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中低合金钢的辉光放电发射光谱分析研究 被引量：23
1
作者 滕璇 李小佳 王海舟 《冶金分析》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期1-5,共5页
研究了辉光放电电流、放电电压、信号采集时间以及预溅射时间等因素对中低合金钢辉光光谱行为的影响,建立了辉光放电发射光谱法(GD-OES)同时测定中低合金钢中C,P,S,Si,Mn,Cu,Ni,Cr,Ti,Al,Co和B的方法。方法具有很好的准确度和精密度。
关键词 辉光放电发射光谱 中低合金钢 gd-oes 光谱行为 放电电压 信号采集时间 预溅射时间
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热浸镀Zn11Al3Mg0.2Si合金镀层微观组织实验研究 被引量：15
2
作者 李锋 吕家舜 +1 位作者 杨洪刚 康永林 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期32-35,共4页
主要研究了热浸镀Zn11Al3Mg0.2Si合金镀层的微观结构及组织特征,利用扫描电镜SEM及其能谱附件EDX观察分析了锌铝镁镀层表面以及截面的微观结构、合金层的形貌、镀层中各相的成分组成,利用辉光放电发射光谱仪GD-OES分析了镀层中各元素沿... 主要研究了热浸镀Zn11Al3Mg0.2Si合金镀层的微观结构及组织特征,利用扫描电镜SEM及其能谱附件EDX观察分析了锌铝镁镀层表面以及截面的微观结构、合金层的形貌、镀层中各相的成分组成,利用辉光放电发射光谱仪GD-OES分析了镀层中各元素沿深度方向的分布,利用电子探针EPMA分析了镀层中各元素的分布,利用X-射线衍射仪分析了镀层的相组成。结果表明:镀层中各元素沿镀层的深度方向呈现不均匀分布,Mg元素在镀层表面严重富集,镀层组织呈现多相混合结构,以MgZn2和Zn共晶为主,同时存在块状锌以及一层较薄的合金层。 展开更多
关键词 热浸镀 Zn11Al3Mg0.2Si合金镀层 gd—oes EPMA 镀层微观组织
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基于高能粒子溅射的表面深度剖析方法现状及应用 被引量：4
3
作者 万真真 付新新 +1 位作者 王永清 施宁 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期1946-1953,共8页
近年来国内外对于材料表面问题的研究非常活跃。材料表面深度剖面分析方法不仅能像均质材料的分析方法那样获得表面元素含量的信息,而且能够用来表征从表面到基体各元素成份的纵深分布情况。为了解当前材料表面深度剖面分析技术及发展状... 近年来国内外对于材料表面问题的研究非常活跃。材料表面深度剖面分析方法不仅能像均质材料的分析方法那样获得表面元素含量的信息,而且能够用来表征从表面到基体各元素成份的纵深分布情况。为了解当前材料表面深度剖面分析技术及发展状况,文章从各类高能粒子入射样品表面的分析机理入手,介绍了二次离子质谱法、俄歇电子能谱法、X射线光电子能谱法、辉光放电光谱法、激光诱导击穿光谱法这5种可用于深度剖析的分析方法,它们通常使用高能入射粒子轰击样品表面,将待测样品逐层原子化或离子化后,再通过光谱、质谱或电子检测装置测得元素含量的纵深分布信息。在详细阐明了这5种深度剖析方法的分析原理、分析特点、溅射坑型及其在材料表面分析中的典型应用后,分析和探讨了这几类深度剖析方法在入射粒子、适合样品、可测试元素、是否可定量分析、应用领域等方面的对比情况,明确了它们在深度剖面分析领域的各自优势和不足,指出了对几种分析技术的综合运用,有时可改进单一方法的适用性和准确度。 展开更多
关键词 高能粒子 深度剖面分析 二次离子质谱 俄歇电子能谱 X射线光电子能谱 辉光放电光谱 激光诱 导击穿光谱 等离子体
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一种用于辉光放电光谱深度分析的激光实时测量新方法 被引量：4
4
作者 万真真 李小佳 +2 位作者 王永清 施宁 孙荣霞 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期2536-2541,共6页
辉光放电原子发射光谱仪可用于物质表面化学成分随深度分布的分析,在镀层分析、金属材料检验等领域有着广泛的应用。文章介绍了辉光深度分析的传统方法和局限性以及实时深度测量技术的近期研究,提出了一种用于辉光放电光谱深度分析的激... 辉光放电原子发射光谱仪可用于物质表面化学成分随深度分布的分析,在镀层分析、金属材料检验等领域有着广泛的应用。文章介绍了辉光深度分析的传统方法和局限性以及实时深度测量技术的近期研究,提出了一种用于辉光放电光谱深度分析的激光实时测量新方法。文章采用激光位移传感器和根据激光测量方法设计的辉光放电光源构成实时深度测量系统,详细阐述了系统的设计方案和技术原理。系统的设计结构能够实现在辉光光谱分析的同时进行激光实时溅射深度的测量。通过实验验证和分析了激光实时测量样品溅射深度过程中产生的光源位移现象。采用双激光器实时深度测量系统对锌合金标准样品进行了溅射深度的实时测量,给出了实时深度测量曲线。通过将溅射面测量曲线与参考面曲线进行叠加,得到了样品溅射坑深度的实际值,与Dektak8型表面形貌仪测量结果一致。 展开更多
