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热处理温度对Ni-Mn-Ga-Co薄膜性能的影响
1
作者
张馨
张敏刚
+3 位作者
郭艳萍
孙娜
宫长伟
陈峰华
《山西冶金》
CAS
2015年第4期9-11,共3页
采用磁控溅射技术在P型Si(100)基片上制备了掺杂Co的Ni-Mn-Ga薄膜,对制得的薄膜进行不同温度的热处理,并分析研究各种薄膜的表面形貌以及磁性能的异同。研究发现:在不同的退火温度下,Ni-MnGa-Co薄膜表面颗粒的生长都比较均匀;薄膜在1 07...
采用磁控溅射技术在P型Si(100)基片上制备了掺杂Co的Ni-Mn-Ga薄膜,对制得的薄膜进行不同温度的热处理,并分析研究各种薄膜的表面形貌以及磁性能的异同。研究发现:在不同的退火温度下,Ni-MnGa-Co薄膜表面颗粒的生长都比较均匀;薄膜在1 073 K退火1 h的情况下,磁性能最强,随着退火温度的变高或变低,磁性能都有所减弱;当退火温度为1 073 K时,居里温度最高,为350 K。
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关键词
ni
-
mn
-
ga
-
co
薄膜
退火温度
磁性能
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职称材料
题名
热处理温度对Ni-Mn-Ga-Co薄膜性能的影响
1
作者
张馨
张敏刚
郭艳萍
孙娜
宫长伟
陈峰华
机构
太原科技大学材料科学与工程学院
出处
《山西冶金》
CAS
2015年第4期9-11,共3页
基金
教育部高校博士点基金(20101415110003)
山西省回国留学人员科研资助项目(2013-098)
+3 种基金
山西省研究生创新项目(20133114)
太原科技大学大学生创新创业项目(xj2013055)
太原科技大学校青年基金(20123002)
太原科技大学研究生科技创新项目(20125005)
文摘
采用磁控溅射技术在P型Si(100)基片上制备了掺杂Co的Ni-Mn-Ga薄膜,对制得的薄膜进行不同温度的热处理,并分析研究各种薄膜的表面形貌以及磁性能的异同。研究发现:在不同的退火温度下,Ni-MnGa-Co薄膜表面颗粒的生长都比较均匀;薄膜在1 073 K退火1 h的情况下,磁性能最强,随着退火温度的变高或变低,磁性能都有所减弱;当退火温度为1 073 K时,居里温度最高,为350 K。
关键词
ni
-
mn
-
ga
-
co
薄膜
退火温度
磁性能
Keywords
ni
-
mn
-
ga
-
co
thin
films
annealing
temperature
magnetic
properties
分类号
TG156.2 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
热处理温度对Ni-Mn-Ga-Co薄膜性能的影响
张馨
张敏刚
郭艳萍
孙娜
宫长伟
陈峰华
《山西冶金》
CAS
2015
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