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金刚石薄膜衬底表面不同预处理对薄膜表面形貌的影响 被引量：3
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作者 王丽军 王小平 李广庭 《微细加工技术》 1998年第2期18-23,共6页
用微波等离子体化学气相沉积（ＣＶＤ）设备，在经过不同粒度的ＳｉＣ研磨粉进行粗化预处理过的金属钼衬底上沉积出了表面形貌有较大差异的金刚石薄膜，分别用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、光学显微镜和Ｘ射线衍射谱（ＸＲＤ）以及Ｒａｍ... 用微波等离子体化学气相沉积（ＣＶＤ）设备，在经过不同粒度的ＳｉＣ研磨粉进行粗化预处理过的金属钼衬底上沉积出了表面形貌有较大差异的金刚石薄膜，分别用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、光学显微镜和Ｘ射线衍射谱（ＸＲＤ）以及Ｒａｍａｎ光谱对样品进行了分析测试，并研究了各样品的场致电子发射特性。结果发现：在我们的实验范围内，对钼衬底研磨预处理所用的ＳｉＣ研磨粉的粒度越大，其上沉积出的金刚石薄膜样品的表面越粗糙；而金刚石薄膜的表面越粗糙，其场致发射的效果也越好。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 研磨预处理 场致电子发射
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