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O_3/H_2O_2深度处理印染废水二级出水 被引量:8
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作者 严一超 张耀斌 《环境工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第11期5281-5287,共7页
采用O3/H2O2高级氧化工艺深度处理印染废水二级出水,考察了不同反应条件对O3/H2O2工艺的影响,并且对污水二级出水有机物(Ef OM)的性质和去除行为进行了表征分析。结果表明,在p H=9,臭氧进气流量0.2 L/min,臭氧浓度116 mg/L,反应时间100 ... 采用O3/H2O2高级氧化工艺深度处理印染废水二级出水,考察了不同反应条件对O3/H2O2工艺的影响,并且对污水二级出水有机物(Ef OM)的性质和去除行为进行了表征分析。结果表明,在p H=9,臭氧进气流量0.2 L/min,臭氧浓度116 mg/L,反应时间100 min,H2O2投加量9.79 mmol/L时,COD和色度去除率分别为82.2%、96.9%,B/C(BOD5/COD)由初始的0.10提升到0.32。此外,三维荧光光谱(3DEEM)、相对分子质量分布(MWD)以及亲疏水性分布分析表明,处理后Ef OM的荧光特性发生变化,低分子量物质大量增加,亲疏水性分布也有所改变。 展开更多
关键词 o3/ h2o2印染废水生化出水 深度处理 有机物去除行为
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