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微电子制造科学与技术计划中的光刻工艺研究 被引量:2
1
作者 安德烈 《微电子学》 CAS CSCD 1995年第3期54-57,共4页
微电子制造科学与技术(MMST)计划中光刻工艺研究的主要对象是光学步进式光刻机,包括i-线(365nm)和激发物激光深紫外线(248nm)光刻机。对于多数图形层,采用普通的光刻胶加温法显形;而对于关键的栅和金属层,则... 微电子制造科学与技术(MMST)计划中光刻工艺研究的主要对象是光学步进式光刻机,包括i-线(365nm)和激发物激光深紫外线(248nm)光刻机。对于多数图形层,采用普通的光刻胶加温法显形;而对于关键的栅和金属层,则采用扩散。增强甲硅烷基化光刻胶(DESIRE)工艺的表面成像干法显形光刻胶。在光刻工艺过程中,如果对所有关键工序,特别是曝光,都用实时传感器进行监控,即可达到对工艺控制实现完全自动化这一目标。 展开更多
关键词 光学光刻 半导体工艺 微电子制造 mmst
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未来半导体加工厂的新技术模式──MMST 被引量:1
2
作者 管会 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期2-5,共4页
MMST代表了一种新的半导体晶片加工概念,具有对环境净化条件要求不高、加工周期短、加工成本低、自动化程度高等优点,有望成为未来半导体加工厂的新技术模式。本文试图对MMST技术作一较全面的介绍。
关键词 mmst 晶片加工 半导体加工 制造工艺
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俄语教师进修班开设的课程:功能语法和修辞学
3
作者 Н.A.Poroвa и.C.Aндpeэвa 刘光准 《外语学刊》 CSSCI 北大核心 1989年第4期14-21,共8页
本文是关于1985年9—12月在我国北京外国语学院举办俄语教师进修班的一篇总结性文章。文章对于进修班开设的两门课程——功能语法和修辞学——的教学日的、内容和方式方法等进行了沦述,并对举办类似的短期的进修班提出了若干改进意见... 本文是关于1985年9—12月在我国北京外国语学院举办俄语教师进修班的一篇总结性文章。文章对于进修班开设的两门课程——功能语法和修辞学——的教学日的、内容和方式方法等进行了沦述,并对举办类似的短期的进修班提出了若干改进意见。文章对如何提高青年俄语教师的业务水平和能力有一定的参考价值。 本文的两位苏联作者是语文学博士、国立列宁格勒大学教授、外国语文学科学生俄语教研室主任K.A.罗古娃,语文学副博士、列宁格勒赫尔岑师范学院副教授N.C.安德列耶娃。 展开更多
关键词 功能语法 教师进修 修辞学 俄语 HBOC mmst OBSH RHCT 进修班 语文学
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MMST硅片清洗
4
作者 R.AIIenBowling 马宏 《微电子技术》 1995年第3期38-41,共4页
德克萨斯仪器公司(TI)、预研规划局(ARPA)和空军三家联合的微电子制造科学与技术(MMST)工程中,片子清洗工艺的目标是开发平片的全干法或气相清洗工艺,旨在全部地取代湿法清洗工艺。HF气相清洗和等离子工艺已成功地用于氧化物、... 德克萨斯仪器公司(TI)、预研规划局(ARPA)和空军三家联合的微电子制造科学与技术(MMST)工程中,片子清洗工艺的目标是开发平片的全干法或气相清洗工艺,旨在全部地取代湿法清洗工艺。HF气相清洗和等离子工艺已成功地用于氧化物、氮化物和金属化后腐蚀的残余物的去除。但是还未找到用于替代炉前清洗的工业标准(RCA)清洗和水冲洗的有效干法工艺。全干法清洗很可能要再花五到十年才能走向成熟。在未来的几年内,特殊的气相或干法清除工艺将会被用来减少化学品的消耗,并因而降低对这类清洗的化学品清理的要求。 展开更多
关键词 mmst 硅片 清洗 微电子制造科学 微电子技术
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干法腐蚀工艺及探测器
5
作者 GabrielG Barne 马宏 《微电子技术》 1995年第3期31-37,共7页
