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快速热氮化SiO_2膜陷阱特性的研究 被引量:11
1
作者 陈蒲生 杨光有 刘百勇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第6期465-469,共5页
本文采用雪崩热电子注入技术研究了快速热氯化SiO_2膜和氮化后再氧化SiO_2膜的体电子陷阱和界面态特性。揭示出电子陷阱的起源和放电机理;观察并解释了界面态密度随氮化时间以及平带电压漂移随注入时间的变化关系;提出降低体电子陷阱密... 本文采用雪崩热电子注入技术研究了快速热氯化SiO_2膜和氮化后再氧化SiO_2膜的体电子陷阱和界面态特性。揭示出电子陷阱的起源和放电机理;观察并解释了界面态密度随氮化时间以及平带电压漂移随注入时间的变化关系;提出降低体电子陷阱密度和界面态密度的有效途径。 展开更多
关键词 SIO2膜 热氮化 电子陷阱 电子注入
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基于光子晶体塔姆态的带隙分裂 被引量:8
2
作者 陈泽锋 韩鹏 陈溢杭 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期158-162,共5页
将由两个一维介质层光子晶体组成的异质结拓展为超晶格结构,分析了该结构的能带和透射谱。该超晶格结构可以产生多个界面隧穿态,它们之间的耦合可产生新的通带。研究结果表明,该通带的宽度随光子晶体的周期数变化,而通带的中心位置保持... 将由两个一维介质层光子晶体组成的异质结拓展为超晶格结构,分析了该结构的能带和透射谱。该超晶格结构可以产生多个界面隧穿态,它们之间的耦合可产生新的通带。研究结果表明,该通带的宽度随光子晶体的周期数变化,而通带的中心位置保持不变。当光子晶体周期数取特定值时,这个通带将发生分裂,在带间产生零相位带隙或π相位带隙。 展开更多
关键词 材料 光子晶体 一维光子晶体 界面态 塔姆态
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用XPS法研究硫化锌薄膜 被引量:7
3
作者 陈振湘 柳兆洪 +2 位作者 刘瑞堂 王余姜 邱伟彬 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期297-301,共5页
运用XPS法研究ZnS:Cu,Cl,Er薄膜器件的界面态及所掺激活剂的纵向分布,认为氧吸附形成的ZnS薄膜的表面构态是产生薄膜界面态和界面陷阱能级的主要原因,对研究薄膜器件的激发过程有参考意义。
关键词 薄膜 氧吸附 界面态 电致发光器件
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SiC MOSFET阈值电压漂移评测方法研究 被引量:6
4
作者 吴维丽 刘奥 郭锐 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2021年第4期313-318,共6页
报道了对SiC MOSFET阈值电压漂移评测方法的研究结果。在器件物理层面上分析了造成器件阈值电压发生漂移的原因,MOS界面陷阱、近界面陷阱、固定电荷以及可移动电荷都会影响阈值电压的漂移。为了衡量器件工艺水平,精准评测器件的阈值电... 报道了对SiC MOSFET阈值电压漂移评测方法的研究结果。在器件物理层面上分析了造成器件阈值电压发生漂移的原因,MOS界面陷阱、近界面陷阱、固定电荷以及可移动电荷都会影响阈值电压的漂移。为了衡量器件工艺水平,精准评测器件的阈值电压漂移量,搭建测试平台进行了阈值电压漂移量测试。通过试验发现,阈值电压在应力的作用下既会发生漂移也会恢复,偏置电压去除与阈值电压测试之间的时间间隔非常重要。对阈值电压漂移量的测试应在同样的电压扫描方式、同样的时间间隔以及相同的温度下进行。 展开更多
关键词 SiC MOSFET 阈值电压漂移 界面态
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非晶硅薄膜太阳能电池应用分析 被引量:6
5
作者 金韦利 姜礼华 《节能》 2010年第3期21-24,共4页
介绍非晶硅薄膜太阳能电池,分析其光致衰退效应与影响光电性能的各种因素。总结并展望了优化非晶硅太阳能电池的各种技术。
关键词 非晶硅薄膜 光致衰退效应 界面态 太阳能电池
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硅片表面粗糙度对界面态的影响 被引量:6
6
作者 陈树华 武华 +3 位作者 周弘毅 崔文凯 马云飞 郭霞 《电子科技》 2013年第9期50-53,共4页
针对硅片研磨和抛光产生的亚表面损伤层会影响载流子寿命及界面态的特点,采用机械减薄、机械抛光、化学机械抛光(CMP)制备出不同粗糙度的样品。通过傅里叶红外透射谱分析和C-V测试分析表明,粗糙度大的硅片表面因表面损伤大,具有更低的... 针对硅片研磨和抛光产生的亚表面损伤层会影响载流子寿命及界面态的特点,采用机械减薄、机械抛光、化学机械抛光(CMP)制备出不同粗糙度的样品。通过傅里叶红外透射谱分析和C-V测试分析表明,粗糙度大的硅片表面因表面损伤大,具有更低的红外透射率和更高的界面态密度。 展开更多
关键词 粗糙度 界面态 傅里叶变换红外透射谱 C—V测试
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注氟MOSFET电离辐射响应特性 被引量:6
7
作者 严荣良 张国强 +5 位作者 余学锋 高文钰 任迪远 赵元富 胡浴红 王英明 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1992年第4期348-352,共5页
对氢氧合成栅氧化后注F的MOSFET进行了γ射线辐照试验,分析了不同注F剂量的MOSFET电离辐射响应特性。结果表明,在1×10^(15)~1×10^(16)F/cm^2F注量范围内,注F能够明显抑制辐射感生氧化物电荷和界面态的增长,且F注量越高,抑制... 对氢氧合成栅氧化后注F的MOSFET进行了γ射线辐照试验,分析了不同注F剂量的MOSFET电离辐射响应特性。结果表明,在1×10^(15)~1×10^(16)F/cm^2F注量范围内,注F能够明显抑制辐射感生氧化物电荷和界面态的增长,且F注量越高,抑制能力越强,F的注入能减少工艺过程所带来的氧化物电荷和界面态。用Si一F结键替代其它在辐射过程中易成为电荷陷阱的应力键模型对实验结果进行了讨论。可以预测,F在Si/SiO_2界面附近和SiO_2中的行为直接与MOS结构的辐射响应相对应,而F的行为依赖于注F工艺条件。 展开更多
关键词 MOSFET 界面态 电离辐射 MOS器件
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两种注F层面的PMOSFET电离辐射响应特性 被引量:5