关键词 辉光放电原子发射光谱仪 深度轮廓分析 激光测量 实时深度测量 辉光放电 镀层
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低温取向硅钢渗氮工艺对表面氧化层的影响 被引量：2
5
作者 肖水方 戴方钦 +1 位作者 郭悦 曾曦灿 《热加工工艺》 北大核心 2019年第22期137-142,共6页
采用场发射电子扫描显微镜(SEM)分析渗氮前后取向硅钢试样表层形貌,采用辉光放电光谱仪(GD-OES)分析表层元素分布。在GD-OES中用AT离子溅射试样表面,通过控制溅射时间、溅射深度使试样达到表面不同深度位置。并利用光电子能谱(XPS)分析... 采用场发射电子扫描显微镜(SEM)分析渗氮前后取向硅钢试样表层形貌,采用辉光放电光谱仪(GD-OES)分析表层元素分布。在GD-OES中用AT离子溅射试样表面,通过控制溅射时间、溅射深度使试样达到表面不同深度位置。并利用光电子能谱(XPS)分析渗氮前后不同深度元素组成及价态,采用SEM观察渗氮后不同深度形貌特征,探究渗氮过程反应机理。结果表明:渗氮前,试样表面形成约3 pm厚的氧化层,外表面由FeO和Fe2SiO4组成,中间层为球状SiO2,靠近基体一侧为带状SiO2,氧化层中还残留有少量的单质硅。渗氮过程中,NHs分解产生的出会将钢带表层部分FeO和Fe2SiO4还原成单质Fe和Si02o[N]进入钢带表面,并在浓度梯度的作用下在钢带中发生扩散,与钢带中合金元素Si等结合以Si3N4形式析出,SisNq在整个氧化层中及靠近氧化层/基体界面的铁基中都有析出,即渗氮层厚度大于氧化层厚度。 展开更多
关键词 低温取向硅钢 渗氮 氧化层 gd-oes XPS SEM
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取向硅钢脱碳退火氧化层的物相检测方法研究 被引量：2
6
作者 叶志阳 余仲达 +3 位作者 尤静林 郑少波 黎先浩 高倩 《上海金属》 CAS 北大核心 2015年第6期1-4,共4页
将冷轧取向硅钢样品在不同退火条件下进行退火,并结合现有的检测手段(FTIR、GD-OES)和Raman光谱分别对最终生成的氧化层进行综合检测分析。研究结果表明,Raman光谱能快速准确地检测出氧化层成分,样品在低氧化性气氛条件(pH2O/pH2=0.288)... 将冷轧取向硅钢样品在不同退火条件下进行退火,并结合现有的检测手段(FTIR、GD-OES)和Raman光谱分别对最终生成的氧化层进行综合检测分析。研究结果表明,Raman光谱能快速准确地检测出氧化层成分,样品在低氧化性气氛条件(pH2O/pH2=0.288)下,于850℃退火3min后所生成的氧化层成分为SiO_2-FeSiO_3组织;并且随着反应气氛氧化性的提高(pH_2O/pH_2增加),氧化层中FeSiO_3的含量也随之增多。 展开更多
关键词 取向硅钢 氧化层 RAMAN光谱 傅里叶红外光谱辉 光放电光谱
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氦离子预注入对钨中氘滞留行为的影响
7
作者 金玉花 贺冉 +2 位作者 张学希 乔丽 王鹏 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期3498-3504,共7页
利用高能离子注入机和直线等离子体模拟装置将氦离子预注入钨中,再进行氘等离子体辐照。采用扫描镜(SEM)结合聚焦离子束(FIB)(SEM-FIB),透射电镜(TEM),辉光放电光谱仪(GD-OES)和热脱附谱(TDS)等分析方法,研究了高能氦离子预注入对氘等... 利用高能离子注入机和直线等离子体模拟装置将氦离子预注入钨中,再进行氘等离子体辐照。采用扫描镜(SEM)结合聚焦离子束(FIB)(SEM-FIB),透射电镜(TEM),辉光放电光谱仪(GD-OES)和热脱附谱(TDS)等分析方法,研究了高能氦离子预注入对氘等离子体再辐照后钨中氘滞留行为的影响。结果表明:氦离子预注入钨,在辐照损伤区域形成大量氦泡,钨经过氘等离子体再辐照后,表面的氘泡数量明显低于单独氘等离子体辐照的样品。从GD-OES分析中可以看到,在氦捕获位处氘滞留浓度明显升高,同时氦离子预注入增加了氘在钨中的扩散深度。结合TDS分析可知,氦离子预注入增加了氘在钨中的滞留总量,这是由于氦离子预注入后,形成的缺陷又为钨中氘的俘获提供大量新的位点,从而导致钨中的氘滞留量明显提高。 展开更多
关键词 钨 氦预注入 氘 gd-oes 滞留
