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3200 V双p阱终端VDMOS击穿特性仿真研究
1
作者 李尧 王爱玲 +6 位作者 王奋强 蓝俊 牛瑞霞 张鹏杰 张栩莹 吴回州 刘良朋 《半导体光电》 CAS 北大核心 2023年第6期837-844,共8页
基于场限环终端技术理论,提出了一种具有双p阱结构的垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOS)。通过数值模拟软件分别仿真了p阱各项参数和漂移区掺杂浓度与击穿电压的关系,提取器件击穿时的表面电场并分析其击穿机理。研究结果表... 基于场限环终端技术理论,提出了一种具有双p阱结构的垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOS)。通过数值模拟软件分别仿真了p阱各项参数和漂移区掺杂浓度与击穿电压的关系,提取器件击穿时的表面电场并分析其击穿机理。研究结果表明,当漂移区掺杂浓度一定时,击穿电压随p阱数量和结深的增大而增大,随p阱掺杂浓度的增大而先增大后减小;当p阱参数一定时,击穿电压随漂移区掺杂浓度的增大而先增大后减小。经优化器件各项参数,击穿电压(V_(B))达到3 200 V,与传统平面栅型VDMOS相比提升了305%,终端有效长度仅为26μm,表面电场最大值为1.21×10^(6) V/cm,且分布相对均匀,终端稳定性和可靠性高。 展开更多
关键词 VDMOS p 漂移区掺杂浓度 击穿电压 表面电场分布
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SOI LDMOS栅漏电容特性的研究 被引量:3
2
作者 俞军军 孙伟锋 +2 位作者 易扬波 李海松 陆生礼 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期352-356,共5页
借助软件,模拟并研究了SOILDMOS栅漏电容Cgd与栅源电压Vgs和漏源电压Vds的关系;研究了栅氧化层厚度,漂移区注入剂量,P阱注入剂量,SOI厚度,场板长度等五个结构工艺参数对Cgd的影响;提出了减小SOILDMOS栅漏电容Cgd的各参数调节方法。
关键词 SOI LDMOS 栅漏电容 栅氧化层 漂移区 p
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工艺阱深对CMOS集成电路抗闩锁性能的影响 被引量:2
3
作者 韩兆芳 虞勇坚 《电子与封装》 2014年第6期45-47,共3页
闩锁效应是体硅CMOS电路中最为严重的失效机理之一,而且随着器件特征尺寸越来越小,使得CMOS电路结构中的闩锁效应日益突出。以P阱CMOS反相器和CMOS集成电路的工艺结构为基础,采用可控硅等效电路模型,较为详细地分析了闩锁效应的形成机理... 闩锁效应是体硅CMOS电路中最为严重的失效机理之一,而且随着器件特征尺寸越来越小,使得CMOS电路结构中的闩锁效应日益突出。以P阱CMOS反相器和CMOS集成电路的工艺结构为基础,采用可控硅等效电路模型,较为详细地分析了闩锁效应的形成机理,并利用试验证实,通过加深P阱深度,可以明显提升CMOS电路的抗闩锁性能。 展开更多
关键词 p 闩锁效应 可控硅 CMOS集成电路
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VDMOS参数一种新失效模式的调查与分析
4
作者 周桂丽 《电子质量》 2013年第4期34-40,共7页
该文通过详细记录一种新的VDMOS失效模式,按调查过程,层层抽丝剥茧,从JEFT注入到N阱形成,通过对比几个相近失效模式,最后找出造成失效的真正原因,并对失效模式进行分析。
关键词 JEFT注入 N p 输出曲线 打胶
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基于BiCMOS制作技术的探讨与研究
5
作者 鄢云 《测试技术学报》 2004年第z1期69-73,共5页
此文从最简单最基本的三重扩散3DBiCMOS制作工艺技术入手,分析了BiCMOS制作工艺的特征,重点探讨了双阱BiCMOS工艺处理方法,进行了CMOS,双极晶体管和BiCMOS工艺对比分析,对BiCMOS制作工艺及性能提高的前景进行探讨与研究.