8
作者 张国强 余学锋 +5 位作者 高剑侠 任迪远 严荣良 赵元富 胡浴红 王英明 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第2期165-169,共5页
报道了栅氧化淀积多晶硅前后分别注入43keVF离子的Si栅P沟MOSFET电离辐射响应关系。结果发现,多晶硅面注F具有较强的抑制辐射感生阈电压漂移,控制氧化物电荷和界面态生长的能力。用多晶硅面注F带入栅介质较少注入缺陷和较多替代辐射敏... 报道了栅氧化淀积多晶硅前后分别注入43keVF离子的Si栅P沟MOSFET电离辐射响应关系。结果发现,多晶硅面注F具有较强的抑制辐射感生阈电压漂移,控制氧化物电荷和界面态生长的能力。用多晶硅面注F带入栅介质较少注入缺陷和较多替代辐射敏感应力键的F离子模型对实验结果进行了讨论。 展开更多
关键词 阈电压 界面态 电离辐射 MOS器件
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界面态对聚酰亚胺/TNSs纳米复合材料介电和绝缘性能的影响 被引量:5
9
作者 朱聪聪 殷景华 +5 位作者 李佳龙 赵贺 李彦鹏 岳东 刘晓旭 冯宇 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2021年第12期4354-4362,共9页
纳米复合材料具有优异的介电、热学及力学性能,广泛用于微电子、高电压绝缘等领域,二维纳米填料具有长纵比大、表面能低,以及易于在基体内分散等特点,是聚合物基复合材料的研究热点。该文通过原位聚合法制备不同组分的二氧化钛纳米片(TN... 纳米复合材料具有优异的介电、热学及力学性能,广泛用于微电子、高电压绝缘等领域,二维纳米填料具有长纵比大、表面能低,以及易于在基体内分散等特点,是聚合物基复合材料的研究热点。该文通过原位聚合法制备不同组分的二氧化钛纳米片(TNSs)/聚酰亚胺(PI)纳米复合薄膜。研究结果表明,TNSs表面含有羟基且均匀分散在PI基体内,通过调控TNSs组分可以得到低介电常数、高击穿场强的纳米复合材料。无机–有机界面态影响复合材料的介电及绝缘性能,TNSs表面羟基与PI分子链中氧原子形成氢键,构建界面键合区,界面键合区内偶极极化、电子和离子极化受到抑制,导致介电常数降低。界面键合区抑制极化与过渡区界面极化共同影响复合材料介电常数的变化。另外,界面键合区形成的深陷阱捕获载流子导致复合材料击穿场强提升。该文工作为设计和制备低介电常数、高击穿场强纳米复合薄膜提供了一条有效的途径。 展开更多
关键词 二氧化钛纳米片 聚酰亚胺 介电常数 击穿场强 界面态
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GaAs MESFET的热电子应力退化 被引量:5
10
作者 朱炜容 黄云 +1 位作者 黄美浅 钮利荣 《电子产品可靠性与环境试验》 2005年第6期32-35,共4页
进行GaAs MESFET的热电子应力试验,在24V≤V_(DS)≤28V,-5.5V≤V_(CS)≤-4V 的应力条件下,热电子效应将导致 GaAs MESFET 直流参数的严重退化。退化模式主要表现为饱和漏电流 I_(DSS)减小,跨导 g_m 减小, 夹断电压 V_P 增大,击穿电压... 进行GaAs MESFET的热电子应力试验,在24V≤V_(DS)≤28V,-5.5V≤V_(CS)≤-4V 的应力条件下,热电子效应将导致 GaAs MESFET 直流参数的严重退化。退化模式主要表现为饱和漏电流 I_(DSS)减小,跨导 g_m 减小, 夹断电压 V_P 增大,击穿电压增大。从微波性能方面来看,热电子效应器件的输出功率增益大幅度下降。退化机理主要是栅漏区表面及栅边缘俘获负电荷。 展开更多
关键词 砷化镓 金属-半导体场效应晶体管 热电子效应 界面态 退化
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多孔硅锗的制备及其近红外发光增强 被引量:5
11
作者 吴克跃 黄伟其 许丽 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期585-588,共4页
用激光照射辅助电化学刻蚀硅锗合金样品能够形成多种低维纳米结构。在硅锗合金上形成的多孔状结构在波长为725 nm处有很强的光致发光(PL)峰,PL的增强效应不能单独用量子受限模型来解释。我们提出新的模型来解释这种低维纳米结构的PL增... 用激光照射辅助电化学刻蚀硅锗合金样品能够形成多种低维纳米结构。在硅锗合金上形成的多孔状结构在波长为725 nm处有很强的光致发光(PL)峰,PL的增强效应不能单独用量子受限模型来解释。我们提出新的模型来解释这种低维纳米结构的PL增强效应。 展开更多
关键词 多孔硅锗 低维纳米结构 PL增强 界面态
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Lattice structures and electronic properties of WZ-CuInS2/WZ-CdS interface from first-principles calculations
12
作者 柳红霞 汤富领 +3 位作者 薛红涛 张宇 程育汶 冯煜东 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第12期207-216,共10页
Using the first-principles plane-wave calculations within density functional theory, the perfect bi-layer and monolayer terminated WZ-CIS (100)/WZ-CdS (100) interfaces are investigated. After relaxation the atomic... Using the first-principles plane-wave calculations within density functional theory, the perfect bi-layer and monolayer terminated WZ-CIS (100)/WZ-CdS (100) interfaces are investigated. After relaxation the atomic positions and the bond lengths change slightly on the two interfaces. The WZ-CIS/WZ-CdS interfaces can exist stably, when the interface bonding energies are -0.481 