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双硬盘模式下桌面云系统的应用 被引量：3
1
作者 罗婧娜 《信息与电脑》 2017年第12期71-72,共2页
高校机房引进了"固态硬盘+机械硬盘"双硬盘机器,基于此,笔者研究了固态硬盘和机械硬盘的性能,为解决机房双硬盘机器的系统部署的问题,采用桌面云管理系统来解决双硬盘中磁盘容量的分布问题,该措施效果良好,提高了机房资源的... 高校机房引进了"固态硬盘+机械硬盘"双硬盘机器,基于此,笔者研究了固态硬盘和机械硬盘的性能,为解决机房双硬盘机器的系统部署的问题,采用桌面云管理系统来解决双硬盘中磁盘容量的分布问题,该措施效果良好,提高了机房资源的利用率,希望为相关人士提供参考。 展开更多
关键词 双硬盘 固态硬盘 机械硬盘 桌面云系统 磁盘容量
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硬盘NiP基板的电化学机械抛光研究(英文) 被引量：4
2
作者 储向峰 白林山 陈同云 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期1906-1909,共4页
利用自制的抛光液和改造的抛光机对NiP基板进行电化学机械抛光,研究了抛光电压、抛光台转速、抛光压力和抛光液流速对材料去除速率的影响,对电化学机械抛光的机理做了初步的分析。研究结果表明,NiP基板可以用低压力(3.5kPa)抛光,材料的... 利用自制的抛光液和改造的抛光机对NiP基板进行电化学机械抛光,研究了抛光电压、抛光台转速、抛光压力和抛光液流速对材料去除速率的影响,对电化学机械抛光的机理做了初步的分析。研究结果表明,NiP基板可以用低压力(3.5kPa)抛光,材料的去除速率可以通过调整抛光电压,抛光台转速和抛光液流速进行控制。 展开更多
关键词 电化学机械抛光 硬盘 NIP
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机械硬盘的振动分析与隔振设计 被引量：2
3
作者 杨振龙 何永刚 鹿博 《企业技术开发》 2011年第4期14-15,共2页
文章针对特种加固计算机和军用计算机的工作条件及其自身结构特点,简要介绍了机械硬盘的振动分析及隔振设计原理,并以硅橡胶隔振器为实例介绍了隔振器的设计方法。
关键词 机械硬盘 振动分析 隔振器 传递率
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计算机硬盘基片的化学机械清洗技术研究 被引量：1
4
作者 雷红 司马能 +3 位作者 袁国兴 屠锡富 布乃敬 藏松涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第8期757-760,共4页
目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低。采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声清洗实验,结合一系列的表面微观分析,研究了盘片CMP后清洗过... 目前,CMP技术对计算机硬盘基片(盘片)进行抛光,盘片表面粗糙度达到原子级平整,抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP最终技术水平的高低。采用静态浸泡实验以及浸泡、擦洗、超声清洗实验,结合一系列的表面微观分析,研究了盘片CMP后清洗过程中的化学作用、机械作用以及清洗剂、清洗方式等物理化学要素对CMP后清洗效果的影响。结果表明,CMP后清洗是一种机械作用、化学作用等综合作用的过程。采用优化的清洗工艺及清洗剂,得到了低腐蚀、高洁净、平整的硬盘基片表面。 展开更多
关键词 化学机械抛光 化学机械清洗 硬盘基片 原子级平整 腐蚀
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一种机械硬盘加热电路的实现 被引量：1
5
作者 谭旭良 徐琥 《时代汽车》 2022年第6期122-124,共3页
本文设计了一种机械硬盘加热电路,可以实现机械硬盘低温正常运行,同时避免被过度加热,杜绝了因其它电路(检测、控制及开关)异常而导致加热部分持续加热引发烧毁设备甚至起火的现象。本文阐述了电路原理及电路实现,电路主要包括处理器部... 本文设计了一种机械硬盘加热电路,可以实现机械硬盘低温正常运行,同时避免被过度加热,杜绝了因其它电路(检测、控制及开关)异常而导致加热部分持续加热引发烧毁设备甚至起火的现象。本文阐述了电路原理及电路实现,电路主要包括处理器部分、温度感知部分、电源开关部分、加热部分。电路从温度感知到加热控制,实现了闭环。加热部分选用PTC自控温加热膜,具有高温自保护性能,加热不会超过设定的最高温度。 展开更多
关键词 机械硬盘 电源开关 加热膜 温度感知 自控温
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一种基于机械硬盘的坏扇区映射方法研究
6
作者 李攀 张蕊 《科技资讯》 2022年第7期1-3,共3页
