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印制电路厚铜线路蚀刻效果的研究 被引量:5
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作者 李高升 陈苑明 +5 位作者 何为 王守绪 艾克华 李清华 唐鑫 李长生 《印制电路信息》 2018年第7期17-21,共5页
考察了厚铜蚀刻深度与宽度随蚀刻时间的变化,研究了厚铜设计线距变化对侧蚀程度的影响。基于不完全蚀刻设计,对比三种计算厚铜蚀刻均匀性方法的差异,分析设计线距与蚀刻因子的相互关系。结果表明蚀刻因子随设计线距的增大而增大,线宽偏... 考察了厚铜蚀刻深度与宽度随蚀刻时间的变化,研究了厚铜设计线距变化对侧蚀程度的影响。基于不完全蚀刻设计,对比三种计算厚铜蚀刻均匀性方法的差异,分析设计线距与蚀刻因子的相互关系。结果表明蚀刻因子随设计线距的增大而增大,线宽偏差随设计线距增大而减小。 展开更多
关键词 厚铜线路 蚀刻 蚀刻因子 线宽偏差
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