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InGaAs/GaAs应变量子阱激光器MOCVD生长研究 被引量:8
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作者 刘安平 段利华 周勇 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期163-165,共3页
采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱(QW),通过降低生长温度、提高生长速度以及采用应变缓冲层(SBL)结构,改善了应变QW生长表面质量和器件荧光(PL)谱特性,实验表明,通过优化工艺条件和采用SBL等手段提高... 采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱(QW),通过降低生长温度、提高生长速度以及采用应变缓冲层(SBL)结构,改善了应变QW生长表面质量和器件荧光(PL)谱特性,实验表明,通过优化工艺条件和采用SBL等手段提高了应变QW质量。生长的QW结构用于1054 nm激光器的制作,经测试,器件具有较低的阈值电流和较高的单面斜率效率,性能较好。 展开更多
关键词 金属有机物化学气相淀积(mocvd) InGaAs/GaAs量子阱(QW) 应变缓冲层(SBL)
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不同Mo层厚度的AlN/Mo/Sc_(0.2)Al_(0.8)N复合结构上MOCVD外延GaN 被引量:2
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作者 李嘉豪 韩军 +6 位作者 邢艳辉 董晟园 王冰辉 任建华 曾中明 张宝顺 邓旭光 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期1077-1084,共8页
采用脉冲直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了AlN/Mo/Sc_(0.2)Al_(0.8)N复合结构薄膜,在该结构上通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术进行GaN薄膜的外延。使用原子力显微镜、高分辨X射线衍射、粉末X射线衍射、扫描电子显微镜和拉曼光... 采用脉冲直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了AlN/Mo/Sc_(0.2)Al_(0.8)N复合结构薄膜,在该结构上通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术进行GaN薄膜的外延。使用原子力显微镜、高分辨X射线衍射、粉末X射线衍射、扫描电子显微镜和拉曼光谱研究了Mo插入层的厚度对Sc_(0.2)Al_(0.8)N缓冲层和GaN外延层晶体质量的影响,研究了Sc_(0.2)Al_(0.8)N缓冲层对Mo上生长的GaN外延层的影响。研究结果表明,Mo插入层的厚度是影响Sc_(0.2)Al_(0.8)N缓冲层和GaN外延层的重要因素,Sc_(0.2)Al_(0.8)N缓冲层对Mo上GaN晶体质量的提高具有重要意义。随Mo厚度的增加,Sc_(0.2)Al_(0.8)N缓冲层的表面粗糙度先减小后增大,GaN外延层的(002)面X射线衍射摇摆曲线半峰全宽先减小后增大。当Mo插入层厚度为400 nm时,GaN外延层的晶体质量最好,GaN(002)面的X射线衍射摇摆曲线半峰全宽为0.51°,由拉曼光谱计算得到的压应力483.09 MPa;直接在Mo上进行GaN的外延,GaN(002)面的X射线衍射摇摆曲线半峰全宽无法测得,说明在Mo上进行GaN的外延需要Sc_(0.2)Al_(0.8)N缓冲层。 展开更多
关键词 GAN 金属有机化学气相沉积(mocvd) ScAlN X射线衍射
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MOCVD生长的中红外高功率量子级联激光器
3
作者 杨鹏昌 李曼 +4 位作者 孙永强 程凤敏 翟慎强 刘峰奇 张锦川 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期794-799,共6页
量子级联激光器(QCL)是中远红外波段的优质光源,具有体积小、重量轻、电光转化效率高等诸多优势,在传感、通信和国防等领域有重要的应用前景。金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术作为更高效的外延方式,应发展适用于QCL的MOCVD外延生长... 量子级联激光器(QCL)是中远红外波段的优质光源,具有体积小、重量轻、电光转化效率高等诸多优势,在传感、通信和国防等领域有重要的应用前景。金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术作为更高效的外延方式,应发展适用于QCL的MOCVD外延生长技术以满足快速增长的市场需求。本文报道了全结构由MOCVD技术外延的QCL,通过将传统的“双声子共振”有源区结构修订为“单声子共振结合连续态抽取”结构,减少了电子的热逃逸,改善了器件的温度特性。针对该结构,进一步改变了有源区的掺杂浓度,并对比了不同掺杂浓度对器件性能的影响。腔长8 mm、平均脊宽约6.7μm的较高掺杂有源区器件在20℃下连续输出功率达3.43 W,中心波长约4.6μm,电光转化效率达13.1%;8 mm腔长的较低掺杂有源区器件在20℃下连续输出功率达2.73 W,中心波长约4.5μm,阈值电流仅0.56 A,峰值电光转化效率达15.6%。器件的输出功率和电光转化效率较之前文献报道的MOCVD制备的QCL有明显提高。该结果表明,MOCVD完全具备生长高功率QCL的能力,这对推动QCL的技术进步具有重要意义。 展开更多
关键词 量子级联激光器 中红外 高功率 金属有机物化学气相沉积
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AlN成核层厚度对Si上外延GaN的影响 被引量:5
4
作者 邓旭光 韩军 +5 位作者 邢艳辉 汪加兴 范亚明 陈翔 李影智 朱建军 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期1338-1343,共6页
