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基于MEMS工艺的电学TEM芯片研发与应用
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作者 孙扬 金传洪 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期716-720,796,共6页
透射电子显微镜利用电子束与样品相互作用成像,可提供原子分辨率的结构和成分信息、原子尺度的空间结构和化学成分等信息,是研究材料微观结构与性能关系的有效手段。随着材料尺寸的不断缩小,其电学性质受结构、形貌的影响显著,在纳米乃... 透射电子显微镜利用电子束与样品相互作用成像,可提供原子分辨率的结构和成分信息、原子尺度的空间结构和化学成分等信息,是研究材料微观结构与性能关系的有效手段。随着材料尺寸的不断缩小,其电学性质受结构、形貌的影响显著,在纳米乃至原子尺度下研究纳米材料的电学性能十分必要。通过半导体微制造工艺,设计、制备了一款原位电镜用四电极电学芯片,并结合原位样品杆和高精度数字源表,测量了不同条件下制备的单层二硫化钼材料的电流-电压特性曲线。 展开更多
关键词 原位透射电子显微学 四电极电学芯片 MEMS工艺 I-V曲线
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