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多输出端差动差分电流传送器的考尔滤波器 被引量:2
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作者 石文孝 王春悦 韩庆全 《吉林大学学报(信息科学版)》 CAS 2001年第2期10-14,共5页
应用一种新颖的多输出端差动差分电流传送器 (MDDCC)实现了连续时间电流模式跳耦结构的考尔滤波器 ,分析并模拟了所提出的滤波器的特性 ,仿真结果表明该电路方案正确有效 ,结构简单 ,适于全集成。
关键词 mos集成电路 有源滤波器 电流传送器 电流模式
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改进型多输出端差动差分电流传送器及其应用 被引量:2
2
作者 石文孝 韩庆全 《长春邮电学院学报》 2000年第4期1-5,共5页
提出了一种新颖的改进型多输出端差动差分电流传送器 ( MDDCC)及其 CMOS实现电路 ,用计算机仿真方法比较了 MDDCC和第二代电流传送器 ( CC )的特性 ;以 MDDCC构成了全差分式连续时间电流模式低通及带通滤波器 ,分析并模拟了所提出的滤... 提出了一种新颖的改进型多输出端差动差分电流传送器 ( MDDCC)及其 CMOS实现电路 ,用计算机仿真方法比较了 MDDCC和第二代电流传送器 ( CC )的特性 ;以 MDDCC构成了全差分式连续时间电流模式低通及带通滤波器 ,分析并模拟了所提出的滤波器的特性。仿真结果表明 ,MDDCC电路兼有差动差分放大器 ( DDA)和 CC 两者的优点 ,适于实现全集成连续时间滤波器。 展开更多
关键词 电流传送器 Cmos 差分 差动 带通滤波器
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Low threshold voltage light-emitting diode in silicon-based standard CMOS technology 被引量:2
3
作者 董赞 王伟 +3 位作者 黄北举 张旭 关宁 陈弘达 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第8期75-78,共4页
Low-voltage silicon (Si)-based light-emitting diode (LED) is designed based on the former research of LED in Si-based standard complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology. The low-voltage LED is de... Low-voltage silicon (Si)-based light-emitting diode (LED) is designed based on the former research of LED in Si-based standard complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology. The low-voltage LED is designed under the research of cross-finger structure LEDs and sophisticated structure enhanced LEDs for high efficiency and stable light source of monolithic chip integration. The device size of low-voltage LED is 45.85x38.4 (#m), threshold voltage is 2.2 V in common condition, and temperature is 27 ~C. The external quantum efficiency is about 10-6 at stable operating state of 5 V and 177 mA. 展开更多
关键词 Cmos integrated circuits Light emission Light sources Metallic compounds mos devices Quantum theory Semiconducting silicon Semiconducting silicon compounds Semiconductor diodes Threshold voltage
原文传递
神经网络高精度权值的模拟电路实现 被引量:2
4
作者 高丽娜 邱关源 《电子科学学刊》 EI CSCD 1993年第5期519-522,共4页
本文提出了一种电流模式4-bit可调权值模拟神经元电路,权值易存贮而且精度高。该电路可扩展为8-bit等多值分立权的神经元电路.文章扼要分析了神经元电路的工作原理,并用SPICE Ⅱ进行仿真,证明了这种电路的正确性。
关键词 神经网络 神经元 mos集成电路
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基于WDC结构的低静态功耗Cache设计
5
作者 鲁欣 付宇卓 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期606-609,613,共5页
基于片上cache占处理器芯片功耗的比重越来越大,提出了一种新的路衰减cache(Way-DecayCache,WDC)结构.该结构通过门控Gnd技术来动态地关闭或开启部分cache路,使得cache结构可以在低功耗配置和正常配置之间切换,从而达到降低静态功耗的目... 基于片上cache占处理器芯片功耗的比重越来越大,提出了一种新的路衰减cache(Way-DecayCache,WDC)结构.该结构通过门控Gnd技术来动态地关闭或开启部分cache路,使得cache结构可以在低功耗配置和正常配置之间切换,从而达到降低静态功耗的目的.与现有的低功耗cache结构相比,附加的逻辑少,实现简单,具有硬件的可实现性.试验结果表明,该结构可以降低cache的功耗,同时对cache整体的性能影响很小. 展开更多