采用低温AlN成核层,在Si(111)衬底上,用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长了GaN薄膜。采用高分辨X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜(AFM)研究了AlN成核层的厚度对GaN外延层的影响。对AlN的测试表明,AlN的表面粗糙度(RMS)... 采用低温AlN成核层,在Si(111)衬底上,用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长了GaN薄膜。采用高分辨X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜(AFM)研究了AlN成核层的厚度对GaN外延层的影响。对AlN的测试表明,AlN的表面粗糙度(RMS)随着厚度增加而变大。对GaN的测试表明,所有GaN样品在垂直方向处于压应变状态,并且随AlN厚度增加而略有减弱。GaN的(0002)_ω扫描的峰值半宽(FWHM)随着AlN成核层厚度增加而略有升高,GaN(10-12)_ω扫描的FWHM随着厚度增加而有所下降。(10-12)_ω扫描的FWHM与GaN的刃型穿透位错密度相关,A1N成核层的厚度较大时会降低刃型穿透位错密度,并减弱c轴方向的压应变状态。 展开更多
关键词 GAN AlN成核层 SI衬底 金属有机化合物气相沉积(mocvd)
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976nm高效率半导体激光器 被引量:5
5
作者 安振峰 林琳 +4 位作者 徐会武 陈宏泰 车相辉 王晶 位永平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期345-347,共3页
976 nm高效率半导体激光器是这几年研究的热点,在固体激光器泵浦领域有广阔的应用。通过优化半导体激光器材料外延结构中包覆层和波导层的铝组分,降低了工作电压;通过采用微通道水冷系统,并进行优化降低了热阻,从而提高了室温下的电光... 976 nm高效率半导体激光器是这几年研究的热点,在固体激光器泵浦领域有广阔的应用。通过优化半导体激光器材料外延结构中包覆层和波导层的铝组分,降低了工作电压;通过采用微通道水冷系统,并进行优化降低了热阻,从而提高了室温下的电光转换效率。25℃室温连续测试条件下,1 cm的线阵列(巴条),2 mm腔长,50%填充因子,在110 A下,出光功率为114.2 W,电压为1.46 V,电光转换效率为71%。15条微通道封装成的垂直叠阵,进行光束整形后,获得了室温976 nm连续输出功率1 500 W,电光转换效率大于70%。 展开更多
关键词 高效率 半导体激光器 976nm 金属有机化合物化学气相淀积(mocvd) 线阵列
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高应变InGaAs/GaAs多量子阱中的局域态问题 被引量:1
6
作者 王曲惠 王海珠 +1 位作者 王骄 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第4期627-633,共7页
针对高应变InGaAs/GaAs多量子阱中存在的局域态问题,利用金属有机化合物气相外延(MOCVD)技术,设计并生长了五周期的In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs高应变多量子阱材料。通过原子力显微镜(Atomic force microscope,AFM)和变温光致发光(Photolum... 针对高应变InGaAs/GaAs多量子阱中存在的局域态问题,利用金属有机化合物气相外延(MOCVD)技术,设计并生长了五周期的In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs高应变多量子阱材料。通过原子力显微镜(Atomic force microscope,AFM)和变温光致发光(Photoluminescence,PL)测试,发现量子阱内部存在缺陷及组分波动的材料无序性表现,验证了多量子阱内部局域态的存在及起源。同时发现在不同测试位置,局域态在低温下对光谱的影响也不同,分别表现为双峰分布和峰位“S”型变化。这进一步说明材料内部无序化程度不同,导致局域态的深度也不同。依据温度-带隙关系的拟合,提出了包含局域态的多量子阱材料的电势分布,并揭示了局域态载流子和自由载流子的复合机制。并且借助变功率PL测试,研究了在不同激发功率密度下不同深度的局域态的发光特性。 展开更多
关键词 InGaAs/GaAs多量子阱 局域态 高应变 金属有机化合物气相外延(mocvd)
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低温缓冲层对氧化锌薄膜质量的影响 被引量:4
7
作者 石增良 刘大力 +3 位作者 闫小龙 高忠民 徐经纬 白石英 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期124-128,共5页
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法,在Si衬底上外延生长ZnO薄膜。为了改善氧化锌薄膜的质量,首先在Si衬底上生长低温ZnO缓冲层,然后再生长高质量的ZnO薄膜。通过XRD、SEM、光致发光(PL)光谱的实验研究,发现低温ZnO缓冲层可有效降低ZnO... 利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法,在Si衬底上外延生长ZnO薄膜。为了改善氧化锌薄膜的质量,首先在Si衬底上生长低温ZnO缓冲层,然后再生长高质量的ZnO薄膜。通过XRD、SEM、光致发光(PL)光谱的实验研究,发现低温ZnO缓冲层可有效降低ZnO薄膜和Si衬底之间的晶格失配以及因热膨胀系数不同引起的晶格畸变。利用低温缓冲层生长的ZnO薄膜的(002)面衍射峰的强度要比直接在Si上生长的ZnO薄膜样品的高,并且衍射峰的半高宽也由0.21°减小到0.18°,同时有低温缓冲层的样品室温下的光致发光峰也有了明显的增高。这说明利用低温缓冲层生长的ZnO薄膜的结晶质量和光学性质都得到了明显改善。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 mocvd 低温缓冲层 XRD SEM
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表面粗化高空穴浓度InGaN:Mg性能及其发光二极管应用 被引量:4
8
作者 邢艳辉 韩军 +3 位作者 邓军 李建军 徐晨 沈光地 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期666-668,672,共4页
利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN:Mg薄膜,对不同源流量In-GaN:Mg材料特性进行了研究。光学和电学特性观测表明,当外延生长温度在760℃,三甲基铟(TMIn)摩尔流量不变时,随CP2Mg和Ⅲ族源摩尔比([CP2Mg]/[... 利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN:Mg薄膜,对不同源流量In-GaN:Mg材料特性进行了研究。光学和电学特性观测表明,当外延生长温度在760℃,三甲基铟(TMIn)摩尔流量不变时,随CP2Mg和Ⅲ族源摩尔比([CP2Mg]/[Ⅲ])增加,当In摩尔成分增加,空穴浓度也线性增加;当[CP2Mg]/[Ⅲ]比为1.12×10-3时获得4.78×1019cm-3高空穴浓度。通过原子力显微镜(AFM)观察到粗化的表面,采用InGaN:Mg薄膜作为接触层制备的发光二极管(LED)比常规LED的电荧光强度提高28%。 展开更多
