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Ge纳米粒子制备技术的研究进展
1
作者
叶爽
杨杰
杨宇
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第9期30-34,41,共6页
Ge纳米粒子由于其小尺寸特性而展现出的良好的光学性能吸引着人们对其不断进行深入探索。综述了Ge纳米粒子的物理和化学制备技术,如分子束外延、氢化物还原锗盐等,并对Ge纳米粒子有代表性的光学特性进行了概述,最后展望了Ge纳米粒子的...
Ge纳米粒子由于其小尺寸特性而展现出的良好的光学性能吸引着人们对其不断进行深入探索。综述了Ge纳米粒子的物理和化学制备技术,如分子束外延、氢化物还原锗盐等,并对Ge纳米粒子有代表性的光学特性进行了概述,最后展望了Ge纳米粒子的未来发展方向。
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关键词
ge
纳米粒子
物理方法
化学方法
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职称材料
题名
Ge纳米粒子制备技术的研究进展
1
作者
叶爽
杨杰
杨宇
机构
云南大学光电信息材料研究所
云南大学物理科学技术学院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第9期30-34,41,共6页
基金
国家自然科学基金(11274266
10990103)
文摘
Ge纳米粒子由于其小尺寸特性而展现出的良好的光学性能吸引着人们对其不断进行深入探索。综述了Ge纳米粒子的物理和化学制备技术,如分子束外延、氢化物还原锗盐等,并对Ge纳米粒子有代表性的光学特性进行了概述,最后展望了Ge纳米粒子的未来发展方向。
关键词
ge
纳米粒子
物理方法
化学方法
Keywords
ge
nanopartical
physical
method
chemical
method
分类号
O471.4 [理学—半导体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ge纳米粒子制备技术的研究进展
叶爽
杨杰
杨宇
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
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