关键词 路衰减cache 门控Gnd 低静态功耗
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Reverse current reduction of Ge photodiodes on Si without post-growth annealing 被引量:1
6
作者 Sungbong Park Shinya Takita +2 位作者 Yasuhiko Ishikawa Jiro Osaka Kazumi Wada 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第4期286-290,共5页
A new approach to reduce the reverse current of Ge pin photodiodes on Si is presented, in which an i-Si layer is inserted between Ge and top Si layers to reduce the electric field in the Ge layer. Without post- growth... A new approach to reduce the reverse current of Ge pin photodiodes on Si is presented, in which an i-Si layer is inserted between Ge and top Si layers to reduce the electric field in the Ge layer. Without post- growth annealing, the reverse current density is reduced to -10 mA/cm^2 at -1 V, i.e., over one order of magnitude lower than that of the reference photodiode without i-Si layer. However, the responsivity of the photodiodes is not severely compromised. This lowered-reverse-current is explained by band-pinning at the i-Si/i-Ge interface. Barrier lowering mechanism induced by E-field is also discussed. The presented "non-thermal" approach to reduce reverse current should accelerate electronics-photonics convergence by using Oe on the Si complementary metal oxide semiconductor (CMOS) platform. 展开更多
关键词 Cmos integrated circuits Electric fields GERMANIUM METALS mos devices Oxide semiconductors Photodiodes Silicon Silicon on insulator technology
原文传递
电流提升CMOS运算跨导放大器 被引量:1
7
作者 赵玉山 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 1989年第2期97-105,共9页
提出了一种设计CMOS运算跨导放大器(OTA)的新电路结构,这种结构是在基本OTA中引入偏置电流提升电路,故称为电流提升OTA。讨论了电路设计方法,并用3μmP阱CMOS工艺制出了器件样品。测试结果表明,这种新结构OTA在输入信号允许范围、—3dB... 提出了一种设计CMOS运算跨导放大器(OTA)的新电路结构,这种结构是在基本OTA中引入偏置电流提升电路,故称为电流提升OTA。讨论了电路设计方法,并用3μmP阱CMOS工艺制出了器件样品。测试结果表明,这种新结构OTA在输入信号允许范围、—3dB带宽、转换速率等方面均优于基本OTA。作为一个应用实例,用两个电流提升OTA及两个分立电容组成了二阶高通滤波器,该滤波器的截止频率f_O可由电信号连续调节,其可调范围是从10KHz至300KHz。 展开更多
关键词 放大器 跨导放大器 Cmos 运算
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MOS晶体管的阈值电压不匹配特性 被引量:1
8
作者 刁冬梅 杨银堂 朱樟明 《电子科技》 2007年第5期1-3,37,共4页
集成电路中器件的匹配性对于模拟电路和数字电路的设计有着很重要的影响,而现在重要的是还缺乏精确的器件匹配的模型。在模拟集成电路设计中,MOS管阈值电压的匹配特性对集成电路尤其是电流Ids的大小有着重要的影响。基于短沟道系列模型,... 集成电路中器件的匹配性对于模拟电路和数字电路的设计有着很重要的影响,而现在重要的是还缺乏精确的器件匹配的模型。在模拟集成电路设计中,MOS管阈值电压的匹配特性对集成电路尤其是电流Ids的大小有着重要的影响。基于短沟道系列模型,MOS氧化层中的固定电荷和杂质原予服从泊松分布,分析了NMOS和PMOS器件不匹配的物理原因,并验证σVT/VT遵循与1/(?)成比例的结论。 展开更多
关键词 集成电路 不匹配 阈值电压 mos
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硅集成电路工艺技术的发展——为《微电子学》创刊二十周年而作
9
作者 陈中佛 《微电子学》 CAS CSCD 1990年第2期14-30,共17页
