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大口径超薄基板双面溅射膜厚均匀性研究 被引量：1
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作者 付秀华 刘俊岐 +4 位作者 李卓霖 刘海成 任海峰 王一博 韩克旭 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期109-117,共9页
可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹... 可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹具遮挡角度三个方面分析膜厚均匀性的差异,采用对称膜系结构,实现红外截止滤光片上下表面薄膜应力平衡。最终制备的薄膜均匀性在300 mm范围内达到0.13%,基板翘曲度为0.085 mm,满足使用需求。 展开更多
关键词 光学薄膜 磁控溅射 膜厚均匀性 大口径超薄基板 红外截止滤光片
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