关键词 CMOS 双极晶体管 BICMOS 扩散 注入 外延层 n p
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一种双扩散p阱nMOS器件新结构
6
作者 秦祖新 曹广军 刘三清 《微电子学》 CAS CSCD 1994年第4期17-21,共5页
本文介绍了一种适用于VDMOS功率集成电路的双扩散p阱nMOS器件新结构,该结构具有与VDMOS工艺完全兼容和加工工艺简单的特点。利用这种结构可实现nMOS处理电路与衬底间的pn结隔离,并且隔离电压接近VDMOS管的... 本文介绍了一种适用于VDMOS功率集成电路的双扩散p阱nMOS器件新结构,该结构具有与VDMOS工艺完全兼容和加工工艺简单的特点。利用这种结构可实现nMOS处理电路与衬底间的pn结隔离,并且隔离电压接近VDMOS管的耐压。通过调节源、漏扩散窗口间距,可以在小范围内调整nMOS管的阈值电压。这种双扩散nMOS器件结构,特别适合于制作单驱动器件的MOS功率集成电路。 展开更多
关键词 双扩散 MOS器件 结构 p
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IGBT转移特性的计算与仿真研究
7
作者 范晓波 《中国设备工程》 2019年第22期216-217,共2页
IGBT即绝缘栅双极型晶体管,近年来发展迅猛,作为新一代的电力电子器件已经得到广泛应用。随着应用领域的不断拓展,对器件的性能也提出了更高的要求。作为具有表面MOSFET结构的器件,研究人员一直致力于优化其结构参数,以期获得更加优良... IGBT即绝缘栅双极型晶体管,近年来发展迅猛,作为新一代的电力电子器件已经得到广泛应用。随着应用领域的不断拓展,对器件的性能也提出了更高的要求。作为具有表面MOSFET结构的器件,研究人员一直致力于优化其结构参数,以期获得更加优良的特性。本文通过ISE仿真软件,模拟了器件的表面MOS结构,对于器件的转移特性进行了仿真研究。结果表明,要想获得理想的转移特性,必须对表面MOS结构中P阱区的掺杂及栅氧化层的厚度进行优化。 展开更多
关键词 IGBT 电力电子 MOSFET 转移特性 p 掺杂
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一种抑制单粒子瞬态响应的SiGe HBT工艺加固技术仿真
8
作者 易孝辉 谭开洲 +4 位作者 张培健 魏佳男 洪敏 罗婷 徐开凯 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第6期965-970,共6页
基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,开展了无深槽NPN SiGe HBT工艺和器件仿真。模拟了带深P阱SiGe HBT的制备过程、常规电学特性和重离子单粒子效应。该器件与常规器件相比表现出更优的单粒子瞬态(SET)特性,在关态的SET响应峰值下降了80%,在... 基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,开展了无深槽NPN SiGe HBT工艺和器件仿真。模拟了带深P阱SiGe HBT的制备过程、常规电学特性和重离子单粒子效应。该器件与常规器件相比表现出更优的单粒子瞬态(SET)特性,在关态的SET响应峰值下降了80%,在最大特征频率工作点的SET响应峰值下降了27%,瞬态保持时间也大幅减小。使用深N阱和深P阱隔离同时抑制了集电区-衬底结的漂移载流子收集和衬底扩散载流子收集的过程,极大地提高了器件的SET性能。 展开更多
关键词 SiGe BiCMOS SiGe HBT 单粒子瞬态 电荷收集 p
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基于线性提升和高速低噪声比较器技术的10 bit 160 MSPS SAR ADC设计 被引量:1
9
作者 曾鑫 冯志斌 +1 位作者 张正平 徐代果 《电子产品世界》 2021年第12期75-81,共7页