本文首先在总体上概述了集成电路工艺技术的发展。从双极工艺和MOS工艺两大分支说明了其发展过程、特点及现状水平,阐述了器件发展与工艺发展的相互关系。然后分节叙述了各个重点工艺技术的发展趋势与现状。
关键词 硅集成电路 工艺 双极型 mos
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一种CMOS四象限模拟乘法器电路结构(英文)
10
作者 赵玉山 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 1989年第1期24-31,共8页
本文提出了一种CMOS四象限模拟乘法器的新电路结构。用SPICE—2G6电路模拟程序,并以MOS晶体管的第二类模型参数对所设计电路进行了模拟。模拟结果表明:当电源电压为±8V时,输入信号范围可达10V;在此范围内,对X方向和Y方向的平衡差... 本文提出了一种CMOS四象限模拟乘法器的新电路结构。用SPICE—2G6电路模拟程序,并以MOS晶体管的第二类模型参数对所设计电路进行了模拟。模拟结果表明:当电源电压为±8V时,输入信号范围可达10V;在此范围内,对X方向和Y方向的平衡差动输入信号,电压传输特性的最大非线性误差分别为满度输出的0.81%和0.52%;对X方向和Y方向输入信号的-3 dB带宽分别为0~1.5MHz和0~0.6MHz;在0~1 MHz带宽内的输出噪声电压为1.51mV。 展开更多
关键词 集成电路 模拟乘法器 Cmos
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多输入端运算跨导放大器电路结构研究
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作者 赵玉山 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 1991年第1期51-56,共6页
提出多输入端运算跨导放大器的两种CMOS电路结构。对结构特点和设计原则作了对比分析;对设计实例电路提供了SPICE程序模拟结果。
关键词 运算放大器 OTA mos 集成电路
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基于动态电流注入技术的高线性混频器设计 被引量:1
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作者 任玲芝 余建立 许明坤 《电子器件》 CAS 北大核心 2019年第6期1358-1361,1366,共5页
对用于改善电流换向混频器线性度的动态和静态电流注入技术进行了讨论,并且提出了一种高线性双平衡CMOS混频器。该混频器在中频级采用交叉耦合晶体管对将电流动态地注入进混频器中,以改善线性度,基于标准的0.13μm CMOS工艺对所提出的... 对用于改善电流换向混频器线性度的动态和静态电流注入技术进行了讨论,并且提出了一种高线性双平衡CMOS混频器。该混频器在中频级采用交叉耦合晶体管对将电流动态地注入进混频器中,以改善线性度,基于标准的0.13μm CMOS工艺对所提出的混频器进行流片并在片测试。该混频器的射频3 dB带宽为5.5 GHz,覆盖了1 GHz^6.5 GHz,混频器取得了7.3 dB^11.4 dB的转换增益。在射频频率为2.5 GHz,中频频率为150 MHz,本振信号功率4 dBm时,取得了8.8 dBm的输入三阶截止点。芯片所占面积为0.57 mm 2,不包括连接片,并且电路在1.2 V电源供电下消耗了4.1 mW的功耗。 展开更多
关键词 Cmos有源混频器 交叉耦合电流注入 电流换向混频器 动态电流注入 高线性 射频集成电路
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TiSi_2 Polycide LDD MOS工艺研究 被引量:1
13
作者 徐秋霞 龚义元 +3 位作者 张建欣 扈焕章 汪锁发 李卫宁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第5期361-366,共6页
本文着重研究了0.6μmTiSi2PolycideLDDNMOS器件工艺技术.用RIE刻蚀获得了0.6μm严格各向异性的精细结构2分析研究表明TEOSSiO2膜厚tf、多晶硅栅的剖面倾角θ是影响侧壁宽度W的重要因素,... 本文着重研究了0.6μmTiSi2PolycideLDDNMOS器件工艺技术.用RIE刻蚀获得了0.6μm严格各向异性的精细结构2分析研究表明TEOSSiO2膜厚tf、多晶硅栅的剖面倾角θ是影响侧壁宽度W的重要因素,经优化后可控制W为0.30~0.32μm;在Al与Si之间引入一层TiN/Ti复合层作为Al-Si间的扩散势垒层,获得了良好的热稳定性.上述工艺技术已成功地应用于0.6μmTiSi2PolycideLDDE/DMOS31级环形振荡器的研制,其平均缴延迟为310Ps(0.29mW/级),工作电压5伏. 展开更多
关键词 mos 多晶硅复合栅 场效应 工艺
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Fowler-Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤研究 被引量:1
14
作者 高文钰 严荣良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期98-104,共7页
本文研究了Fowler-Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤及其室温退火.结果表明有四种损伤产生:氧化物正电荷建立、Si/SiO2快界面态增长、慢界面态产生和栅介质电容下降.当终止应力后,前三种损伤在室温下... 本文研究了Fowler-Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤及其室温退火.结果表明有四种损伤产生:氧化物正电荷建立、Si/SiO2快界面态增长、慢界面态产生和栅介质电容下降.当终止应力后,前三种损伤在室温下有所恢复,但最后一种损伤没有变化.实验还表明:产生的慢界面态分布在禁带上半部;高电场下栅介质电容呈现无规阶梯型下降.对四种损伤及其室温退火机理进行了讨论.还给出产生的慢界面态对高频电容-电压测量的影响. 展开更多