关键词 Mg掺杂InGaN 金属有机物化学气相淀积(mocvd) 原子力显微镜(AFM) 发光二极管(LED)
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外延在蓝宝石衬底上的非掺杂GaN研究 被引量:4
9
作者 李影智 邢艳辉 +3 位作者 韩军 陈翔 邓旭光 徐晨 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期1084-1088,共5页
采用改变生长条件的方法制备GaN薄膜,在(0001)面蓝宝石衬底上利用金属有机物化学气相沉积技术制备了不同样品,并借助X射线双晶衍射仪(XRD)、PL谱测试仪和光学显微镜对材料进行了分析。XRD(0002)面和(1012)面测试均表明TMGa流量为70 cm3/... 采用改变生长条件的方法制备GaN薄膜,在(0001)面蓝宝石衬底上利用金属有机物化学气相沉积技术制备了不同样品,并借助X射线双晶衍射仪(XRD)、PL谱测试仪和光学显微镜对材料进行了分析。XRD(0002)面和(1012)面测试均表明TMGa流量为70 cm3/min时样品位错密度最低。利用该TMGa流量进一步制备了改变生长温度的样品。XRD和PL谱测试结果表明,提高生长温度有利于提高GaN样品的晶体质量和光学性能。最后,利用光学显微镜对样品的表面形貌进行了分析。 展开更多
关键词 金属有机物化学气相沉积(mocvd) 非掺杂氮化镓(GaN) X射线双晶衍射(DCXRD) 光致荧光(PL)光谱
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Synthesis,characterization,and thermostability of bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)copper(Ⅱ) 被引量:3
10
作者 ZHANG Teng,GU Hongwei,DING Fazhu,QU Fei,and DAI Shaotao Key Laboratory of Applied Superconductivity,Institute of Electrical Engineering,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100190,China 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第4期343-349,共7页
Owing to the adaptability to large scale processing,excellent composition control and film uniformity,the metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD) technique is a promising process for high-temperature supercon... Owing to the adaptability to large scale processing,excellent composition control and film uniformity,the metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD) technique is a promising process for high-temperature superconductor YBa;Cu;O;(YBCO) preparation.In this technique,the evaporation characteristics and thermostability of adopted precursors in whole process will decide the quality and reproducible results of YBCO film.In the present report,bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)copper(II)(Cu(TMHD);) was synthesized by the interaction of copper acetate hydrate with TMHD in methanol solution,and its structure was identified by FTIR,1 H NMR,and EI-MS spectroscopy.Subsequently,thermal property and the kinetics of decomposition were systematically investigated by nonisothermal thermogravimetric analysis methods(TGA) at different heating rates in streams of N;,and the average apparent activation energy of evaporation process was evaluated by the Ozawa,Kissinger,and Friedman methods.The possible conversion function was estimated through the Coats-Redfern method to characterize the evaporation patterns and followed a phase boundary reaction mechanism by the contracting area equation with average activation energy of 85.1 kJ·mol;. 展开更多
关键词 Cu(TMHD)_2 metal-organic chemical vapor deposition(mocvd) SYNTHESIS thermostability
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双波长InGaN/GaN多量子阱发光二极管的光电特性 被引量:3
11
作者 陈献文 吴乾 +4 位作者 李述体 郑树文 何苗 范广涵 章勇 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期190-193,共4页
