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空心阴极离子镀沉积Ti(CN)的最佳工艺参数及其耐磨性能研究 被引量：4
1
作者 陈罡 谭俊 +1 位作者 朱绍华 张振学 《表面工程》 CSCD 1997年第4期25-28,共4页
运用正交试验法进行了空心阴极离子镀（HCD）沉积Ti（CN）最佳工艺参数的研究。采用反应气体总分压、乙炔气与氮气的分压比及烘烤温度作为试验的三个变化的因素。比较了Ti（CN）、TiN及TiC的耐磨性能，结果表明Ti（CN）膜比TiC、TiN膜... 运用正交试验法进行了空心阴极离子镀（HCD）沉积Ti（CN）最佳工艺参数的研究。采用反应气体总分压、乙炔气与氮气的分压比及烘烤温度作为试验的三个变化的因素。比较了Ti（CN）、TiN及TiC的耐磨性能，结果表明Ti（CN）膜比TiC、TiN膜性能更优异。用X射线衍射（XRD）分析了Ti（CN）膜层的相结构及组成。 展开更多
关键词 离子镀 最佳工艺参数 空心阴极 耐磨性能 膜层 相结构 分压比 反应气体 乙炔气 CN
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