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A review on perovskite solar cells (PSCs),materials and applications 被引量:4
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作者 N.Suresh Kumar K.Chandra Babu Naidu 《Journal of Materiomics》 SCIE EI 2021年第5期940-956,共17页
In recent years,the perovskite solar cells have gained much attention because of their ever-increasing power conversion efficiency(PCE),simple solution fabrication process,flyable,light-weight wearable and deployable ... In recent years,the perovskite solar cells have gained much attention because of their ever-increasing power conversion efficiency(PCE),simple solution fabrication process,flyable,light-weight wearable and deployable for ultra-lightweight space and low-cost materials constituents etc.Over the last few years,the efficiency of perovskite solar cells has surpassed 25%due to high-quality perovskite-film accomplished through low-temperature synthesis techniques along with developing suitable interface and electrode-materials.Besides,the stability of perovskite solar cells has attracted much well-deserved attention.In this article we have focused on recent progress of the perovskite solar cells regarding their crystallinity,morphology and synthesis techniques.Also,demonstrated different layers such as electron transport-layers(ETLs),hole transport-layers(HTLs)and buffer-layers utilized in perovskite solar-cells,considering their band gap,carrier mobility,transmittance etc.Outlook of various tin(Sn),carbon and polymer-based perovskite solar cells and their potential of commercialization feasibility has also been discussed. 展开更多
关键词 Perovskite solar-cells Power conversion efficiency Hole transport layer electron transport layer buffer layer Photovoltaic devices
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钙钛矿太阳能电池中TiO2材料制备及应用进展 被引量:3
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作者 王传坤 吴正雪 +1 位作者 唐颖 马恒 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第1期41-44,共4页
有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池成本低廉,制作工艺简易和光电转化效率高等优点,成为光伏领域研究的热点。钙钛矿太阳能电池中电子缓冲层对提高器件的性能起到重要的作用。二氧化钛(TiO2)优异的光电性能在环境保护、太阳能电池等领域都... 有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池成本低廉,制作工艺简易和光电转化效率高等优点,成为光伏领域研究的热点。钙钛矿太阳能电池中电子缓冲层对提高器件的性能起到重要的作用。二氧化钛(TiO2)优异的光电性能在环境保护、太阳能电池等领域都有重要的应用。主要从TiO2材料在钙钛矿太阳能电池中应用进行总结,阐述了TiO2材料基本制作方法,详细介绍了单层TiO2材料、复合层TiO2材料和掺杂TiO2材料作为电子缓冲层的钙钛矿太阳能电池研究的最新进展。 展开更多
关键词 钙钛矿太阳能电池 二氧化钛 掺杂 电子缓冲层
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基于介质工程研制高性能黑磷顶栅器件
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作者 王中正 于奎栋 +1 位作者 胡长征 徐茂 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第5期347-351,共5页
在这个工作中,作者通过电子束沉积二氧化铪(HfO;)作为栅介质,并沉积1nm锡(Sn)作为生长HfO;的缓冲层,获得了场效应迁移率超过100cm;V;s;的黑磷(BP)顶栅场效应晶体管(TG-FETs)。通过测试BP TG-FETs在不同漏源电压下的转移特性曲线,发现了... 在这个工作中,作者通过电子束沉积二氧化铪(HfO;)作为栅介质,并沉积1nm锡(Sn)作为生长HfO;的缓冲层,获得了场效应迁移率超过100cm;V;s;的黑磷(BP)顶栅场效应晶体管(TG-FETs)。通过测试BP TG-FETs在不同漏源电压下的转移特性曲线,发现了漏极偏压会引起栅控效应。进一步地,在较小电压下探究了BP TG-FETs不同沟道长度的源漏电流饱和情况,这可用于BP射频器件的研究。最后,对BP顶栅器件的量子电容进行了相关研究,从测量的C-V曲线和转移特性曲线中直接提取并计算出栅介质氧化物电容和BP量子电容,此过程无需再引入任何其他拟合参数,BP量子电容的测量也为探索BP的态密度和电子器件可压缩性提供了重要依据。 展开更多