J/m2 (bi-layer terminated interface) and -0.677 J/m2 (monolayer terminated interface). Via analysis of the density of states, difference charge density and Bader charges, no interface state is found near the Fermi level. The stronger adhesion of the monolayer terminated interface is attributed to more electron transformations and orbital hybridizations, promoting stable interfacial bonds between atoms than those on a bi-layer terminated interface. 展开更多
关键词 first-principles calculation WZ-CIS/WZ-CdS interface density of states interface bonding en-ergy interface states
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Lattice structures and electronic properties of CIGS/CdS interface:First-principles calculations 被引量:2
13
作者 汤富领 刘冉 +4 位作者 薛红涛 路文江 冯煜东 芮执元 黄敏 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第7期661-666,共6页
Using first-principles calculations within density functional theory, we study the atomic structures and electronic properties of the perfect and defective (2VCu+ Incu) CulnGaSe2/CdS interfaces theoretically, espec... Using first-principles calculations within density functional theory, we study the atomic structures and electronic properties of the perfect and defective (2VCu+ Incu) CulnGaSe2/CdS interfaces theoretically, especially the interface states. We find that the local lattice structure of (2VCu+ InCu) interface is somewhat disorganized. By analyzing the local density of states projected on several atomic layers of the two interfaces models, we find that for the (2VCu+InCu) interface the interface states near the Fermi level in CulnGaSe2 and CdS band gap regions are mainly composed of interracial Se-4p, Cu-3d and S-3p orbitals, while for the perfect interface there are no clear interface states in the CulnGaSe2 region but only some interface states which are mainly composed of S-3p orbitals in the valance band of CdS region. 展开更多
关键词 first-principles calculation CulnGaSe2/CdS density of states interface states
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退火工艺对注F MOSFET辐照特性的影响 被引量:4
14
作者 张国强 余学锋 +5 位作者 高文钰 任迪远 严荣良 赵元富 胡浴红 王英明 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第1期45-49,共5页
比较了注F后900℃ N_2退火30分钟和950℃ N_2退火10分钟两种退火方式制作的P沟MOSFET和N沟MOSFET的电离辐照行为。结果发现,注F后900℃ N_2退火30分钟具有较强的抑制辐射感生氧化物电荷和界面态增长的能力。用退火工艺影响栅介质中缺陷... 比较了注F后900℃ N_2退火30分钟和950℃ N_2退火10分钟两种退火方式制作的P沟MOSFET和N沟MOSFET的电离辐照行为。结果发现,注F后900℃ N_2退火30分钟具有较强的抑制辐射感生氧化物电荷和界面态增长的能力。用退火工艺影响栅介质中缺陷的消除模型对实验结果进行了讨论。 展开更多
关键词 氧化物 电离辐射 退火 工艺 MOSFET
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NBT导致的深亚微米PMOS器件退化与物理机理 被引量:4
15
作者 刘红侠 郑雪峰 郝跃 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期1373-1377,共5页
研究了深亚微米PMOS器件在负偏压温度 (negativebiastemperature,NBT)应力前后的电流电压特性随应力时间的退化 ,重点分析了NBT应力对PMOS器件阈值电压漂移的影响 ,通过实验证明了在栅氧化层和衬底界面附近的电化学反应和栅氧化层内与... 研究了深亚微米PMOS器件在负偏压温度 (negativebiastemperature,NBT)应力前后的电流电压特性随应力时间的退化 ,重点分析了NBT应力对PMOS器件阈值电压漂移的影响 ,通过实验证明了在栅氧化层和衬底界面附近的电化学反应和栅氧化层内与氢相关的元素的扩散 ,是PMOS器件中NBT效应产生的主要原因 .指出NBT导致的PMOS器件退化依赖于反应机理和扩散机理两种机理的平衡 . 展开更多