为了实现高显色指数和流明效率的白光发光二极管,在(0001)蓝宝石衬底上利用金属有机化学气相沉积系统,生长了双波长发射的InGaN/GaN多量子阱发光二极管结构.通过对不同In组分含量的双波长发射发光二极管结构的光致发光和电致发光性能进... 为了实现高显色指数和流明效率的白光发光二极管,在(0001)蓝宝石衬底上利用金属有机化学气相沉积系统,生长了双波长发射的InGaN/GaN多量子阱发光二极管结构.通过对不同In组分含量的双波长发射发光二极管结构的光致发光和电致发光性能进行分析,结果表明In组分含量对双波长发射发光二极管的光致发光谱的稳定性及发光效率有重要影响.此外,用双蓝光发射的芯片来激发YAG:Ce荧光粉实现了高显色指数白光发射. 展开更多
关键词 INGAN/GAN多量子阱 双波长 发光二极管 金属有机化学气相沉积
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高厚度n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜的MOCVD制备 被引量:1
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作者 李政达 焦腾 +2 位作者 董鑫 刁肇悌 陈威 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第4期545-551,共7页
高厚度的Ga_(2)O_(3)薄膜能够提高器件的击穿电压,这种高厚度Ga_(2)O_(3)薄膜往往是通过HVPE法制备的。然而HVPE法存在着成本高、设备少等缺点。本文通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,以SiH_(4)为n型掺杂源,在Ga_(2)O_(3)衬底上生... 高厚度的Ga_(2)O_(3)薄膜能够提高器件的击穿电压,这种高厚度Ga_(2)O_(3)薄膜往往是通过HVPE法制备的。然而HVPE法存在着成本高、设备少等缺点。本文通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,以SiH_(4)为n型掺杂源,在Ga_(2)O_(3)衬底上生长了高厚度的n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜,并且研究了SiH_(4)流量对β-Ga_(2)O_(3)性质的影响。实验中制备的β-Ga_(2)O_(3)薄膜厚度达到4.15μm。薄膜的晶体质量高,表面致密光滑且呈现台阶流生长模式。随着SiH_(4)流量增加,晶体质量逐渐降低,电子浓度显著增加,电子迁移率降低。目前,高厚度β-Ga_(2)O_(3)薄膜的电子浓度可以在3.6×10^(16)~5.3×10^(18) cm^(-3)范围内调控;当薄膜电子浓度为3.6×10^(16) cm^(-3)时,其电子迁移率可达137 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)。本文论证了MOCVD工艺进行高厚度n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜生长的可行性,这也为β-Ga_(2)O_(3)基垂直结构功率器件的制备提供了一种新途径。 展开更多
关键词 氧化镓 金属有机化学气相沉积(mocvd) 高厚度薄膜
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Hetero-epitaxy of L_g= 0.13-μm metamorphic AlInAs/GaInAs HEMT on Si substrates by MOCVD for logic applications 被引量:1
13
作者 黄杰 黎明 +2 位作者 赵倩 顾雯雯 刘纪美 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第8期529-533,共5页
In this work, a hetero-epitaxial Al0.49In0.51As/Ga0.47In0.53 As metamorphic high electron mobility transistor(mHEMT) grown by metal–organic chemical vapor deposition(MOCVD) on p-type silicon substrate has been succes... In this work, a hetero-epitaxial Al0.49In0.51As/Ga0.47In0.53 As metamorphic high electron mobility transistor(mHEMT) grown by metal–organic chemical vapor deposition(MOCVD) on p-type silicon substrate has been successfully demonstrated. A novel AlGaAs/Al As period multiple quantum well(MQW) composite buffer scheme is developed to effectively tune the leakage current from the buffer layer. The quantized room-temperature Hall mobility of the twodimensional electron gas(2DEG) is larger than 7800 cm2/V·s, with an average sheet carrier density of 4.6×1012cm-2.Two-stage electron beam(EB) lithography technology by a JBX-6300 e-beam lithography system is developed to realize a 0.13-μm m HEMT device on Si substrate. A maximum transconductance Gm of up to 854 mS/mm is achieved, and is comparable to that of m HEMT technology on Ga As substrate with the same dimension. The fTand fmax are 135 GHz and120 GHz, respectively. 展开更多
关键词 AlInAs/GaInAs silicon metamorphic high electron mobility transistor(mHEMT) metal-organic chemical vapor deposition(mocvd) multip
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成核层温度对非掺杂GaN外延薄膜结晶质量的影响 被引量:2
14