关键词 mos器件 高电场应力 应力 损伤
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超大规模集成电路的栅氧化技术
15
作者 卢豫曾 蒋保运 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第1期72-76,共5页
本文探索了一种能用于大规模 MOS 集成电路的栅氧化技术—补充后的两步 TCE法。笔者采用该法,在一般工厂的工艺条件下,制得了90%以上的 MOS 电容,击穿电场大于6MV/cm,可动电荷密度约为10^(10)cm^(-2),固定电荷密度约为10^(11)cm^(-2)的... 本文探索了一种能用于大规模 MOS 集成电路的栅氧化技术—补充后的两步 TCE法。笔者采用该法,在一般工厂的工艺条件下,制得了90%以上的 MOS 电容,击穿电场大于6MV/cm,可动电荷密度约为10^(10)cm^(-2),固定电荷密度约为10^(11)cm^(-2)的优质超薄氧化层。 展开更多
关键词 超大规模 集成电路 栅氧化技术
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ANALOG CIRCUIT IMPLEMENTATION OF NEURAL NETWORK WITH HIGH PRECISION WEIGHTS
16
作者 高丽娜 邱关源 《Journal of Electronics(China)》 1994年第1期88-92,共5页
A current-mode MOS neuron circuit with 4-bit programmable weights is presented by using CMOS technology. The weights of the neurcn have high resolution and also can easily be digitally stored. The resolution can be ex... A current-mode MOS neuron circuit with 4-bit programmable weights is presented by using CMOS technology. The weights of the neurcn have high resolution and also can easily be digitally stored. The resolution can be extended into high levels such as 8-bit, etc. by the design methodology presented in this paper. The operational principle of the neuron is discussed. Circuit simulation has been made by use of SPICE II. The results give a good agreement for the design requirements. 展开更多
关键词 NEURAL networks NEURONS mos integrated circuits
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Leakage Reduction Using DTSCL and Current Mirror SCL Logic Structures for LP-LV Circuits
17
作者 Sanjeev Rai Ram Awadh Mishra Sudarshan Tiwari 《Circuits and Systems》 2013年第1期20-28,共9页
This paper presents a novel approach to design robust Source Coupled Logic (SCL) for implementing ultra low power circuits. In this paper, we propose two different source coupled logic structures and analyze the perfo... This paper presents a novel approach to design robust Source Coupled Logic (SCL) for implementing ultra low power circuits. In this paper, we propose two different source coupled logic structures and analyze the performance of these structures with STSCL (Sub-threshold SCL). The first design under consideration is DTPMOS as load device which analyses the performance of Dynamic Threshold SCL (DTSCL) Logic with previous source coupled logic for ultra low power operation. DTSCL circuits exhibit a better power-delay Performance compared with the STSCL Logic. It can be seen that the proposed circuit provides 56% reduction in power delay product. The second design under consideration uses basic current