关键词 器件退化 深亚微米 阈值电压漂移 栅氧化层 NBT 衬底 物理机理 依赖 影响 元素
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玻璃中半导体CdSSe量子点的界面态发光 被引量:4
16
作者 吴畅书 田强 +2 位作者 刘惠民 王一红 桑丽华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期481-484,共4页
研究了玻璃中半导体 Cd SSe量子点的界面态发光 .在 10 K温度下 ,通过 PL 和吸收光谱实验 ,研究了半导体Cd SSe量子点 ,并进行了变温测量 .分析了半导体量子点的量子尺寸效应、温度对 PL 和吸收光谱的影响 .实验发现PL 谱中在 1.84e V和... 研究了玻璃中半导体 Cd SSe量子点的界面态发光 .在 10 K温度下 ,通过 PL 和吸收光谱实验 ,研究了半导体Cd SSe量子点 ,并进行了变温测量 .分析了半导体量子点的量子尺寸效应、温度对 PL 和吸收光谱的影响 .实验发现PL 谱中在 1.84e V和 1.91e V有两个尖锐的发光峰 ,且峰位不随量子点尺寸大小变化而漂移 ,这是来源于与量子点尺寸无关的界面态的发光 ;同时 ,界面态的发光强度应与量子点半径成反比 ,实验结果与之相符 . 展开更多
关键词 玻璃 半导体量子点 界面态 光致发光谱 光吸收谱 CdSSe
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面向高性能GaN基功率电子的器件物理研究 被引量:4
17
作者 黄森 杨树 +6 位作者 唐智凯 化梦媛 王鑫华 魏珂 包琦龙 刘新宇 陈敬 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2016年第10期84-99,共16页
氮化镓(GaN)功率电子器件具有高击穿电压、高工作频率、高电流输出能力以及耐高温等优点,有望成为下一代高效电源管理系统芯片的最佳候选之一.本文从界面态起源、极化能带工程以及可靠性机理等角度分析了GaN基功率电子器件所面临的器件... 氮化镓(GaN)功率电子器件具有高击穿电压、高工作频率、高电流输出能力以及耐高温等优点,有望成为下一代高效电源管理系统芯片的最佳候选之一.本文从界面态起源、极化能带工程以及可靠性机理等角度分析了GaN基功率电子器件所面临的器件物理挑战,包括栅极阈值不稳定性、高压动态导通电阻退化、高阈值栅技术和栅介质长期可靠性等关键科学问题和技术瓶颈.分析指出(Al)GaN表面的无序氧化可能是GaN基器件表/界面态的主要来源,并有针对性地介绍了界面氮化插入层、极性等离子增强原子层沉积AlN薄膜(Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposited AlN,PEALD-AlN)钝化、F离子注入与高温栅槽刻蚀增强型技术,以及低压化学气相沉积SiNx(Low-Pressure Chemical Vapor Deposited SiNx,LPCVD-SiNx)和O3-Al2O3高绝缘栅介质等提高GaN基增强型器件性能的新型工艺技术.系统分析了国际有关高性能GaN功率电子器件研究的最新进展,及未来面临的机遇和挑战. 展开更多
关键词 氮化镓 功率电子器件 界面态 动态导通电阻 增强型 栅介质 可靠性
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Tailoring edge and interface states in topological metastructures exhibiting the acoustic valley Hall effect 被引量:1
18
作者 Jiao Wang Yang Huang WeiQiu Chen 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第2期82-92,共11页
In this study, we investigate the acoustic topological insulator or topological metastructure, where an acoustic wave can exist only in an edge or interface state instead of propagating in bulk. Breaking the structura... In this study, we investigate the acoustic topological insulator or topological metastructure, where an acoustic wave can exist only in an edge or interface state instead of propagating in bulk. Breaking the structural symmetry enables the opening of the Dirac cone in the band structure and the generation of a new band gap, wherein a topological edge or interface state emerges.Further, we systematically analyze two types of topological states that stem from the acoustic valley Hall effect mechanism;one type is confined to the boundary, whereas the other type can be observed at the interface between two topologically different structures. Results denote that the selection of different boundaries along with appropriately designed interfaces provides the acoustic waves in the band gap range with abilities of one-way propagation, dual-channel propagation, immunity from backscattering at sharp corners, and/or transition between propagation at interfaces and boundaries. Furthermore, we show that the acoustic wave propagation paths can be tailored in diverse and arbitrary ways by combing the two aforementioned types of topological states. 展开更多
