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Photoluminescence and lasing properties of InAs/GaAs quantum dots grown by metal-organic chemical vapour deposition
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作者 梁松 朱洪亮 +7 位作者 潘教青 赵玲娟 王鲁峰 周帆 舒惠云 边静 安欣 王圩 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第11期4300-4304,共5页
Photoluminescence (PL) and lasing properties of InAs/GaAs quantum dots (QDs) with different growth procedures prepared by metalorganic chemical vapour deposition are studied. PL measurements show that the low grow... Photoluminescence (PL) and lasing properties of InAs/GaAs quantum dots (QDs) with different growth procedures prepared by metalorganic chemical vapour deposition are studied. PL measurements show that the low growth rate QD sample has a larger PL intensity and a narrower PL line width than the high growth rate sample. During rapid thermal annealing, however, the low growth rate sample shows a greater blueshift of PL peak wavelength. This is caused by the larger InAs layer thickness which results from the larger 2-3 dimensional transition critical layer thickness for the QDs in the low-growth-rate sample. A growth technique including growth interruption and in-situ annealing, named indium flush method, is used during the growth of GaAs cap layer, which can flatten the GaAs surface effectively. Though the method results in a blueshift of PL peak wavelength and a broadening of PL line width, it is essential for the fabrication of room temperature working QD lasers. 展开更多
关键词 metal-organic chemical vapour deposition inas/gaas quantum dots laser
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InAs/GaAs量子点生长中应力分析
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作者 杨园静 涂洁磊 +1 位作者 李雷 姚丽 《文山学院学报》 2013年第3期42-44,48,共4页
围绕InAs(InGaAs)/GaA叠层量子点电池的制作,本文通过文献研究和对近邻面生长实验研究认为,InAs/GaAs量子点生长形貌和特性受生长环境条件和生长条件影响。其中,客观、不可改变的外延层与衬底晶格常数、生长台面、超晶格结构等环境条件... 围绕InAs(InGaAs)/GaA叠层量子点电池的制作,本文通过文献研究和对近邻面生长实验研究认为,InAs/GaAs量子点生长形貌和特性受生长环境条件和生长条件影响。其中,客观、不可改变的外延层与衬底晶格常数、生长台面、超晶格结构等环境条件对量子点生长最为重要。这些环境条件通过生长应力,决定了量子点生长中的有序成核、生长、合并,直至出现缺陷的多晶体生长,其作用贯穿整个量子点生长过程。 展开更多
关键词 inas gaas量子点 SK模式生长 量子点生长因素 应变作用 量子点叠层电池
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In_(0.2)Ga_(0.8)As-GaAs复合应力缓冲层上的1.3μm InAs/GaAs自组织量子点
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作者 方志丹 龚政 +2 位作者 苗振华 牛智川 沈光地 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期324-327,共4页
用光荧光谱和原子力显微镜测试技术系统研究了在2 nm In0.2Ga0.8As和xML GaAs的复合应力缓冲层上生长的InAs/GaAs自组织量子点的发光特性和表面形貌.采用In0.2Ga0.8As与薄层GaAs复合的应力缓冲层,由于减少了晶格失配度致使量子点密度从... 用光荧光谱和原子力显微镜测试技术系统研究了在2 nm In0.2Ga0.8As和xML GaAs的复合应力缓冲层上生长的InAs/GaAs自组织量子点的发光特性和表面形貌.采用In0.2Ga0.8As与薄层GaAs复合的应力缓冲层,由于减少了晶格失配度致使量子点密度从约1.7×109cm-2显著增加到约3.8×109cm-2.同时,复合层也有利于提高量子点中In的组份,使量子点的高宽比增加,促进量子点发光峰红移.对于x=10 ML的样品室温下基态发光峰达到1350 nm. 展开更多
关键词 inas/gaas量子点 复合应力缓冲层 光荧光 原子力显微镜
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InAs/GaAs量子点1.3μm单光子发射特性
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作者 张志伟 赵翠兰 孙宝权 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第23期219-225,共7页
