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铜粉含量对亲水性固结磨料抛光垫加工性能的影响研究 被引量：9
1
作者 唐晓骁 朱永伟 +2 位作者 付杰 王成 居志兰 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2012年第4期10-13,共4页
通过向亲水性固结磨料抛光垫中添加铜粉,改善抛光垫的抛光性能,研究铜粉添加量对抛光垫的理化特性及加工K9光学玻璃的材料去除率和工件表面质量的影响。结果表明:随着铜粉添加比例的增加,抛光垫的硬度增加,其材料去除速率呈现先增大后... 通过向亲水性固结磨料抛光垫中添加铜粉,改善抛光垫的抛光性能,研究铜粉添加量对抛光垫的理化特性及加工K9光学玻璃的材料去除率和工件表面质量的影响。结果表明:随着铜粉添加比例的增加,抛光垫的硬度增加,其材料去除速率呈现先增大后减小的趋势,当铜粉质量分数为5%时,抛光垫的材料去除速率达到最大值58.18 nm/min。同时加工后K9玻璃表面粗糙度也对应地呈现出先增大后减小的趋势,粗糙度Sa最大值为9.28 nm,最小值为2.53 nm。 展开更多
关键词 铜粉 亲水性固结磨料抛光垫 k9光学玻璃 材料去除率 表面粗糙度
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固结磨料抛光K9光学玻璃的工艺实验研究 被引量：7
2
作者 林魁 朱永伟 +2 位作者 李军 李茂 李锁柱 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2010年第4期90-95,共6页
采用一种亲水性固结磨料抛光垫(FAP),通过单因素实验法,系统地研究了抛光K9光学玻璃过程中抛光时间、偏心距、压力、转速、抛光液流量及pH值等工艺参数对材料去除速率(MRR)和表面粗糙度的影响规律,并对实验结果进行了解释。结果表明:随... 采用一种亲水性固结磨料抛光垫(FAP),通过单因素实验法,系统地研究了抛光K9光学玻璃过程中抛光时间、偏心距、压力、转速、抛光液流量及pH值等工艺参数对材料去除速率(MRR)和表面粗糙度的影响规律,并对实验结果进行了解释。结果表明:随着抛光时间的延长,K9光学玻璃的MRR逐渐呈下降趋势;在抛光20min时,MRR达最大值310nm/min,且表面粗糙度降至最低值为2.73nm;选择较大的偏心距和碱性抛光液环境均有利于提高MRR;随着抛光盘转速的升高,MRR将显著增大。而在一定范围内,抛光压力和抛光液流量对MRR的影响不大。 展开更多
关键词 k9光学玻璃 固结磨料抛光垫 抛光工艺 单因素实验
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Halbach阵列与不同励磁方式的磁流变抛光特性及机理研究 被引量：2
3
作者 郭源帆 尹韶辉 黄帅 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第15期341-353,共13页
为提高平面磁流变抛光效率,首次提出了一种海尔贝克阵列励磁的平面磁流变抛光方法,并对比研究了不同励磁方式磁流变抛光系统的二维、三维磁场分布、磁性颗粒受力分布特性及其抛光性能,证明了海尔贝克阵列具有优良的励磁性能,可以实现高... 为提高平面磁流变抛光效率,首次提出了一种海尔贝克阵列励磁的平面磁流变抛光方法,并对比研究了不同励磁方式磁流变抛光系统的二维、三维磁场分布、磁性颗粒受力分布特性及其抛光性能,证明了海尔贝克阵列具有优良的励磁性能,可以实现高效平面磁流变抛光。对比试验描述了不同装置励磁下,磁流变抛光模形貌特征、抛光压力与痕迹分布、磁流变抛光性能、表面粗糙度与形貌随时间演变的规律,揭示了海尔贝克阵列励磁实现高效平面磁流变抛光的机理。抛光性能试验结果指出,使用N35牌号的钕铁硼永磁材料制造的海尔贝克阵列抛光K9光学玻璃,去除率可达到1.38 mm^(3)/min,是直线气隙磁轭的4.4倍,是N-S极交替阵列的6.9倍。仅需30 min抛光,即可获得表面粗糙度小于Ra 1 nm的超光滑表面。海尔贝克阵列性能优异,配置灵活,大大提高了磁流变抛光的效率,对其他磁流变加工工艺和磁场辅助加工工艺具有借鉴意义。 展开更多
关键词 磁流变抛光液 磁流变抛光 海尔贝克阵列 磁场 k9光学玻璃
原文传递
基于声发射信号k9光学玻璃划痕形貌及粗糙度预测 被引量：2
4
作者 胡吉雄 姜晨 郎小虎 《电子科技》 2020年第3期26-32,共7页
针对目前k9光学玻璃材料去除缺乏以声发射信号描述的问题,文中采用了基于声发射信号建立划痕形貌理论模型来描述划痕形貌及粗糙度预测的方法。该方法采用单颗随机磨粒刮头,在五轴联动机床上对k9光学玻璃进行变深度划刻声发射试验,并设... 针对目前k9光学玻璃材料去除缺乏以声发射信号描述的问题,文中采用了基于声发射信号建立划痕形貌理论模型来描述划痕形貌及粗糙度预测的方法。该方法采用单颗随机磨粒刮头,在五轴联动机床上对k9光学玻璃进行变深度划刻声发射试验,并设计带通滤波器对声发射信号进行分析处理。目标时域声发射信号幅值约0.01dB,对目标频域内声发射信号进行傅里叶变换,得到信号能量集中在60~160 kHz低频段。最后,通过发射信号划痕表面的划痕形貌模型计算划痕粗糙度,并将结果与显微镜测量出的粗糙度值做对比。实验结果显示,新方法的预测值更为接近真实值。 展开更多