基于采样管p阱浮空技术用于寄生电容电荷补偿,实现采样开关高线性度。使串联的两个寄生电容的容值变化方向相反,从而实现了容值的相互补偿,使输入管的寄生电容容值不随输入信号幅度变化,相较传统技术,采样开关的线性度得到进一步提高。... 基于采样管p阱浮空技术用于寄生电容电荷补偿,实现采样开关高线性度。使串联的两个寄生电容的容值变化方向相反,从而实现了容值的相互补偿,使输入管的寄生电容容值不随输入信号幅度变化,相较传统技术,采样开关的线性度得到进一步提高。另一方面,提出了一种高速低噪声动态比较器技术,减小了MOS管的导通电阻,增加了比较器速度,通过衬底自举技术,使比较器输入管的阈值电压明显降低,跨导增加,从而降低了比较器的等效输入噪声,解决了动态比较器速度和噪声之间必须进行折中的技术难点。为了验证上述技术,基于标准65 nm CMOS工艺,设计了一款10 bit 160 MSPS SAR ADC。1 V工作电压下,芯片实测功耗为2 mW,无杂散动态范围(SFDR)>69 dB,信号噪声失真比(SNDR)>55.6 dB,ADC核的芯片面积仅为0.023 mm2,在莱奎斯特采样情况下,优值(FoM)为25.4 fJ/步。 展开更多
关键词 10 bit 160 MSpS 采样管p浮空技术 高速低噪声比较器
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一种CMOS四象限模拟乘法器的设计
10
作者 张正璠 《微电子学》 CAS CSCD 1993年第4期7-12,26,共7页
本文提出了一种CMOS四象限模拟乘法器。这种乘法器基于MOS晶体管的电流-电压平方关系,采用线性MOS跨导器、悬浮电压发生器和线性MOS电阻完成乘法运算。这种乘法器具有单端输出电压和较好的温度特性。文章比较详细地介绍了电路特点和工... 本文提出了一种CMOS四象限模拟乘法器。这种乘法器基于MOS晶体管的电流-电压平方关系,采用线性MOS跨导器、悬浮电压发生器和线性MOS电阻完成乘法运算。这种乘法器具有单端输出电压和较好的温度特性。文章比较详细地介绍了电路特点和工作原理,分析了电路的温度性能,并给出了SPICEⅡ的模拟结果。 展开更多
关键词 CMOS 模拟乘法器 硅栅p工艺
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P阱硅栅CMOS电路阈值电压漂移现象的分析和采取的解决办法
11
作者 高庆宁 《集成电路通讯》 2001年第2期13-18,共6页
针对CMOS集成电路制造工艺中出现的阈值电压漂移问题,通过对大量工艺实验数据的统计分析,提出了电路失效模型,又运用理论分析,找出了问题的原因所在。据此改进了设计和工艺,并经实验验证,效果良好。
关键词 阈值电压漂移 集成电路 注入能量 p硅栅 CMOS电路
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高密度CMOS电路反常规P阱的掺杂技术
12
作者 张晓雪 《微电子技术》 1996年第6期29-30,共2页
关键词 CMOS电路 反常规p 掺杂 IC
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空穴在动量空间分布对p型量子阱红外探测器响应光谱的影响 被引量:6
13
作者 周旭昌 陈效双 +1 位作者 甄红楼 陆卫 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期4247-4252,共6页
通过对p型量子阱红外探测器(QWIP)的自洽计算,得到了量子阱价带的电子结构和器件的光电流谱,并研究了载流子在动量空间分布对p型QWIP光谱响应的影响.计算结果表明,在动量空间不同区域的空穴对器件的光谱响应起着不同作用,从而使得在p型Q... 通过对p型量子阱红外探测器(QWIP)的自洽计算,得到了量子阱价带的电子结构和器件的光电流谱,并研究了载流子在动量空间分布对p型QWIP光谱响应的影响.计算结果表明,在动量空间不同区域的空穴对器件的光谱响应起着不同作用,从而使得在p型QWIP中,空穴浓度和温度都将影响器件的响应光谱.所得结果合理地解释了实验中器件响应光谱随掺杂浓度和温度的变化. 展开更多
关键词 p型量子红外探测器 响应光谱 空穴浓度 温度
原文传递
90nm CMOS工艺下p^+深阱掺杂浓度对电荷共享的影响 被引量:4
14
作者 刘凡宇 刘衡竹 +2 位作者 刘必慰 梁斌 陈建军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期461-468,共8页
