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MPCVD金刚石膜的品质对其在K-Ka波段微波介电性能的影响
1
作者
刘艳青
丁明辉
+2 位作者
苏静杰
李义峰
唐伟忠
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
2017年第4期32-36,共5页
针对MPCVD金刚石膜K-Ka波段(18～40 GHz)微波电子器件领域的应用需求,以及探索金刚石膜介电性能与品质之间的关系的需要,制备了5个金刚石膜样品,并建立了一套K波段分体圆柱谐振腔微波介电性能测试装置。使用Raman光谱表征金刚石膜质量,...
针对MPCVD金刚石膜K-Ka波段(18～40 GHz)微波电子器件领域的应用需求,以及探索金刚石膜介电性能与品质之间的关系的需要,制备了5个金刚石膜样品,并建立了一套K波段分体圆柱谐振腔微波介电性能测试装置。使用Raman光谱表征金刚石膜质量,采用K波段分体圆柱谐振腔测量金刚石膜的介电性能,并与Ka波段的结果进行比较。结果表明,不同品质的样品介电损耗在3.8×10^(-5)～76.8×10^(-5)范围内,且介电损耗与Raman半峰宽密切相关。同时,高品质金刚石膜K波段介电损耗高于Ka波段,而低品质的则呈现相反的结果。这是由于高品质金刚石膜介电损耗主要由导电性引起,而低品质金刚石膜内较高的缺陷密度导致单声子声学振动吸收和瑞利散射较大。
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关键词
mpcvd
金刚石
膜
拉曼光谱
品质
分体圆柱谐振腔
介电性能
K-Ka波段
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职称材料
高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状
被引量：
11
2
作者
唐伟忠
于盛旺
+3 位作者
范朋伟
李义锋
苏静杰
刘艳青
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2012年第8期33-39,共7页
金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高,同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好,因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内,美...
金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高,同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好,因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内,美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD法沉积高品质金刚石膜的技术。但在我国国内,高功率MPCVD装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍。首先综述国际上高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状,包括各种高功率MPCVD装置的特点。其后,回顾了我国金刚石膜MPCVD技术的发展历史,并介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术方面取得的新进展。
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关键词
mpcvd
金刚石
膜
沉积技术
高品质
金刚石
膜
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职称材料
题名
MPCVD金刚石膜的品质对其在K-Ka波段微波介电性能的影响
1
作者
刘艳青
丁明辉
苏静杰
李义峰
唐伟忠
机构
北京科技大学新材料技术研究院
清华大学微电子学研究所
河北省激光研究所
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
2017年第4期32-36,共5页
基金
国家磁约束核聚变能专项资助(No.2013GB110003)
文摘
针对MPCVD金刚石膜K-Ka波段(18～40 GHz)微波电子器件领域的应用需求,以及探索金刚石膜介电性能与品质之间的关系的需要,制备了5个金刚石膜样品,并建立了一套K波段分体圆柱谐振腔微波介电性能测试装置。使用Raman光谱表征金刚石膜质量,采用K波段分体圆柱谐振腔测量金刚石膜的介电性能,并与Ka波段的结果进行比较。结果表明,不同品质的样品介电损耗在3.8×10^(-5)～76.8×10^(-5)范围内,且介电损耗与Raman半峰宽密切相关。同时,高品质金刚石膜K波段介电损耗高于Ka波段,而低品质的则呈现相反的结果。这是由于高品质金刚石膜介电损耗主要由导电性引起,而低品质金刚石膜内较高的缺陷密度导致单声子声学振动吸收和瑞利散射较大。
关键词
mpcvd
金刚石
膜
拉曼光谱
品质
分体圆柱谐振腔
介电性能
K-Ka波段
Keywords
mpcvd
diamond films
Raman spectra
quality
split-cylinder resonator
dielectric property
K-Ka band
分类号
TQ174 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状
被引量：
11
2
作者
唐伟忠
于盛旺
范朋伟
李义锋
苏静杰
刘艳青
机构
北京科技大学材料科学与工程学院
出处
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2012年第8期33-39,共7页
基金
国家自然科学基金(10675017)
国际科技合作项目(2010DFR50130)
文摘
金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高,同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好,因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内,美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD法沉积高品质金刚石膜的技术。但在我国国内,高功率MPCVD装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍。首先综述国际上高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状,包括各种高功率MPCVD装置的特点。其后,回顾了我国金刚石膜MPCVD技术的发展历史,并介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术方面取得的新进展。
关键词
mpcvd
金刚石
膜
沉积技术
高品质
金刚石
膜
Keywords
high power
mpcvd
technique
high quality diamond films
分类号
TB79 [一般工业技术—真空技术]
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
MPCVD金刚石膜的品质对其在K-Ka波段微波介电性能的影响
刘艳青
丁明辉
苏静杰
李义峰
唐伟忠
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
2017
0
下载PDF
职称材料
2
高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状
唐伟忠
于盛旺
范朋伟
李义锋
苏静杰
刘艳青
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2012
11
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职称材料
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