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Ag层厚度对FePd薄膜的结构和磁性能的影响 被引量:1
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作者 张艳丽 成钢 +3 位作者 许小宗 李林 杜玉松 武小飞 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期609-612,共4页
采用磁控溅射的方法,在石英玻璃上制备了Agx/FePd(67.5nm)(x=3.875、7.75、15.50、31、38.75nm)和FePd(67.5nm)/Agx(x=7.75、15.50、31nm)薄膜,研究了Ag对600℃退火不同时间的FePd/Ag、Ag/FePd薄膜的影响.结果显示,无论Ag沉积在FePd薄... 采用磁控溅射的方法,在石英玻璃上制备了Agx/FePd(67.5nm)(x=3.875、7.75、15.50、31、38.75nm)和FePd(67.5nm)/Agx(x=7.75、15.50、31nm)薄膜,研究了Ag对600℃退火不同时间的FePd/Ag、Ag/FePd薄膜的影响.结果显示,无论Ag沉积在FePd薄膜顶层还是底层,Ag层的加入都能加快薄膜从面心立方(FCC)到面心四方(FCT)的相转变.Ag能极大增强FePd薄膜的矫顽力.比较Ag/FePd和FePd/Ag薄膜,Ag/FePd薄膜中的部分样品有沿某一方向优先生长的趋势,更利于实际应用.在Ag/FePd薄膜中晶粒易磁化轴平行面内,当顶层Ag厚度为31nm时,薄膜有很大的面内矫顽力2.8kOe和很小的垂直方向矫顽力1.04kOe. 展开更多
关键词 fepd薄膜 Ag层 相转变 矫顽力
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Effect of Change in Thickness of Ag Toplayer on the Structure and Magnetic Properties of FePd Films Grown on Glass Substrate
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作者 ZHANG Yanli CHENG Gang +1 位作者 XU Xiaozong LI Lin 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2018年第5期1082-1085,共4页
A series of FePd based alloy films were deposited on glass substrates by DC magnetron sputtering. The Ag toplayer effect was studied using FePd(67.5 nm)/Ag(3.875, 7.75, 15.50, 31 and 38.75 nm) films annealed at 6... A series of FePd based alloy films were deposited on glass substrates by DC magnetron sputtering. The Ag toplayer effect was studied using FePd(67.5 nm)/Ag(3.875, 7.75, 15.50, 31 and 38.75 nm) films annealed at 600 ℃ for different time in order to find the role of the Ag toplayer in disorder-order of FePd film. The results show that the Ag toplayer can accelerate the phase transition from FCC to FCT in films. The magnetic easy axis of the crystallites in this film is in-plane of substrate. The Ag toplayer can greatly enhance the coercive of FePd films. When the thickness of Ag is equal to 31 nm, the film has a very large in-plane coercivity of 2.8 kOe and a very low out-of-plane coercivity of 1.04 kOe. 展开更多
关键词 fepd thin film phase transition Ag toplayer
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Ag中间层对FePd薄膜结构及磁性能的影响
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作者 许小宗 成钢 +2 位作者 马垒 李林 饶光辉 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2017年第6期123-126,共4页
采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了FePd(93 nm)单层膜和FePd(46.5 nm)/Ag(10 nm)/FePd(46.5 nm)多层膜,并在600℃退火不同时间,通过XRD、VSM对薄膜样品的结构和磁性能进行测量。结果发现:FePd单层膜在600℃退火240 min后有序化转变不... 采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了FePd(93 nm)单层膜和FePd(46.5 nm)/Ag(10 nm)/FePd(46.5 nm)多层膜,并在600℃退火不同时间,通过XRD、VSM对薄膜样品的结构和磁性能进行测量。结果发现:FePd单层膜在600℃退火240 min后有序化转变不明显,300 min后部分有序化,360 min后基本上完全有序化,形成了有序面心四方结构的L1_0-FePd相;当热处理时间为420 min时,有最大的面内矫顽力,约为1670 Oe;Ag中间层对溅射态的FePd薄膜衍射峰的形成有抑制作用,Ag中间层的添加可大幅缩短FePd有序化的时间;样品热处理5 min后就开始有序化,热处理15 min后样品性能即可达到最好,有最大的面内矫顽力2660 Oe,但热处理时间过长会使薄膜磁性能变差。 展开更多
关键词 fepd薄膜 有序化转变 Ag中间层 磁性能
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