关键词 HfO_(2)薄膜 顶栅晶体管 黑磷 电子束沉积 缓冲层
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基于Cu_xO材料在太阳能电池中应用研究进展
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作者 唐颖 王传坤 《兴义民族师范学院学报》 2018年第3期102-106,共5页
环境污染与能源的短缺是制约当今社会发展的重要因素之一。太阳能是一种可持续利用的资源,受到当今社会的重视。太阳能电池是利用光伏效应的一种器件,是未来解决能源短缺和环境污染的有效途径。太阳能电池可以分为无机太阳能电池、有机... 环境污染与能源的短缺是制约当今社会发展的重要因素之一。太阳能是一种可持续利用的资源,受到当今社会的重视。太阳能电池是利用光伏效应的一种器件,是未来解决能源短缺和环境污染的有效途径。太阳能电池可以分为无机太阳能电池、有机太阳能电池和钙钛矿太阳能电池。Cu_xO材料具有资源广泛、带隙接近太阳光谱等特点,适合作为太阳能电池材料。因此,很有必要探讨Cu_xO材料在太阳能电池中的应用及发展趋势。 展开更多
关键词 太阳能电池 电子缓冲层 空穴缓冲层 能源
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高迁移率GaAs外延片制备的研究
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作者 王林海 袁炳辉 +1 位作者 付浚 陆永庆 《河北工学院学报》 1995年第2期76-79,共4页
提出了在GaAs液相外延过程中,采用生长高纯度缓冲层、高温烘烤生长系统以及回熔衬底片等工艺,获得具有电参数n=1016~1017cm-3,μ=4~5×103cm2/v·s(300K)的GaAs液相外延片.总结... 提出了在GaAs液相外延过程中,采用生长高纯度缓冲层、高温烘烤生长系统以及回熔衬底片等工艺,获得具有电参数n=1016~1017cm-3,μ=4~5×103cm2/v·s(300K)的GaAs液相外延片.总结出生长高迁移率GaAs外延片的制备方法. 展开更多
关键词 液相外延 烘烤 衬底回熔 缓冲层 砷化镓
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AlGaN Channel High Electron Mobility Transistors with an AlxGa1-xN/GaN Composite Buffer Layer
6
作者 李祥东 张进成 +5 位作者 邹瑜 马学智 刘畅 张苇杭 温慧娟 郝跃 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第7期156-159,共4页
We report an AlGaN channel high electron mobility transistor (HEMT) on a sapphire substrate with a 1000-nm A1xGa1-xN (x = 0-0.18)/GaN composite buffer layer, With a significant improvement of crystal quality, the ... We report an AlGaN channel high electron mobility transistor (HEMT) on a sapphire substrate with a 1000-nm A1xGa1-xN (x = 0-0.18)/GaN composite buffer layer, With a significant improvement of crystal quality, the device features a high product orris. #n. The AIGaN channel HEMTs presented show improved performance with respect to the conventional AIGaN channel HEMTs, including the on-resistance reduced from 31.2 to 8.1 Ω.mm, saturation drain current at 2 V gate bias promoted from 218 to 540 mA/mm, peak transconductance at 10 V drain bias promoted from 100 to a state-of-the-art value of 174 mS/ram, and reverse gate leakage current reduced from 1.85 × 10-3 to 2.15 × 10-5 mA/mm at VOD = -20 V. 展开更多
关键词 AlGaN Channel High electron Mobility Transistors with an Al_xGa x)N/GaN Composite buffer layer
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过渡层类型对类金刚石薄膜性能的影响 被引量:8
7
作者 聂君兰 谷坤明 +1 位作者 汤皎宁 刘力 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期87-89,108,共4页
采用电子回旋微波等离子体气相沉积和磁控溅射法相结合的方法,通过石墨靶材和金属钛靶在不锈钢和Al2O3陶瓷基片上沉积了具有不同过渡层的含钛的C薄膜,研究了不同薄膜与衬底的中间层类型对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能的... 采用电子回旋微波等离子体气相沉积和磁控溅射法相结合的方法,通过石墨靶材和金属钛靶在不锈钢和Al2O3陶瓷基片上沉积了具有不同过渡层的含钛的C薄膜,研究了不同薄膜与衬底的中间层类型对薄膜的表面形貌、硬度、摩擦磨损性能、表面能的影响。结果表明,导电基底更有助于成膜的致密性和均匀性,薄膜为衬底/Ti/TiN/TiCN/C结构时硬度最高。 展开更多
关键词 ECR镀膜 类金刚石薄膜 含金属碳膜 缓冲过渡层
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High-power SiC MESFET using a dual p-buffer layer for an S-band power amplifier 被引量:1
