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傅里叶变换高光谱Mueller矩阵成像理论与方法
被引量：
10
1
作者
刘杰
李建欣
+3 位作者
柏财勋
许逸轩
钱佳敏
王宇博
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第7期82-91,共10页
提出了一种高光谱Mueller矩阵成像(HMMI)方法,实现了空间、光谱和Mueller矩阵图像的同步一体化获取。详细讨论了高光谱Mueller矩阵成像的原理以及双折射干涉器剪切干涉成像过程,对偏振态发生器/偏振态分析器进行了联合优化设计,给出了...
提出了一种高光谱Mueller矩阵成像(HMMI)方法,实现了空间、光谱和Mueller矩阵图像的同步一体化获取。详细讨论了高光谱Mueller矩阵成像的原理以及双折射干涉器剪切干涉成像过程,对偏振态发生器/偏振态分析器进行了联合优化设计,给出了系统的定标方法。为验证仪器的性能,在实验室对目标进行光谱Mueller矩阵成像,证明了利用所提方法快速获取光谱图像和Mueller矩阵图像的可行性。所提方法具有光谱分辨率高、偏振调制快等优点,为光谱Mueller矩阵成像的发展提供了一种新的思路。
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关键词
成像
系统
mueller
矩阵
成像
傅里叶变换
成像
光谱仪
液晶
双折射
原文传递
Mueller矩阵成像偏振仪的误差标定和补偿研究
被引量：
5
2
作者
李建慧
郑猛
+1 位作者
张雪冰
李艳秋
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2016年第2期111-117,共7页
Mueller矩阵成像偏振仪是测量材料和器件偏振特性的重要仪器,也是测量浸没光刻机偏振像差的检测仪器,该偏振仪由偏振态产生器和偏振态分析器组成。其组成中的λ/4波片相位延迟量误差及其快轴方位角误差与偏振片透光轴的方位角误差是影响...
Mueller矩阵成像偏振仪是测量材料和器件偏振特性的重要仪器,也是测量浸没光刻机偏振像差的检测仪器,该偏振仪由偏振态产生器和偏振态分析器组成。其组成中的λ/4波片相位延迟量误差及其快轴方位角误差与偏振片透光轴的方位角误差是影响Mueller矩阵成像偏振仪测量精度的主要误差源。通过对本课题组研制的Mueller矩阵成像偏振仪中5个主要误差因素进行标定和补偿,显著提高了其测量精度。利用傅里叶分析法获得各项傅里叶系数,并根据各个误差与傅里叶系数的关系,实现了这些误差的标定,即达到对Mueller矩阵成像偏振仪误差标定的目的。根据标定出的误差大小对Mueller矩阵成像偏振仪进行了补偿。实验结果表明,通过对器件参数误差标定和补偿,Mueller矩阵成像偏振仪的测量精度由0.2015提高到0.1051,提高了47.84%。最后用该Mueller矩阵成像偏振仪对一个物镜系统的偏振像差进行了测量,重复测量精度达到了1.1%。
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关键词
测量
mueller
矩阵
成像
偏振仪
标定
旋转波片法
傅里叶分析法
原文传递
基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量
被引量：
5
3
作者
陈修国
袁奎
+4 位作者
杜卫超
陈军
江浩
张传维
刘世元
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第7期69-79,共11页
为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学...
为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径.
