiTaO3为基底,交联处理的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为波导层的Love波器件。器件的中心频率为118 MHz,插损为-16 dB。通过建立电镀实验模型,实时的检测了在液相中吸... 在分析Love波传感器液相质量检测机理的基础上,设计并制作了以36°YXLiTaO3为基底,交联处理的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为波导层的Love波器件。器件的中心频率为118 MHz,插损为-16 dB。通过建立电镀实验模型,实时的检测了在液相中吸附于阴极薄膜上铜的质量,并测试到传感器的灵敏度为-0.387 cm2/g。分析了灵敏度实验值与理论值的差别,进一步提出了改进方案与措施。 展开更多
关键词 Love波器件 聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)波导层 LiTaO3压电基底 叉指换能器
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