作者 孙成真 贾志刚 +4 位作者 尚林 孙佩 余春燕 张华 李天保 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期2123-2129,共7页
利用金属有机化学气相沉积系统(MOCVD),在蓝宝石的(0001)面采用不同的成核层生长温度,通过两步法获得不同质量的Ga N外延薄膜。利用HALL测试仪,高分辨X射线衍射仪(HRXRD),原子力显微镜(AFM)和光致发光光谱仪(PL)对Ga N薄膜的表面形貌,... 利用金属有机化学气相沉积系统(MOCVD),在蓝宝石的(0001)面采用不同的成核层生长温度,通过两步法获得不同质量的Ga N外延薄膜。利用HALL测试仪,高分辨X射线衍射仪(HRXRD),原子力显微镜(AFM)和光致发光光谱仪(PL)对Ga N薄膜的表面形貌,位错密度,光学性能等进行表征,研究不同的成核温度对Ga N外延薄膜晶体质量的影响。结果表明,在成核层生长温度为650℃时,所得到的Ga N外延薄膜表面粗糙度和位错密度均达到最低,并且同时具有最高的带边发光峰强度,最高的载流子迁移率以及最低的载流子浓度。过低或过高的成核温度都会导致Ga N外延层的晶体质量和光电性能变差。 展开更多
关键词 GAN 金属有机化学气相沉积 成核层 生长温度
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MOCVD生长源流量对p型GaN薄膜特性影响的研究 被引量:1
15
作者 韩军 冯雷 +3 位作者 邢艳辉 邓军 徐晨 沈光地 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期708-711,共4页
利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长p型GaN:Mg薄膜,对不同二茂镁(CP2Mg)流量和Ⅴ族和Ⅲ族摩尔(Ⅴ/Ⅲ)比生长的p型GaN:Mg薄膜特性进行研究。研究表明,增加Ⅴ/Ⅲ比,可以降低螺旋位错密度,提高p型GaN晶体质量。当Ⅴ... 利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长p型GaN:Mg薄膜,对不同二茂镁(CP2Mg)流量和Ⅴ族和Ⅲ族摩尔(Ⅴ/Ⅲ)比生长的p型GaN:Mg薄膜特性进行研究。研究表明,增加Ⅴ/Ⅲ比,可以降低螺旋位错密度,提高p型GaN晶体质量。当Ⅴ/Ⅲ比为3 800时,Cp2Mg流量最高为170sccm,获得p型GaN(002)面峰值半高宽(FWHM)最窄为232"。同时研究发现,单纯提高Ⅴ/Ⅲ比对降低刃型位错影响较不明显。 展开更多
关键词 金属有机物气相淀积(mocvd) p型氮化镓(CaN) X射线双晶衍射(DCXRD) 原子力显微镜(AFM)
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Synthesis, characterization and thermostability of tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5- heptanedionato)yttrium(Ⅲ)
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作者 张腾 古宏伟 +2 位作者 丁发柱 屈飞 戴少涛 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第10期1041-1047,共7页
The metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) technique is a promising process for high temperature superconductor YBa2Cu3O7-δ (YBCO) preparation. In this technique, the purity, evaporation characteristics ... The metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) technique is a promising process for high temperature superconductor YBa2Cu3O7-δ (YBCO) preparation. In this technique, the purity, evaporation characteristics and thermostability of adopted precursors will de- cide the quality and reproducible results of YBCO film. In the present report, tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)yttrium(III) (Y(TMHD)3) was synthesized by the interaction of yttrium nitrate hydrate with TMHD in methanol solution, and its structure was identified by FTIR, 1H NMR, 13C NMR and EI-MS spectroscopy. Subsequently, the thermal property and the kinetics of decomposition were system- atically investigated by non-isothermal thermogravimetric analysis methods (TGA) at different heating rates in streams of N2, and the average apparent activation energy of evaporation process was evaluated by the Ozawa, Kissinger and Friedman methods. The possible conversion function was estimated through the Coats-Redfern method to characterize the evaporation patterns and followed a phase boundary reaction mechanism by the contracting area equation with average activation energy of 88.9 kJ/mol. 展开更多
关键词 Y(TMHD)3 metal-organic chemical vapor deposition mocvd SYNTHESIS thermostability rare earths