采用双层耦合量子点的分子束外延生长技术生长了InAs/GaAs量子点样品,把量子点的发光波长成功地拓展到1.3μm.采用光刻的工艺制备了直径为3μm的柱状微腔,提高了量子点荧光的提取效率.在低温5 K下,测量得到量子点激子的荧光寿命约为1 ns... 采用双层耦合量子点的分子束外延生长技术生长了InAs/GaAs量子点样品,把量子点的发光波长成功地拓展到1.3μm.采用光刻的工艺制备了直径为3μm的柱状微腔,提高了量子点荧光的提取效率.在低温5 K下,测量得到量子点激子的荧光寿命约为1 ns;单量子点荧光二阶关联函数为0.015,显示单量子点荧光具有非常好的单光子特性;利用迈克耳孙干涉装置测量得到单光子的相干时间为22 ps,对应的谱线半高全宽度为30μeV,且荧光谱线的线型为非均匀展宽的高斯线型. 展开更多
关键词 inas/gaas量子点 1.3μm 单光子发射
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InAs/GaAs量子点中间带太阳电池的理论研究与优化
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作者 潘保瑞 唐吉玉 +2 位作者 朱永安 何右青 陆旭兵 《半导体光电》 CAS 北大核心 2016年第2期161-164,169,共5页
基于InAs/GaAs量子点中间带太阳电池(QD-IBSC)结构和载流子漂移扩散理论建立了计算电流密度与静电势的数学模型,从理论上分析了量子点中间带太阳电池的电压电流特性,定量讨论了量子点层厚度、温度以及n型掺杂对电压电流特性的影响。... 基于InAs/GaAs量子点中间带太阳电池(QD-IBSC)结构和载流子漂移扩散理论建立了计算电流密度与静电势的数学模型,从理论上分析了量子点中间带太阳电池的电压电流特性,定量讨论了量子点层厚度、温度以及n型掺杂对电压电流特性的影响。模拟结果表明:在i层厚度取400nm时转化效率达到最大值14.01%;温度会对量子点中间带太阳电池的电压电流特性产生影响,温度在300-350K范围内,开路电压Voc随温度的升高而明显减小,短路电流Jsc几乎不变;对i区进行n型掺杂会抑制量子点层发挥作用。 展开更多
关键词 太阳电池 inas/gaas量子点 漂移扩散 I-V特性 中间带太阳电池
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p型掺杂1.3μm InAs/GaAs量子点激光器的最大模式增益特性的研究 被引量:1
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作者 季海铭 曹玉莲 +3 位作者 杨涛 马文全 曹青 陈良惠 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期1896-1900,共5页
对p型掺杂1.3μm InAs/GaAs量子点激光器的最大模式增益进行了实验和理论分析.实验上,测量了不同腔长激光器阈值电流密度与总损耗的对应关系,拟合出的最大模式增益为17.5cm-1,与相同结构非掺杂量子点激光器的最大模式增益一致.同时理论... 对p型掺杂1.3μm InAs/GaAs量子点激光器的最大模式增益进行了实验和理论分析.实验上,测量了不同腔长激光器阈值电流密度与总损耗的对应关系,拟合出的最大模式增益为17.5cm-1,与相同结构非掺杂量子点激光器的最大模式增益一致.同时理论分析表明,p型掺杂对InAs/GaAs量子点激光器的最大模式增益并无影响,并且最大模式增益的计算结果与实验值相符.具有较小高度或高宽比的量子点能达到更高的最大模式增益,而较高的最大模式增益对p型掺杂1.3μm InAs/GaAs自组织量子点激光器在光通信系统中的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 最大模式增益 P型掺杂 inas/gaas量子点激光器
原文传递
Simulation and Analysis of Carrier Dynamics in the InAs/GaAs Quantum Dot Laser, Based upon Rate Equations
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作者 Ahmadreza Daraei Seyed Mohsen Izadyar Naser Chenarani 《Optics and Photonics Journal》 2013年第1期112-116,共5页
In this paper, simulation of InAs/GaAs quantum dot (QD) laser is performed based upon a set of eight rate equations for the carriers and photons in five energy states. Carrier dynamics in these lasers were under analy... In this paper, simulation of InAs/GaAs quantum dot (QD) laser is performed based upon a set of eight rate equations for the carriers and photons in five energy states. Carrier dynamics in these lasers were under analysis and the rate equations are solved using 4th order Runge-Kutta method. We have shown that by increasing injected current to the active medium of laser, switching-on and stability time of the system would decrease and power peak and stationary power will be increased. Also, emission in any state will start when the lower state is saturated and remain steady. The results including P-I characteristic curve for the ground state (GS), first excited state (ES1), second excited state (ES2) and output power of the QD laser will be presented. 展开更多
关键词 inas/gaas quantum dot Laser Simulation CARRIER DYNAMICS 4th Order RUNGE-KUTTA Method
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