mirror active load device to provide required voltage swing. Current mirror source coupled logic (CMSCL) can be used for high speed operation. The advantage of this design is that it provides 54% reduction in power delay product over conventional STSCL. The main drawback of this design is that it provides a higher power dissipation compared to other source coupled logic structures. The proposed circuit provides lower sensitivity to temperature and power supply variation, with a superior control over power dissipation. Measurements of test structures simulated in 0.18 μm CMOS technology shows that the proposed DTSCL logic concept can be utilized successfully for bias currents as low as 1 pA. Measurements show that existing standard cell libraries offer a good solution for ultra low power SCL circuits. Cadence Virtuoso schematic editor and Spectre Simulation tools have been used. 展开更多
关键词 Cmos integrated circuits Cmos LOGIC circuit Dynamic Threshold mos (DTmos) Power-Delay Product Source-Coupled LOGIC (SCL) SUB-THRESHOLD Cmos SUB-THRESHOLD SCL Ultra-Low-Power circuits Weak Inversion LP-LV(Low Power-Low Voltage)
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微波集成电路低频噪声无损检测方法研究
18
作者 李凌云 《中国有线电视》 2021年第9期914-916,共3页
传统的低频噪声无损检测方法在实际应用中,存在检测信号丢失、低频信号被平滑处理等问题,为解决上述问题,设计一种针对微波集成电路的低频噪声无损检测方法。通过定义低频噪声检测阈值范围的方式,结合信号的频带宽度,搭建微波集成电路... 传统的低频噪声无损检测方法在实际应用中,存在检测信号丢失、低频信号被平滑处理等问题,为解决上述问题,设计一种针对微波集成电路的低频噪声无损检测方法。通过定义低频噪声检测阈值范围的方式,结合信号的频带宽度,搭建微波集成电路低频噪声检测平台。同时,引进了小波转换技术,采用熵检测的方法,对电路白噪声与低频噪声进行分离处理,并将处理后的信号组进行重构。输出重构后的信号值,以此作为微波集成电路低频噪声无损检测结果。设计对比实验,对设计方法与传统方法的噪声检测结果进行对比,对比后发现,设计的方法在实际应用中,可清晰地表达电路噪声功率谱密度,解决信号丢失或低频信号被平滑处理等问题。 展开更多
关键词 微波集成电路 低频噪声 无损检测方法 小波转换技术 mos组件
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离子注入掺杂热再分布的分析计算
19
作者 林长贵 王则如 黄宗林 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1991年第1期23-25,共3页
本文对离子注入杂质的热再分布过程提出了两种分析手段:其一是已知热再分布的工艺条件,求解扩散方程得到最终杂质分布的解析结果;其二是已知再分布后杂质分布的边界条件,采用牛顿—拉夫逊,蒙特卡罗计算方法,求得最终杂质浓度分布;并给出... 本文对离子注入杂质的热再分布过程提出了两种分析手段:其一是已知热再分布的工艺条件,求解扩散方程得到最终杂质分布的解析结果;其二是已知再分布后杂质分布的边界条件,采用牛顿—拉夫逊,蒙特卡罗计算方法,求得最终杂质浓度分布;并给出了CMOS 集成电路中离子注入p 阱的计算结果. 展开更多
关键词 Cmos集成电路 离子注入 掺杂 热再分布 蒙特卡罗计算方法 数值求解
全文增补中
单片集成CMOS二阶OTA-C连续时间模拟滤波器
20
作者 赵玉山 秦世才 贾香鸾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第5期382-386,共5页
以本文提出的电流提升运算跨导放大器(以下简称OTA)作有源器件,采用3微米P阱CMOS工艺制成了全集成二阶OTA-C连续时间模拟滤波器.测试结果表明:该滤波器的中心频率(带通)可由片外电信号调节,其可谓范围从18千赫至160千赫;滤波器具有恒定Q... 以本文提出的电流提升运算跨导放大器(以下简称OTA)作有源器件,采用3微米P阱CMOS工艺制成了全集成二阶OTA-C连续时间模拟滤波器.测试结果表明:该滤波器的中心频率(带通)可由片外电信号调节,其可谓范围从18千赫至160千赫;滤波器具有恒定Q值,且其值决定于两个MOS电容值之比;当输入1伏峰值的正弦信号时,输出信号的总谐波失真(THD)不大于0.36%;选用合适的信号输入端,该滤波器还可以实现低通、带通、高通和带阻四种传递函数. 展开更多
关键词 单片集成电路 集成滤波器 Cmos
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