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Enhancement of InGaN-Based Light Emitting Diodes Performance Grown on Cone-Shaped Pattern Sapphire Substrates
17
作者 Huanyou Wang Yalan Li Penghua Zhang 《Journal of Materials Science and Chemical Engineering》 2014年第7期53-58,共6页
To enhance light extraction effciency, high-quality InGaN-based light emitting diodes (LED) was grown on cone-shaped patterned sapphire (CPSS) by using metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). From the transmi... To enhance light extraction effciency, high-quality InGaN-based light emitting diodes (LED) was grown on cone-shaped patterned sapphire (CPSS) by using metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). From the transmission electron microscopy (TEM) observation, the CPSS was confirmed to be an efficient way to reduce the threading dislocation density in the GaN epilayer. A sharp and high intensity Photoluminescence (PL) for LED on CPSS at 457 nm compared to LED on unpattern planar sapphire substrates (USS) indicates that the crystalline quality was improved significantly and the internal reflection on the cones of the substrate was enhanced. The output power of the LED on CPSS is higher than that of LED on USS. The achieved improvement of the output power is not only due to the improvement of the internal quantum efficiency upon decreasing the dislocation density, but also due to the enhancement of the extraction efficiency using the CPSS. 展开更多
关键词 metal-organic chemical vapor deposition (mocvd) Patterned SAPPHIRE Substrate Optical Emission Lateral Growth
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Four-junction AlGaAs/GaAs laser power converter
18
作者 Jie Huang Yurun Sun +7 位作者 Yongming Zhao Shuzhen Yu Jianrong Dong Jiping Xue Chi Xue Jin Wang Yunqing Lu Yanwen Ding 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2018年第4期44-48,共5页
Four-junction A1GaAs/GaAs laser power converters (LPCs) with n+-GaAs/p+-A10.37Ga0.63As hetero- structure tunnel junctions (TJs) have been designed and grown by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) f... Four-junction A1GaAs/GaAs laser power converters (LPCs) with n+-GaAs/p+-A10.37Ga0.63As hetero- structure tunnel junctions (TJs) have been designed and grown by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) for converting the power of 808 nm lasers. A maximum conversion efficiency ηc of 56.9% + 4% is obtained for cells with an aperture of 3.14 mm2 at an input laser power of 0.2 W, while dropping to 43.3% at 1.5 W. Measured current-voltage (I-V) characteristics indicate that the performance of the LPC can be further improved by increasing the tunneling current density of TJs and optimizing the thicknesses of sub-cells to achieve current matching in LPC. 展开更多
关键词 laser power converters (LPCs) metal-organic chemical vapor deposition mocvd GAAS
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Photoluminescence Properties of Two-dimensional Planar Layer and Three-dimensional Island Layer for ZnO Films Grown Using MOCVD