在MMST规划中,为得到期望的快周期、低成本的硅片加工工艺,大多数腐蚀工艺是在TI(德克萨斯仪器公司)设计和建造的先进的真空反应设备上完成的。用于反应离子刻蚀和微波刻蚀的设备与原位探测器相结合,并与全厂范围的CIM系统相连,... 在MMST规划中,为得到期望的快周期、低成本的硅片加工工艺,大多数腐蚀工艺是在TI(德克萨斯仪器公司)设计和建造的先进的真空反应设备上完成的。用于反应离子刻蚀和微波刻蚀的设备与原位探测器相结合,并与全厂范围的CIM系统相连,探测器和CIM系统通过提供实时控制可满足完成工艺所需的要求。它们还能实现一些工艺的批间控制和其他标准的统计工艺控制。 展开更多
关键词 干法腐蚀 工艺 探测器 mmst
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MMST设备控制的体系和概述
6
作者 RichardBeaver 肖汉武 《微电子技术》 1995年第3期111-117,共7页
本文介绍了MMST设备控制体系的组成结构,开发出的这一体系可以快速装备到目前所使用的硅片制造设备中,同时还考虑了完全倒置的设备控制软件的应用。MMST设备控制体系是为适应目前尚在半导体设备制造商开发之中的下一代真空处理集群设... 本文介绍了MMST设备控制体系的组成结构,开发出的这一体系可以快速装备到目前所使用的硅片制造设备中,同时还考虑了完全倒置的设备控制软件的应用。MMST设备控制体系是为适应目前尚在半导体设备制造商开发之中的下一代真空处理集群设备所需要而特别设计的。它为设备用户提供了基于窗口的图形控制面板。 展开更多
关键词 mmst 设备控制 体系 概述
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MMST RTP的控制:柔性生产技术的重复性、均匀性和集成化
7
作者 CharlesSchaper 李宗亚 《微电子技术》 1995年第3期53-72,共20页
在RTP半导体器件制造设备中;为控制硅片温度的均匀性和重复性,采用了一种实时多变的策略。它基于工艺的物理模型,采用实验设计程序来估算模型参数。轴心对称加热区域中多区阵列灯的功率采用内部模型控制法则(IMC)的设计方法来进行... 在RTP半导体器件制造设备中;为控制硅片温度的均匀性和重复性,采用了一种实时多变的策略。它基于工艺的物理模型,采用实验设计程序来估算模型参数。轴心对称加热区域中多区阵列灯的功率采用内部模型控制法则(IMC)的设计方法来进行自动计算以获得硅片的温度均久性。通过硅片上多点的高温测定法进行温度探测提供实时反馈信息,从而进行控制。为获得温度控制的技术要求,除了IMC外还使用了好几种模块,包括模型规划及防过冲等。该控制策略最早是由斯坦福大学为样机设备而研制的,后来TI公司将其使用在MMST工程中,在八台RTP反应器中处理2种亚微米CMOS工艺的十三种不同的热处理,从而根据定制化,集成化及性能来分析整个控制策略。 展开更多
关键词 mmst RTP 柔性生产技术 IC 制造 工艺 控制
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MMST制造技术──硬件、探测器及工艺
8
作者 GabrielG.Barna 肖汉武 《微电子技术》 1995年第3期42-52,共11页
本文介绍了微电子制造科学和技术(MMST)规划中所要使用的设备及工艺,这些工艺是在由测试台(AVP,由TI公司,设计和制造的先进真空处理器)和商品化的生产设备组合而成的系统中以单片方式实现的。所有的AVP工艺都是在硅片倒向放置面... 本文介绍了微电子制造科学和技术(MMST)规划中所要使用的设备及工艺,这些工艺是在由测试台(AVP,由TI公司,设计和制造的先进真空处理器)和商品化的生产设备组合而成的系统中以单片方式实现的。所有的AVP工艺都是在硅片倒向放置面朝下的结构中完成。所有的工艺设备都与计算机集成制造系统(CIMS)相连。CIM可以采集设计数据而且可以将采自CIM数据库的工艺参数与单个处理单元连接起来。在某些可利用的地方,通过现场探测器来监控工艺参数,探测器的测量值采自硅片中央的一个测量芯片。大多数工艺是由CIM系统中建立在模型基础上的工艺控制算法来控制的。换句话说,是采用标准的统计工艺控制(SPC)方法控制的。本文重点介绍了开发并用于这种CIM环境的工艺方法学。采用这种工艺方法学在不到72小时的时间内完成了一个大约有150道工序的0. 展开更多
关键词 mmst 制造工艺 硬件 探测器 工艺