关键词 acoustic crystals valley Hall effect edge states interface states Dirac cone
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Temperature-dependent bias-stress-induced electrical instability of amorphous indium-gallium-zinc-oxide thin-film transistors 被引量:2
19
作者 钱慧敏 于广 +7 位作者 陆海 武辰飞 汤兰凤 周东 任芳芳 张荣 郑有炓 黄晓明 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第7期463-467,共5页
The time and temperature dependence of threshold voltage shift under positive-bias stress(PBS) and the following recovery process are investigated in amorphous indium-gallium-zinc-oxide(a-IGZO) thin-film transisto... The time and temperature dependence of threshold voltage shift under positive-bias stress(PBS) and the following recovery process are investigated in amorphous indium-gallium-zinc-oxide(a-IGZO) thin-film transistors. It is found that the time dependence of threshold voltage shift can be well described by a stretched exponential equation in which the time constant τ is found to be temperature dependent. Based on Arrhenius plots, an average effective energy barrier Eτ stress= 0.72 eV for the PBS process and an average effective energy barrier Eτ recovery= 0.58 eV for the recovery process are extracted respectively. A charge trapping/detrapping model is used to explain the threshold voltage shift in both the PBS and the recovery process. The influence of gate bias stress on transistor performance is one of the most critical issues for practical device development. 展开更多
关键词 amorphous indium gallium zinc oxide thin-film transistors positive bias stress trapping model interface states
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Stimulated photoluminescence emission and trap states in Si/SiO_2 interface formed by irradiation of laser 被引量:2
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作者 黄伟其 许丽 +5 位作者 王海旭 金峰 吴克跃 刘世荣 秦朝建 秦水介 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第5期1817-1820,共4页
Stimulated photoluminescence (PL) emission has been observed from an oxide structure of silicon when optically excited by a radiation of 514nm laser. Sharp twin peaks at 694 and 692nm are dominated by stimulated emi... Stimulated photoluminescence (PL) emission has been observed from an oxide structure of silicon when optically excited by a radiation of 514nm laser. Sharp twin peaks at 694 and 692nm are dominated by stimulated emission, which can be demonstrated by its threshold behaviour and linear transition of emission intensity as a function of pump power. The oxide structure is formed by laser irradiation on silicon and its annealing treatment. A model for explaining the stimulated emission is proposed, in which the trap states of the interface between an oxide of silicon and porous nanocrystal play an important role. 展开更多
关键词 interface states stimulated emission oxide structure of silicon laser irradiation
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