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作者 HUANG Ke-ke HOU Chang-min +5 位作者 GAO Zhong-min LI Xiang-shan FENG Shou-hua ZHANG Yuan-tao ZHU Hui-chao DU Guo-tong 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2006年第6期692-695,共4页
ZnO(002) films with different thicknesses ranging from 7 to 300 nm were grown on sapphire(006) substrates via metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD). The two-dimensional(2D) planar layer and the three... ZnO(002) films with different thicknesses ranging from 7 to 300 nm were grown on sapphire(006) substrates via metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD). The two-dimensional(2D) planar layer and the three-dimensional(3D) island layer were studied by using of X-ray diffraction(XRD) rocking curves and atomic force microscopy (AFM). The room temperature photoluminescence (PL) spectra show a blue shift of the peak positions of the uhraviolet(UV) emission with increasing film thickness. The blue shift is remarkably high(393-380 nm) when an increase in film thickness(7-15 nm) is accompanied by the change of structure from a 2D planar layer to a 3D island layer. The PL spectra at 77 K also indicate that there are different transition mechanisms in the film thickness from a 2D planar layer to a 3D island layer near the 2D layer region. 展开更多
关键词 ZnO films metal-organic chemical vapor depositionmocvd PHOTOLUMINESCENCE Planar layer Island layer
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Effects of Growth Conditions on the Microstructure Characteristics of CdS Thin Films by AP-MOCVD
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作者 Dong Dong Xiao-Bo Liu Jiang-Bo Li Cheng-Wei Shang Wen-Cheng Hu 《Journal of Electronic Science and Technology》 CAS 2010年第2期149-153,共5页
Growth of cadmium sulfide (CdS) thin films on glass substrates was carried out by atmospheric pressure metal-organic chemical vapor deposition (AP-MOCVD) using Cd(S2CNEt2)2 as the single precursor. Changes in th... Growth of cadmium sulfide (CdS) thin films on glass substrates was carried out by atmospheric pressure metal-organic chemical vapor deposition (AP-MOCVD) using Cd(S2CNEt2)2 as the single precursor. Changes in the surface morphology of the deposited CdS thin films were investigated by atomic force microscope (AFM) as the function of substrate temperature (Ts), vaporizing temperature (Tv), and Ar flow rate. With the increase of Tv, CdS thin films evolved from pyramidal structure with fine grains to columnar structure with large grains. X-ray diffraction (XRD) patterns indicated that the CdS films had random orientation at the lower Tv and preferred orientation at the higher Tv. In addition, Ts had a great effect on the surface roughness of the CdS films, and a quantum dot-like structural CdS films were obtained in a narrow range of Ts with high Ar flow rate. Furthermore, the optical properties of the CdS films were measured using ultraviolet-visible (UV/VIS) spectrometer. 展开更多
关键词 Index Terms---Atmospheric pressure cadmium sulfide (CdS) metal-organic chemical vapor deposition mocvd single precursor surface morphology.
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