基于3维TCAD器件模拟,研究了90nmCMOS双阱工艺下p+深阱掺杂对电荷共享的影响.研究结果表明:改变p+深阱的掺杂浓度对PMOS管之间的电荷共享的影响要远大于NMOS管;通过增加p+深阱的掺杂浓度可以有效抑制PMOS管之间的电荷共享.这一结论可用... 基于3维TCAD器件模拟,研究了90nmCMOS双阱工艺下p+深阱掺杂对电荷共享的影响.研究结果表明:改变p+深阱的掺杂浓度对PMOS管之间的电荷共享的影响要远大于NMOS管;通过增加p+深阱的掺杂浓度可以有效抑制PMOS管之间的电荷共享.这一结论可用于指导电荷共享的加固. 展开更多
关键词 电荷共享 单粒子效应 p%pLUS%深掺杂 双极晶体管效应
原文传递
p型量子阱太赫兹振荡器研究 被引量:1
15
作者 曹俊诚 李爱珍 封松林 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期241-243,共3页
采用非抛物平衡方程理论研究了直流偏置下 p型量子阱负有效质量 p+ pp+ 二极管电流的时空特性。在适当的掺杂和偏置条件下 ,由于高场畴的形成 ,二极管中将产生太赫兹 (THz,1 THz=1 0 1 2 Hz)电流自振荡。计算了自振荡频率对直流偏置的... 采用非抛物平衡方程理论研究了直流偏置下 p型量子阱负有效质量 p+ pp+ 二极管电流的时空特性。在适当的掺杂和偏置条件下 ,由于高场畴的形成 ,二极管中将产生太赫兹 (THz,1 THz=1 0 1 2 Hz)电流自振荡。计算了自振荡频率对直流偏置的依赖性 ,提出了设计可调谐 展开更多
关键词 p型量子 太赫兹振荡器 负有效质量 自振荡 二极管
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p型半导体量子阱的有效计算方法
16
作者 薛舫时 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期427-431,436,共6页
提出一种p型半导体量子阱中二维空穴气的有效计算方法。它使用半轴向近似把Luttinger哈密顿简约成3*3矩阵,而仍保留价带的扭曲性和重空穴、轻空穴和自旋-轨道耦合带间的能带混合。使用这种方法和简化的有限差分算出了p型半导体量子阱的... 提出一种p型半导体量子阱中二维空穴气的有效计算方法。它使用半轴向近似把Luttinger哈密顿简约成3*3矩阵,而仍保留价带的扭曲性和重空穴、轻空穴和自旋-轨道耦合带间的能带混合。使用这种方法和简化的有限差分算出了p型半导体量子阱的价带结构和二维空穴气。研究了量子阱中的价带混合、能带扭曲和阱间空穴气的耦合。该方法计算量少,计算结果满足价带特性,适用于p型异质结器件的优化设计。 展开更多
关键词 二维空穴气 p型量子 量子限制 能带混合
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3300 V p^+深阱平面栅非穿通IGBT特性
17
作者 刘江 王耀华 +3 位作者 赵哿 高明超 金锐 潘艳 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第5期352-357,共6页
高压绝缘栅双极晶体管(IGBT)存在寄生晶闸管,易发生闩锁失效。对p^+深阱的参数进行了优化,制备了3 300 V p^+深阱平面栅非穿通IGBT(NPT-IGBT)。对NPT-IGBT的静态特性进行了仿真,结果表明,当p^+结深约为5.5μm,p^+深阱距离多晶硅5μm时,... 高压绝缘栅双极晶体管(IGBT)存在寄生晶闸管,易发生闩锁失效。对p^+深阱的参数进行了优化,制备了3 300 V p^+深阱平面栅非穿通IGBT(NPT-IGBT)。对NPT-IGBT的静态特性进行了仿真,结果表明,当p^+结深约为5.5μm,p^+深阱距离多晶硅5μm时,p^+深阱并未影响到沟道处p阱掺杂浓度,对IGBT静态特性无明显影响。制备了不同p^+深阱注入剂量的IGBT芯片,并将芯片封装为模块,分别进行常温和高温下的静态和动态参数测试。测试结果表明,当p^+深阱剂量低时,常温下模块关断失效;而p^+深阱剂量增大时可通过常温、高温开关测试,并通过10μs短路测试。p^+深阱注入剂量对静态特性无明显影响,对动态特性改善明显,可满足应用要求。 展开更多
关键词 非穿通绝缘栅双极晶体管(NpT-IGBT) p%pLUS%深 静态特性 动态特性 闩锁
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