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OMVPE硒化锌薄膜的生长与激光特性 被引量:1
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作者 杨宝均 田华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第4期239-248,共10页
本文叙述了在GaAs衬底上用有机金属气相外延(OMVPE)法生长单晶ZnSe薄膜的方法。研究了生长温度,硒锌比对外延膜光电性能的影响。发现生长温度在285℃可以得到表面光亮、结晶性好、低阻、高迁移率、深中心浓度低的外延层。以光泵浦作激... 本文叙述了在GaAs衬底上用有机金属气相外延(OMVPE)法生长单晶ZnSe薄膜的方法。研究了生长温度,硒锌比对外延膜光电性能的影响。发现生长温度在285℃可以得到表面光亮、结晶性好、低阻、高迁移率、深中心浓度低的外延层。以光泵浦作激发研究了OMVPE ZnSe薄膜的受激发射性质并测量其光学增益。利用ZnSe/GaAs的自然解理面形成的光反馈腔制成了激光器。该激光器的工作温度可以延续到150K。 展开更多
关键词 硒化锌 薄膜 生长 激光 omvpe
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光助OMVPE法生长ZnSe的发光和电学特性
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作者 师庆华 《液晶与显示》 CAS CSCD 1991年第1期41-43,共3页
用光致发光和 Hall 效应测量确定了用光助(氙灯)OMVPE 法在 GaAs 上生长 ZnSe外延层的特性,在照射条件下生长的非故意掺杂外延层具有 n 型导电性,电子浓度为10^(16)-10^(17)cm^(-3)。造成这种现象的原因是波长为400<λ<800nm 的... 用光致发光和 Hall 效应测量确定了用光助(氙灯)OMVPE 法在 GaAs 上生长 ZnSe外延层的特性,在照射条件下生长的非故意掺杂外延层具有 n 型导电性,电子浓度为10^(16)-10^(17)cm^(-3)。造成这种现象的原因是波长为400<λ<800nm 的辐照使外延层与残留的或故意掺入的施主杂质的结合得到了很大的增强,尽管这种辐照对生长速率的增快并无很大影响。为了获得纯度更高的外延层,λ<400nm 的辐射是最理想的.然而,如果在外延生长过程中采用更纯的源材料,就可以利用400<λ<800nm 辐射来避免残余杂质的引入,而且可将这种现象应用于更理想的掺杂技术。 展开更多
关键词 ZNSE omvpe 外延层 外延生长过程 光致发光 源材料 掺杂技术 施主杂质 照射条件 激子发射
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OMVPE生长高质量Al_xGa_(1-x)As
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作者 周华 《液晶与显示》 CAS CSCD 1991年第3期33-34,共2页
人们所关心的是 OMVPE 的源化学制剂替代物。最常用的铝源是三甲基铝(TMAl),三甲基铝的缺点是有很强的Al—C 键,结果造成明显的碳掺入。三乙基铝是一种替代物,它的碳掺入非常低。但三基铝(TEAl),的缺点是蒸汽压低(55℃时为 0.5乇),因而... 人们所关心的是 OMVPE 的源化学制剂替代物。最常用的铝源是三甲基铝(TMAl),三甲基铝的缺点是有很强的Al—C 键,结果造成明显的碳掺入。三乙基铝是一种替代物,它的碳掺入非常低。但三基铝(TEAl),的缺点是蒸汽压低(55℃时为 0.5乇),因而限制了生长速率。 展开更多
关键词 三甲基铝 Al_xGa omvpe x)As 铝源 三乙基铝 束缚激子 三基 化学制剂 生长速率
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Measurement of Refractive Indices of (Al_xGa_(1-x))_(0.51)In_(0.49)P Grown by Low Pressure Organometallic Vapor Phase Epitaxy
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作者 廉鹏 马骁宇 +1 位作者 张广泽 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期398-401,共4页