关键词 k9光学玻璃 声发射信号 目标频域 能量集中 表面形貌 划痕粗糙度
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使用雾化液的K9光学玻璃化学机械磨削 被引量：1
5
作者 戴恒震 油艳红 +1 位作者 戴智弘 金洙吉 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2016年第4期6-12,共7页
根据K9光学玻璃的物理化学特性,在干式化学机械磨削(chemical-mechanical grinding,CMG)的基础上,用超声雾化方法产生NaHCO3雾化液参与磨削,研制了适合湿式CMG的磨具,对K9光学玻璃试样进行了化学机械磨削试验,得到了雾化环境下磨削结果... 根据K9光学玻璃的物理化学特性,在干式化学机械磨削(chemical-mechanical grinding,CMG)的基础上,用超声雾化方法产生NaHCO3雾化液参与磨削,研制了适合湿式CMG的磨具,对K9光学玻璃试样进行了化学机械磨削试验,得到了雾化环境下磨削结果最优的CeO2型磨具。在此基础上,采用正交试验法,对比分析工件转速、磨具转速以及雾化液的pH值对K9光学玻璃表面粗糙度和材料去除率的影响。结果表明:工件表面粗糙度受雾化液的酸碱度的影响最强,磨具转速次之,工件转速最弱;对材料去除率的影响,雾化液的酸碱度最强,工件转速次之,磨具转速最弱。使用适量的雾化液可提高加工质量和速度,消除干式CMG产生的粉尘污染,这种方法适于对K9光学玻璃的精加工。 展开更多
关键词 k9光学玻璃 磨具 化学机械磨削 超声雾化
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环形气囊抛光K9光学玻璃的工艺实验研究 被引量：1
6
作者 王广林 王新海 马瑾 《机械设计与制造工程》 2018年第4期121-123,共3页
气囊抛光是一种发展潜力大的抛光技术,其优点在于材料去除量均匀、抛光效率高、吻合性好。采用环形气囊抛光实验平台,在研究了环形气囊压强、不同粗糙度初始基底对K9光学玻璃表面抛光质量影响规律的基础上,提出了一种全新最佳工艺参数... 气囊抛光是一种发展潜力大的抛光技术,其优点在于材料去除量均匀、抛光效率高、吻合性好。采用环形气囊抛光实验平台,在研究了环形气囊压强、不同粗糙度初始基底对K9光学玻璃表面抛光质量影响规律的基础上,提出了一种全新最佳工艺参数组合的思路:分阶段进行压强数值的选定,进行组合工艺实验。实验研究表明,随着气囊压强的增大,K9光学玻璃的抛光效率得到了提高,初始基底的表面粗糙度值越小,K9光学玻璃的抛光效率和质量越高。 展开更多
关键词 k9光学玻璃 环形气囊 抛光工艺 表面粗糙度值
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光学玻璃的高效精密划切工艺研究 被引量：1
7
作者 尹韶辉 曹俊明 +4 位作者 龚胜 梁振廷 胡天 陈逢军 黄帅 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2019年第1期54-59,共6页
利用自主研发的FAD1210高精高效划片机,通过单因素试验法研究了装夹紧固方式、划片刀种类、切割水流量对K9光学玻璃划切性能的影响,且检测其崩边宽度及表面粗糙度来评价划切效果。结果表明:玻璃基板的紧固方式效果较好,UV膜次之,高温硅... 利用自主研发的FAD1210高精高效划片机,通过单因素试验法研究了装夹紧固方式、划片刀种类、切割水流量对K9光学玻璃划切性能的影响,且检测其崩边宽度及表面粗糙度来评价划切效果。结果表明:玻璃基板的紧固方式效果较好,UV膜次之,高温硅胶带较差;树脂结合剂划片刀划切玻璃的效果较理想,其崩边宽度较小、表面粗糙度较好,金属刀次之,电镀刀效果较差;切割水流量增大,玻璃崩边宽度和表面粗糙度逐渐减小,当切割水流量大于4.5 L/min时,划切效果趋于稳定。在玻璃基板紧固方式、树脂划片刀和切割水流量4.5 L/min的优化参数下划切K9光学玻璃,划切效果最佳,崩边宽度为5.8μm,表面粗糙度R_a为10.5 nm。 展开更多
关键词 k9光学玻璃 崩边宽度 表面粗糙度 划片刀
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脉冲XeCl激光与K9光学玻璃相互作用中反射光波形的测量与分析
8
作者 谢永杰 赵学庆 +3 位作者 王立君 刘晶儒 易爱平 王龙华 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期71-73,共3页
选用 K9光学玻璃作为靶材料 ,在不同环境气压条件下利用高功率 Xe Cl准分子激光进行了打靶实验 ,测量得到了不同气压条件下靶面的反射光波形。分析反射光波形表明 ,气压对
关键词 高功率准分子激光 激光物质 相互作用 反射激光波形 等离子体 脉冲XeCl激光 靶材料 测量 k9光学玻璃
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