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现代硅片加工过程中的沾污控制
9
作者 AllenBowling CecilJ.Davis 李祥 《微电子技术》 1995年第3期82-86,共5页
随着器件尺寸的不断缩小,沾污控制变得日趋关键,就目前的技术水平而言,只能在硅片的净化间存放、传递及加工环境等方面进行治污控制。为满足将来的需要,MMST工程研制了一种专门的微环境,用来进行硅片处理。硅片的传递在一封闭的容... 随着器件尺寸的不断缩小,沾污控制变得日趋关键,就目前的技术水平而言,只能在硅片的净化间存放、传递及加工环境等方面进行治污控制。为满足将来的需要,MMST工程研制了一种专门的微环境,用来进行硅片处理。硅片的传递在一封闭的容器中进行,人们称之为“真空载体”,它既可封闭于真空状态或大气状态,亦可封闭于惰性气体环境中。在设计上使该载体可用于作为常规设备承片台上的花兰,也可用于设备的真空锁。它的真空客量可对硅片进行真空负载锁定保持封闭,这样可使硅片在两道最大的沾污工序──—抽真空及充气过程中得以保护。 展开更多
关键词 硅片 加工 沾污控制 工艺 mmst
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空前的MMST:虚拟工厂
10
作者 ZacharyJ.Lemnios 郭大琪 《微电子技术》 1995年第3期87-89,共3页
关键词 mmst 微电子技术 微电子制造科学 虚拟工厂
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“微电子制造科学与技术”计划概观
11
《微电子学》 CAS CSCD 1995年第3期47-48,57,共3页
“微电子制造科学与技术”计划概观刘英清摘编编者的话:半导体制造技术一直是电子工业高速发展的推动力。虽然,现今所用的器件按比例缩小技术还可继续使用到0.1μm特征尺寸的器件,但是,随着电路集成度的提高,及其性能和可靠性... “微电子制造科学与技术”计划概观刘英清摘编编者的话:半导体制造技术一直是电子工业高速发展的推动力。虽然,现今所用的器件按比例缩小技术还可继续使用到0.1μm特征尺寸的器件,但是,随着电路集成度的提高,及其性能和可靠性的进一步改善,产品的制造成本也在不... 展开更多
关键词 半导体器件 微电子制造 mmst 计划
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微电子制造科学与技术研究计划中的单圆片加工设备
12
作者 方向 《微电子学》 CAS CSCD 1995年第3期49-53,共5页
由美国得州仪器(Tl)公司实施的微电子制造科学与技术计划全面采用了一种灵活的单圆片加工技术,该技术适合快周期的IC生产,且投资少,灵活性高。他们设计的实验型单圆片小型工厂包含34个具有各种不同的工艺能源组合和现场监测... 由美国得州仪器(Tl)公司实施的微电子制造科学与技术计划全面采用了一种灵活的单圆片加工技术,该技术适合快周期的IC生产,且投资少,灵活性高。他们设计的实验型单圆片小型工厂包含34个具有各种不同的工艺能源组合和现场监测与控制传感器的单圆片处理系统;采用模块化系统(大多为先进真空处理器(AVP))进行了40种不同的器件制造工艺实验;真空片盒在洁净环境中传递圆片;AVP由计算机综合制造(CIM)系统驱动和监督。已经开发出用于典型的0.35μmCMOS工艺所需的全部热加工步骤的快速热处理(RTP)AVP。采用单圆片加工设备和全RTP处理实现了完整的工艺一体化并创造了制造周期仅为3天的纪录。 展开更多
关键词 单片加工 微电子制造 半导体器件 设备 mmst
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基于MMST分组的一类MIMO非线性系统执行器故障自适应补偿控制 被引量:4
13
作者 张绍杰 邱相玮 +1 位作者 刘春生 胡寿松 《自动化学报》 EI CSCD 北大核心 2014年第11期2445-2455,共11页
