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射频磁控室温溅射(Pb,La)TiO_3薄膜退火前后的原子力显微镜分析 被引量：1
1
作者 朱基亮 朱建国 +2 位作者 申林 潘宇 肖定全 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期617-618,共2页
采用射频磁控溅射技术在室温溅射((Pb,La)TiO3(PLT)薄膜,在600℃下退火2h,通过其XRD谱图和AFM照片分析,发现薄膜结晶良好,已形成均匀、连续、致密、表面平滑的完全钙钛矿结构的PLT铁电薄膜,退火对薄膜表面的粗糙度影响不大,薄膜的表面... 采用射频磁控溅射技术在室温溅射((Pb,La)TiO3(PLT)薄膜,在600℃下退火2h,通过其XRD谱图和AFM照片分析,发现薄膜结晶良好,已形成均匀、连续、致密、表面平滑的完全钙钛矿结构的PLT铁电薄膜,退火对薄膜表面的粗糙度影响不大,薄膜的表面粗糙度主要由淀积过程决定。 展开更多
关键词 射频磁控浅射 原子显微镜 PLT 铁电薄膜 退火
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溶胶—凝胶法制备(Pb,La)TiO_3陶瓷薄膜的研究 被引量：2
2
作者 田长生 龙赣 杨峥 《西北工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第1期119-120,共2页
钛酸铅■(Pb,La)TiO_3(简称PLT)铁电陶瓷薄膜可望在红外探测器、光波导、声表面波器件等光电子学及其它高技术领域中获得广泛的应用. 1988年日本学者Kyoichi Takayama等人用磁控溅射方法制备了PLT薄膜,并用它制成了高灵敏度的单元和多... 钛酸铅■(Pb,La)TiO_3(简称PLT)铁电陶瓷薄膜可望在红外探测器、光波导、声表面波器件等光电子学及其它高技术领域中获得广泛的应用. 1988年日本学者Kyoichi Takayama等人用磁控溅射方法制备了PLT薄膜,并用它制成了高灵敏度的单元和多元热释电红外探测器[1].用该方法制备PLT薄膜,除了需要昂贵、复杂的设备外,还难以控制薄膜的化学计量比,从而使其应用受到一定限制.近年来,人们用溶胶—凝胶方法研制了Pb(Zr,Ti)O_3(PZT)和(Pb,La)(Zr,Ti)O_3(PLZT)等陶瓷薄膜[2],其工艺不仅简单,而且薄膜的热处理温度低,化学计量比准确、均匀(可达分子级水平),结构可控,成膜面积大. 本文采用溶胶—凝胶法,先将Ti(OC_4H_9)_4,Pb(CH_3COO)_2和La(NO_3)_3溶于有机溶剂甲醇中(加入少量酸),经充分搅拌混合形成清彻的溶胶,再使其发生水解,缩聚合等反应。 展开更多
关键词 钛酸铅镧 铁电陶瓷 薄膜 溶胶-凝胶
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工艺参数对形成（Pb，La）TiO_3溶胶和凝胶的影响
3
作者 裴志斌 田长生 赵新伟 《西北工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期548-552,共5页
系统地研究了溶胶－凝胶技术制备Ｐｂ_（１－ｘ）Ｌａ_ｘＴｉ_（１－ｘ／４）Ｏ_３（简称ＰＬＴ）铁电陶瓷薄膜时催化剂（或ｐＨ值）、溶液浓度在室温下对形成溶胶和凝胶的影响规律；用红外光谱研究了成胶机理；用该技术成功地在（１０... 系统地研究了溶胶－凝胶技术制备Ｐｂ_（１－ｘ）Ｌａ_ｘＴｉ_（１－ｘ／４）Ｏ_３（简称ＰＬＴ）铁电陶瓷薄膜时催化剂（或ｐＨ值）、溶液浓度在室温下对形成溶胶和凝胶的影响规律；用红外光谱研究了成胶机理；用该技术成功地在（１００）Ｓｉ单晶衬底上制备出了均匀、无裂纹且具有钙铁矿结构的ＰＬＴ晶态薄膜。 展开更多
关键词 溶胶 凝胶 薄膜 工艺参数 钛酸铅镧 铁电陶瓷
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溶胶－凝胶工艺参数对（Pb，La）TiO_3薄膜结构的影响
4
作者 裴志斌 田长生 赵新伟 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期20-23,共4页
系统地研究了溶胶－凝胶（Ｓｏｌ－Ｇｅｌ）方法制备（Ｐｂ_（１－Ｘ）Ｌａ_ｘ）Ｔｉ_（１－ｘ／４）Ｏ_３（简称ＰＬＴ）薄膜时催化剂（或ｐＨ值）、溶液浓度在室温下对形成溶胶和凝胶的影响规律，用Ｘ射线结构分析和ＳＥＭ研究了热处... 系统地研究了溶胶－凝胶（Ｓｏｌ－Ｇｅｌ）方法制备（Ｐｂ_（１－Ｘ）Ｌａ_ｘ）Ｔｉ_（１－ｘ／４）Ｏ_３（简称ＰＬＴ）薄膜时催化剂（或ｐＨ值）、溶液浓度在室温下对形成溶胶和凝胶的影响规律，用Ｘ射线结构分析和ＳＥＭ研究了热处理工艺对薄膜结构及晶粒尺寸的影响。实验表明，浓度、醋酸含量都存在一个最佳的范围，且随铜（Ｌａ）含量的增加，该范围减小；实验还发现，随着Ｌａ含量的增加，薄膜的晶化温度降低。在单晶（１００）Ｓｉ衬底上成功地制备出了具有钙钛矿型结构、厚度约为２００ｎｍ、均匀、致密、无裂纹的ＰＬＴ晶态薄膜。 展开更多
关键词 溶胶 凝胶 薄膜 工艺参数
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