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基于杂质离子含量评价的LTPS-LCD面板测量体系
被引量:
1
1
作者
邓文广
许叶潞
+2 位作者
温建辉
黄碧钦
金昌连
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第10期1388-1394,共7页
残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研...
残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研究,并对该测量体系的稳定性、分辨能力进行了探讨。首先针对LTPS技术的面板设计了一种新的测试盒,然后采用液晶电压保持率(Voltage Holding Residual,VHR)评价盒内杂质离子含量,运用测量系统分析方法对其可靠性进行评估,最后通过对比不同紫外线(UV)照射时间与光配向烘烤时间下VHR的变化分析其分辨力。实验结果表明该测量体系的量具重复性、再现性(Gage R&R%)为10.77%,变异与流程公差(P/T)为26.93%<30%,可区分数为13>5,不同批次VHR均值维持在93%~95%,测量结果可靠、稳定,并能有效识别出VHR差异。本文设计的测试盒符合LTPS-LCD面板产业对杂质离子含量监测需求,可为工厂实际生产中杂质离子的监控提供参考。
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关键词
残像
电压保持率
ltps
-
lcd
测试盒
杂质离子
下载PDF
职称材料
LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化
被引量:
2
2
作者
陈丽雯
叶芸
+3 位作者
郭太良
彭涛
周秀峰
文亮
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第4期363-369,共7页
为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻...
为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73%以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90%,器件开态电流提升约15%。干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法。
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关键词
ltps
TFT
lcd
干法刻蚀
湿法刻蚀
层间绝缘层过孔
接触电阻
器件性能
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职称材料
平板显示技术论坛LCD/PDP/OLED的综合比较
被引量:
3
3
作者
郑圣德
《电子工艺技术》
2005年第5期304-307,共4页
分析比较FPD行业最具代表性的LCD/PDP/OLED的类型、用途、基本原材料和显示原理,并整理列出LCD/PDP/OLED的中国和世界主要厂商,最后就当前LCD/PDP/OLED发展的市场热点进行叙述。
关键词
低温多晶硅薄膜晶体管
液晶电视
等离子电视
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职称材料
题名
基于杂质离子含量评价的LTPS-LCD面板测量体系
被引量:
1
1
作者
邓文广
许叶潞
温建辉
黄碧钦
金昌连
机构
厦门天马微电子有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第10期1388-1394,共7页
基金
国家自然科学基金青年基金(No.61401425,No.61602432)。
文摘
残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研究,并对该测量体系的稳定性、分辨能力进行了探讨。首先针对LTPS技术的面板设计了一种新的测试盒,然后采用液晶电压保持率(Voltage Holding Residual,VHR)评价盒内杂质离子含量,运用测量系统分析方法对其可靠性进行评估,最后通过对比不同紫外线(UV)照射时间与光配向烘烤时间下VHR的变化分析其分辨力。实验结果表明该测量体系的量具重复性、再现性(Gage R&R%)为10.77%,变异与流程公差(P/T)为26.93%<30%,可区分数为13>5,不同批次VHR均值维持在93%~95%,测量结果可靠、稳定,并能有效识别出VHR差异。本文设计的测试盒符合LTPS-LCD面板产业对杂质离子含量监测需求,可为工厂实际生产中杂质离子的监控提供参考。
关键词
残像
电压保持率
ltps
-
lcd
测试盒
杂质离子
Keywords
image sticking
voltage retention rate
ltps
-
lcd
test cell
impurity ion
分类号
TN873.93 [电子电信—信息与通信工程]
TB497 [一般工业技术]
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职称材料
题名
LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化
被引量:
2
2
作者
陈丽雯
叶芸
郭太良
彭涛
周秀峰
文亮
机构
福州大学物理与信息工程学院
厦门天马微电子有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第4期363-369,共7页
基金
国家863重大专项(No.2013AA030601)
福建省科技重大专项(No.2014HZ0003-1)
福建省自然科学基金(No.2014J01236)~~
文摘
为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73%以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90%,器件开态电流提升约15%。干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法。
关键词
ltps
TFT
lcd
干法刻蚀
湿法刻蚀
层间绝缘层过孔
接触电阻
器件性能
Keywords
ltps
TFT
lcd
dry etching
wet etching
via etching of interlayer dielectric
contact resistance
device performance
分类号
TN43 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
平板显示技术论坛LCD/PDP/OLED的综合比较
被引量:
3
3
作者
郑圣德
机构
上海华嘉光电技术有限公司
出处
《电子工艺技术》
2005年第5期304-307,共4页
文摘
分析比较FPD行业最具代表性的LCD/PDP/OLED的类型、用途、基本原材料和显示原理,并整理列出LCD/PDP/OLED的中国和世界主要厂商,最后就当前LCD/PDP/OLED发展的市场热点进行叙述。
关键词
低温多晶硅薄膜晶体管
液晶电视
等离子电视
Keywords
ltps
- TFT:
lcd
-TV
PDP -TV
分类号
TN1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于杂质离子含量评价的LTPS-LCD面板测量体系
邓文广
许叶潞
温建辉
黄碧钦
金昌连
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021
1
下载PDF
职称材料
2
LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化
陈丽雯
叶芸
郭太良
彭涛
周秀峰
文亮
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016
2
下载PDF
职称材料
3
平板显示技术论坛LCD/PDP/OLED的综合比较
郑圣德
《电子工艺技术》
2005
3
下载PDF
职称材料
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