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钢中砷、铅、锑、锡的辉光放电原子发射光谱分析 被引量：10
8
作者 张翔辉 宋立伟 赵宇 《冶金分析》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期32-34,共3页
通过辉光光谱仪预溅射参数和积分时间等因素对钢中微量元素砷、铅、锑、锡辉光光谱行为的影响试验,建立了辉光放电发射光谱法同时测定钢中砷、铅、锑、锡的方法.测定范围分别为:w(As)=0.004 5%～0.008 7%,w(Pb)=0.000 2%～0.13%,w(Sb)=0... 通过辉光光谱仪预溅射参数和积分时间等因素对钢中微量元素砷、铅、锑、锡辉光光谱行为的影响试验,建立了辉光放电发射光谱法同时测定钢中砷、铅、锑、锡的方法.测定范围分别为:w(As)=0.004 5%～0.008 7%,w(Pb)=0.000 2%～0.13%,w(Sb)=0.001 1%～0.072%,w(Sn)=0.003 1%～0.079%.该方法的精密度和准确度令人满意,对质量分数为0.003%～0.015%砷、铅、锑、锡的测定(n=9),RSD＜2%,测定结果与认定值十分吻合. 展开更多
关键词 辉光放电发射光谱(gd—oes) 钢 预溅射 积分
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光谱学研究硅烷钒锆复合钝化膜的结构和成膜机理 被引量：3
9
作者 王雷 刘常升 +1 位作者 石磊 安成强 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期453-456,共4页
在热镀锌钢板表面制备了硅烷钒锆复合钝化膜。用X射线光电子能谱(XPS)、射频辉光放电发射光谱(rf-GD-OES)和傅里叶变换衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)表征了钝化膜的组成结构,分析了硅烷钒锆复合钝化膜的成膜机理。结果表明:硅烷之间互... 在热镀锌钢板表面制备了硅烷钒锆复合钝化膜。用X射线光电子能谱(XPS)、射频辉光放电发射光谱(rf-GD-OES)和傅里叶变换衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)表征了钝化膜的组成结构,分析了硅烷钒锆复合钝化膜的成膜机理。结果表明:硅烷之间互联构成了硅烷钒锆复合钝化膜的主成膜成分,无机缓蚀剂均匀分布在膜层中。钝化膜表面Si2p的XPS窄幅扫描谱100.7eV处的拟合峰和红外光谱在波数1 100cm-1 Si—O吸收峰变宽加强,表明硅烷以Si—O—Zn键的形式化学吸附在锌的表面,硅烷分子之间通过Si—O—Si键相互交联;红外光谱中1 650和1 560cm-1的两个酰胺特征峰,结合910cm-1的环氧特征峰的消失,表明γ-GPT的环氧基团在氨基活性氢的诱导下开环和γ-APT的氨基之间发生聚合反应形成交联的空间网状结构;rf-GD-OES分析发现钝化膜0.3μm处存在一层富氧层,钝化反应生成的ZrF4,ZrO2和钒盐等无机物均匀分布在钝化膜中。分析膜层组成结构和成膜前后的ATR-FTIR光谱,研究了成膜过程中发生的物理过程和化学变化,提出了硅烷钒锆复合钝化膜的成膜机理。 展开更多
关键词 硅烷钒锆钝化膜 XPS rf-gd-oes FTIR 成膜机理
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中低合金钢中多元素的射频辉光放电发射光谱发射谱线性质的研究 被引量：3
10
作者 滕璇 韩永平 +3 位作者 李小佳 王海舟 何玉田 郑迅燕 《冶金分析》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期8-12,共5页
考察了射频辉光放电发射光谱法中功率（5～18w）和放电气压（5～15Torr）对元素谱线发射强度及相对强度稳定性的影响，并分析了引起影响的原因。结果表明，功率越高，发射强度越大；放电气压对各元素谱线发射强度的影响各异。在气压6～1... 考察了射频辉光放电发射光谱法中功率（5～18w）和放电气压（5～15Torr）对元素谱线发射强度及相对强度稳定性的影响，并分析了引起影响的原因。结果表明，功率越高，发射强度越大；放电气压对各元素谱线发射强度的影响各异。在气压6～12Torr范围内，除5W外功率变化对大多数元素相对强度稳定性影响较小，相对标准偏差介于0．5％～2％。当功率在12w时，在10Torr气压下测定中低合金钢标准样品中C，Si，Mn，P，S，Cr，Ni，W，Ti，Cu，Co，B，Al，V，Mo，Nb16种元素，测定值与认定值一致；相对标准偏差除P，S，B稍高外，其它元素为1％～5％。 展开更多
关键词 射频辉光放电发射光谱法 中低合金钢 多元素 发射性质
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