-
题名动力学晶格蒙特卡洛方法模拟Cu薄膜生长
被引量：6
- 1
-
-
作者
吴子若
程鑫彬
王占山
-
机构
同济大学精密光学工程技术研究所
-
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期62-66,共5页
-
基金
国家自然科学基金(10825521)资助
-
文摘
利用动力学晶格蒙特卡洛方法模拟了Cu薄膜在Cu(100)面上的三维生长过程。模型中考虑了四个动力学过程:原子沉积、增原子迁移、双原子迁移和台阶边缘原子迁移,各动力学过程发生的概率由多体势函数确定。讨论了基底温度、沉积速率及原子覆盖率对Cu原子迁移、成核和表面岛生长等微观生长机制的影响;获得了Cu薄膜的表面形貌图并计算了表面粗糙度。模拟结果表明,随基底温度升高或沉积速率下降,岛的平均尺寸增大,数目减少,形状更加规则。低温时,Cu薄膜表现为分形的离散生长,高温时,Cu原子迁移能力增强形成密集的岛。Cu薄膜表面粗糙度随着基底温度的升高而迅速减小;当基底温度低于某一临界温度时,表面粗糙度随原子覆盖率或沉积速率的增大而增大;当基底温度超过临界温度时,表面粗糙度随原子覆盖率或沉积速率的变化很小,基本趋于稳定。
-
关键词
薄膜生长
原子迁移
klmc模拟
沉积速率
基底温度
原子覆盖率
表面粗糙度
-
Keywords
Thin film growth
Surface diffusion
klmc simulation
Deposition rate
Substrate temperature
Atom coverage
Surface roughness
-
分类号
O484.1
[理学—固体物理]
-