该文提出了一种基于机械硬盘的坏扇区映射方法,包括如下步骤:系统启动后,坏扇区管理模块开始初始化;当硬盘上线完成后,系统先将IO请求的逻辑地址发送给坏扇区管理模块,由坏扇区管理模块转换为物理地址后进行是否命中坏扇区映射表、预测... 该文提出了一种基于机械硬盘的坏扇区映射方法,包括如下步骤:系统启动后,坏扇区管理模块开始初始化;当硬盘上线完成后,系统先将IO请求的逻辑地址发送给坏扇区管理模块,由坏扇区管理模块转换为物理地址后进行是否命中坏扇区映射表、预测坏扇区映射表的检测;然后由坏扇区管理模块依据检测结果决定是将映射后的物理地址还是真实的物理地址返给系统;系统按坏扇区管理模块返回的物理地址进行硬盘读写,如果读写成功,则IO结束;如果读写失败,则触发坏扇区管理模块执行坏扇区映射操作。该方法可有效避免系统因连续扇区损坏所导致的IO频繁报错和逻辑上连续但实际物理扇区却离散的问题,可极大提高系统的稳定性和性能。 展开更多
关键词 机械硬盘 坏扇区 系统 映射 IO报错 离线 性能
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超细氧化铝抛光液的制备及其抛光特性研究 被引量：13
7
作者 雷红 褚于良 +3 位作者 屠锡富 丘海能 方亮 罗桂海 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1425-1428,共4页
化学机械抛光(CMP)技术广泛用于表面的超精加工,抛光液是CMP技术中的关键要素。本文制备了一种超细Al2O3抛光液,采用激光粒度仪、扫描电镜等对其进行了表征。进而研究了其在镍磷敷镀的硬盘基片CMP中的抛光特性。结果表明抛光液中Al2O3... 化学机械抛光(CMP)技术广泛用于表面的超精加工,抛光液是CMP技术中的关键要素。本文制备了一种超细Al2O3抛光液,采用激光粒度仪、扫描电镜等对其进行了表征。进而研究了其在镍磷敷镀的硬盘基片CMP中的抛光特性。结果表明抛光液中Al2O3粒子用量、氧化剂用量均直接影响抛光后的表面质量及材料去除速率。借助对抛光后表面的原子力显微镜(AFM)、俄歇能谱以及X射线光电子能谱分析,对其CMP机理进行了推断。 展开更多
关键词 化学机械抛光(CMP) 硬盘基片 超细Al2O3粒子 抛光液
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氧化硅/氧化铁复合磨粒用于硬盘基片的抛光研究 被引量：3
8
作者 雷红 司马能 +3 位作者 屠锡富 布乃敬 严琼林 吴鑫 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期268-272,共5页
本文以HNO3、NaOH、Fe(NO3)3和SiO2浆料为原料,采用沉淀法制备了1种SiO2/Fe2O3复合磨粒,通过X射线衍射仪(XRD)、飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)和扫描电子显微镜(SEM)对其结构进行表征,结果表明Fe2O3包覆到SiO2的表面,复合粒子具有... 本文以HNO3、NaOH、Fe(NO3)3和SiO2浆料为原料,采用沉淀法制备了1种SiO2/Fe2O3复合磨粒,通过X射线衍射仪(XRD)、飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)和扫描电子显微镜(SEM)对其结构进行表征,结果表明Fe2O3包覆到SiO2的表面,复合粒子具有很好的分散性.用UNIPOL-1502抛光机研究了所制备复合磨粒在镍磷敷镀的硬盘基片中的抛光性能,抛光后硬盘基片的表面粗糙度Ra由抛光前的8.87nm降至3.73nm;抛光后表面形貌的显微镜观测结果表明新制备的复合磨粒表现出较好的抛光性能. 展开更多
关键词 化学机械抛光 SiO2/Fe2O3复合磨粒 硬盘基片
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硬盘驱动器冲击激励的头盘碰撞分析 被引量：5
9
作者 林大超 施惠基 +2 位作者 曾德斌 白春华 张奇 《爆炸与冲击》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期122-126,共5页
根据Winchester型硬盘驱动器在冲击载荷作用下头盘碰撞的动力学方程,利用数值模拟方法分析了在正弦半波激励条件下头盘系统的动力学响应过程。当头盘系统发生碰撞时,冲击激励峰值加速度与作用时间的倒数之间具有近似线性关系。随激励强... 根据Winchester型硬盘驱动器在冲击载荷作用下头盘碰撞的动力学方程,利用数值模拟方法分析了在正弦半波激励条件下头盘系统的动力学响应过程。当头盘系统发生碰撞时,冲击激励峰值加速度与作用时间的倒数之间具有近似线性关系。随激励强度和作用时间的变化,硬盘驱动器具有性能退化、盘面局部损坏和头盘系统结构破坏三种失效形式。磁头浮动块与磁盘盘面发生多次碰撞,碰撞位置可能在浮动块尾端,也可能在浮动块的前端。硬盘驱动器冲击失效的理论分析结果得到了爆炸冲击环境条件下试验现象的验证。 展开更多
关键词 固体力学 硬盘驱动器 冲击激励 头盘碰撞 瞬态响应 冲击失效
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