在多输入多输出(Multiple-input multiple-output,MIMO)非线性系统的执行器故障容错控制问题中,控制器能够处理的执行器故障集合的大小与执行器分组方法有很大关系.为扩大系统可处理的执行器故障集合,本文针对一类具有执行器故障的MIMO... 在多输入多输出(Multiple-input multiple-output,MIMO)非线性系统的执行器故障容错控制问题中,控制器能够处理的执行器故障集合的大小与执行器分组方法有很大关系.为扩大系统可处理的执行器故障集合,本文针对一类具有执行器故障的MIMO非线性最小相位系统,提出基于多模型切换(Multiple model switching and tuning,MMST)执行器分组的自适应补偿控制方法.考虑系统的执行器卡死、部分失效和完全失效故障,在微分几何反馈线性化的基础上,研究基于多模型切换的执行器分组切换指标和切换策略,设计了基于反演控制的自适应补偿跟踪控制律,所设计的控制律能保证系统在执行器故障时闭环稳定,渐近跟踪给定的参考信号,且提出的分组方法扩大了可补偿的执行器故障集合.仿真结果表明了本文设计方法的有效性. 展开更多
关键词 多输入多输出非线性系统 执行器故障 反演控制 自适应补偿 执行器分组 多模型切换
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CUBE计算中的MMST树以及BIT形成算法
14
作者 方曲祥 孙海涛 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2000年第5期1-3,11,共4页
首先介绍了联机分析处理(OLAP)中的CUBE运算符以及几种计算CUB的优化方法,然后分析了以减少10操作优化方法为主的MMST优化策略,并给出了形成MMST树的BIT算法以及伪代码。该BIT算法概念清晰,实现简捷快... 首先介绍了联机分析处理(OLAP)中的CUBE运算符以及几种计算CUB的优化方法,然后分析了以减少10操作优化方法为主的MMST优化策略,并给出了形成MMST树的BIT算法以及伪代码。该BIT算法概念清晰,实现简捷快速,在以MMST树为基础的CUBE计算中非常关键。 展开更多
关键词 联机分析处理 mmst BIT算法 CUBE 数据库
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MMST施工法实用化的研讨 被引量:1
15
作者 先明其 《世界隧道》 1997年第6期12-17,41,共7页
在城市隧道施工中,由于受周围环境及邻近建筑物等的限制而往往不能采用明挖法或者诸如盾构法和新奥法的暗挖法。为了修建川崎纵贯高速线,承建单位着手研究和开发MMST施工法——多个微型盾构隧道施工法,并为此组建了特别委员会进行调查... 在城市隧道施工中,由于受周围环境及邻近建筑物等的限制而往往不能采用明挖法或者诸如盾构法和新奥法的暗挖法。为了修建川崎纵贯高速线,承建单位着手研究和开发MMST施工法——多个微型盾构隧道施工法,并为此组建了特别委员会进行调查研究。本文介绍了MMST法的概念、基本结构、主要特征及有关设计方面的问题。针对实用化问题提出了研究课题内容。最后介绍了试验施工方面的情况。 展开更多
关键词 城市隧道 mmst施工法 试验施工
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MMST工程的光刻技术
16
作者 GeneFuller 钱叶华 《微电子技术》 1995年第3期26-30,37,共6页
MMST工程的光刻技术关键取决于i线(365nm)和深紫外(248nm)激光光学重复步进曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀剂,而对关键的栅和金属层则采用“DESIRE”工艺,使用表面成象,干法显影的抗蚀剂。倘若能对光... MMST工程的光刻技术关键取决于i线(365nm)和深紫外(248nm)激光光学重复步进曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀剂,而对关键的栅和金属层则采用“DESIRE”工艺,使用表面成象,干法显影的抗蚀剂。倘若能对光刻工艺的各个关键步骤实行实时监控,则可望实现光刻完全自动化。 展开更多
关键词 mmst工程 光刻技术
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MMST工程:综述
17
作者 RobertR.Doering 郭大琪 《微电子技术》 1995年第3期8-10,共3页
关键词 mmst工程 微电子制造科学 微电子技术
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