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关键词
纳米结构
纳米测量
光学散射测量
mueller
矩阵
成像
椭偏仪
下载PDF
职称材料
题名
傅里叶变换高光谱Mueller矩阵成像理论与方法
被引量：
10
1
作者
刘杰
李建欣
柏财勋
许逸轩
钱佳敏
王宇博
机构
南京理工大学电子工程与光电技术学院
中国科学院西安光学精密机械研究所中科院光谱成像技术重点实验室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第7期82-91,共10页
基金
国家自然科学基金(61975079,61475072)。
文摘
提出了一种高光谱Mueller矩阵成像(HMMI)方法,实现了空间、光谱和Mueller矩阵图像的同步一体化获取。详细讨论了高光谱Mueller矩阵成像的原理以及双折射干涉器剪切干涉成像过程,对偏振态发生器/偏振态分析器进行了联合优化设计,给出了系统的定标方法。为验证仪器的性能,在实验室对目标进行光谱Mueller矩阵成像,证明了利用所提方法快速获取光谱图像和Mueller矩阵图像的可行性。所提方法具有光谱分辨率高、偏振调制快等优点,为光谱Mueller矩阵成像的发展提供了一种新的思路。
关键词
成像
系统
mueller
矩阵
成像
傅里叶变换
成像
光谱仪
液晶
双折射
Keywords
imaging systems
mueller
matrix imaging
Fourier transform imaging spectrometer
liquid crystal
birefringence
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
Mueller矩阵成像偏振仪的误差标定和补偿研究
被引量：
5
2
作者
李建慧
郑猛
张雪冰
李艳秋
机构
北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2016年第2期111-117,共7页
基金
国家自然科学基金重点项目(60938003)
国家科技重大专项
北京高等学校青年英才计划
文摘
Mueller矩阵成像偏振仪是测量材料和器件偏振特性的重要仪器,也是测量浸没光刻机偏振像差的检测仪器,该偏振仪由偏振态产生器和偏振态分析器组成。其组成中的λ/4波片相位延迟量误差及其快轴方位角误差与偏振片透光轴的方位角误差是影响Mueller矩阵成像偏振仪测量精度的主要误差源。通过对本课题组研制的Mueller矩阵成像偏振仪中5个主要误差因素进行标定和补偿,显著提高了其测量精度。利用傅里叶分析法获得各项傅里叶系数,并根据各个误差与傅里叶系数的关系,实现了这些误差的标定,即达到对Mueller矩阵成像偏振仪误差标定的目的。根据标定出的误差大小对Mueller矩阵成像偏振仪进行了补偿。实验结果表明,通过对器件参数误差标定和补偿,Mueller矩阵成像偏振仪的测量精度由0.2015提高到0.1051,提高了47.84%。最后用该Mueller矩阵成像偏振仪对一个物镜系统的偏振像差进行了测量,重复测量精度达到了1.1%。
关键词
测量
mueller
矩阵
成像
偏振仪
标定
旋转波片法
傅里叶分析法
Keywords
measurement
mueller
matrix imaging polarimeter
calibration
rotating quarter-wave plate method
Fourier analysis method
分类号
O436.3 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量
被引量：
5
3
作者
陈修国
袁奎
杜卫超
陈军
江浩
张传维
刘世元
机构
华中科技大学
武汉颐光科技有限公司
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第7期69-79,共11页
基金
国家自然科学基金(批准号:51475191,51405172)
国家重大科学仪器设备开发专项(批准号:2011YQ160002)
+2 种基金
中国博士后科学基金(批准号:2014M560607,2015T80791)
湖北省自然科学基金(批准号:2015CFB278)
教育部长江学者与创新团队发展计划(批准号:IRT13017)资助的课题~~
文摘
为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径.
关键词
纳米结构
纳米测量
光学散射测量
mueller
矩阵
成像
椭偏仪
Keywords
nanostructure
nanometrology
optical scatterometry
mueller
matrix imaging ellipsometry
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
TH74 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
傅里叶变换高光谱Mueller矩阵成像理论与方法
刘杰
李建欣
柏财勋
许逸轩
钱佳敏
王宇博
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
10
原文传递
2
Mueller矩阵成像偏振仪的误差标定和补偿研究
李建慧
郑猛
张雪冰
李艳秋
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2016
5
原文传递
3
基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量
陈修国
袁奎
杜卫超
陈军
江浩
张传维
刘世元
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
5
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职称材料
已选择
0
条
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引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
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