The refractive indices of disordered (Al xGa 1-x ) 0 51 In 0 49 P,which is grown by low-pressure organometallic vapor phase epitaxy and lattice-matched to GaAs substrate,have been determined by measurin... The refractive indices of disordered (Al xGa 1-x ) 0 51 In 0 49 P,which is grown by low-pressure organometallic vapor phase epitaxy and lattice-matched to GaAs substrate,have been determined by measuring their reflectance spectra when the wavelength ranges between 0 5 to 2 5 micrometer.A single-oscillator dispersion model is used to verify the experiment data and calculate the reflectance spectrum.The refractive indices are used to analyze the waveguide of strain quantum well GaInP/AlGaInP visible laser diode.The simulated far field pattern is consistent with the experimental results very well. 展开更多
关键词 LP-omvpe refractive index MEASUREMENT GAINP/ALGAINP
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用新型的有机金属源材料以OMVPE技术制备氮掺杂ZnSe
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《发光快报》 CSCD 1994年第4期28-31,共4页
关键词 硒化锌 氮掺杂 制备 omvpe技术
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用于激射波长可控的CaAs/AlGaAs量子阱激光二极管的大面积均匀OMVPE生长
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作者 李学颜 《半导体情报》 1994年第5期17-22,31,共7页
在垂直旋转圆形OMVPE外延炉里压力减小到0.2atm下生长的GaAs和AlGaAs的特性非常均匀。衬底旋转500r/min,厚外延层均匀性是±1%。而3~10nm厚的量子阱,其厚度的均匀性是±2%。铝组分的... 在垂直旋转圆形OMVPE外延炉里压力减小到0.2atm下生长的GaAs和AlGaAs的特性非常均匀。衬底旋转500r/min,厚外延层均匀性是±1%。而3~10nm厚的量子阱,其厚度的均匀性是±2%。铝组分的变化系数是1.8×10-3或者更小。对于含有单量子阱有源层的宽面积GRIN-SCH二极管激光器,其阈值电流密度和微分量子效率非常均匀。激光器的激射波长可以通过调整有源层厚度和组分精确控制。175个器件分布在16cm2的片子上,片子包含一个10nm厚的Al0.07Ga0.93As有源层,激射波长,总的变化为3.0nm。从9个其它外延片上取出的所有供试验的管子,其波长范围是从803.5到807.4nm。 展开更多
关键词 量子阱 激光二极管 激射波长 omvpe生长 砷化镓
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Me_3In·PH_3加合物的密度泛函理论研究
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作者 冯华升 戴瑛 黎乐民 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第S1期36-,共1页
近年来 ,有机金属气相外延 (OMVPE)技术已经成为高纯度半导体制备的最为广泛的方法。深入理解OMVPE的反应机制 ,对于OMVPE反应前体的选择、沉积系统的设计以及对掺杂剂的控制等都显得很重要。但是 ,由于反应的复杂性 ,反应中大量不稳定... 近年来 ,有机金属气相外延 (OMVPE)技术已经成为高纯度半导体制备的最为广泛的方法。深入理解OMVPE的反应机制 ,对于OMVPE反应前体的选择、沉积系统的设计以及对掺杂剂的控制等都显得很重要。但是 ,由于反应的复杂性 ,反应中大量不稳定中间体的产生 ,实验研究昂贵而困难 ;而且由于反应前体热力学和动力学数据的匮乏 ,也给实验结果的解释带来很大困难。因此 ,从量子力学基本原理出发 ,从理论上对OMVPE进行研究 ,获得化合物的热力学和动力学数据 ,以及得到OMVPE过程的微观化学反应图象 ,具有重要意义。近年来 ,密度泛函理论 (DFT)已经发展成为一种对分子体系电子结构计算较为成熟的方法。大量研究证明 ,只要选择合适的交换相关能泛函 ,DFT是研究分子性质的有力工具 ,能够得到可信的结果。Me3 In和PH3 是制备Ⅲ Ⅴ半导体的重要反应前体或掺杂剂。已有实验证据表明在PH3 存在的条件下 ,Me3 In与PH3 会生成Me3 In·PH3 中间体 ,并显著改变Me3 In的热分解—沉积反应机制。但是 ,迄今还没有对该中间体的热力学性质和反应性能作祥细研究。本文利用密度泛函方法对Me3 In·PH3 进行理论研究 ,得到了一些有意义的结果。其主要计算结果包括。( 1 )通过全优化计算得到Me3 In·PH3 加合物的平衡几何构型 ,基本振动频? 展开更多
关键词 密度泛函理论 有机金属气相处延 加合物
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