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作者 邓小川 孙鹤 +1 位作者 饶成元 张波 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期491-494,共4页
A silicon carbide (SIC) based metal semiconductor field effect transistor (MESFET) is fabricated by using a standard SiC MESFET structure with the application of a dual p-buffer layer and a multi-recessed gate to ... A silicon carbide (SIC) based metal semiconductor field effect transistor (MESFET) is fabricated by using a standard SiC MESFET structure with the application of a dual p-buffer layer and a multi-recessed gate to the process for an S-band power amplifier. The lower doped upper-buffer layer serves to maintain the channel current, while the higher doped lowerbuffer layer is used to provide excellent electron confinement in the channel layer. A 20-mm gate periphery SiC MESFET biased at a drain voltage of 85 V demonstrates a pulsed wave saturated output power of 94 W, a linear gain of 11.7 dB, and a maximum power added efficiency of 24.3% at 3.4 GHz. These results are improved compared with those of the conventional single p-buffer MESFET fabricated in this work using the same process. A radio-frequency power output greater than 4.7 W/mm is achieved, showing the potential as a high-voltage operation device for high-power solid-state amplifier applications. 展开更多
关键词 dual p-buffer layer silicon carbide MESFETS electron confinement
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SiO2阻挡层对电子束沉积法生长高迁移率IWO薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 任世荣 陈新亮 +4 位作者 张存善 孙建 张晓丹 耿新华 赵颖 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期843-847,共5页
利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2... 利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2阻挡层的IWO薄膜的电子迁移率μ~54.5 cm.2V-.1s-1,电阻率ρ~5.86×10-4Ω.cm,电子载流子浓度n~1.95×1020 cm-3,400~1600 nm光谱区域内的平均透过率~76%。 展开更多
关键词 电子束沉积技术 SiO2阻挡层 IWO薄膜 高迁移率
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基于凹槽结构抑制AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌效应 被引量:2
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作者 刘静 王琳倩 黄忠孝 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第24期347-353,共7页
基于双脉冲技术,研究了GaN缓冲层陷阱对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌效应的影响.结果表明,栅边缘漏侧的电场峰值使得沟道电子跃迁至缓冲层,并被缓冲层中的陷阱俘获是造成电流崩塌的主要原因之一.提出了势垒层局部凹槽结构,降低... 基于双脉冲技术,研究了GaN缓冲层陷阱对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管电流崩塌效应的影响.结果表明,栅边缘漏侧的电场峰值使得沟道电子跃迁至缓冲层,并被缓冲层中的陷阱俘获是造成电流崩塌的主要原因之一.提出了势垒层局部凹槽结构,降低了栅边缘漏侧的电场峰值,使电场分布更加均匀,改善了器件的电流崩塌效应.与传统AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管结构相比,新器件结构对电流崩塌效应的抑制作用至少提升了22.30%. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 高电子迁移率晶体管 电流崩塌效应 缓冲层陷阱
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热处理工艺对Ni-7W合金基带立方织构的影响 被引量:1
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作者 祝永华 索红莉 +7 位作者 赵跃 高忙忙 程艳玲 马麟 高培阔 王建宏 吉元 周美玲 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期177-182,共6页
采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni-7W(at%,下同)(Ni7W)合金初始锭,通过高能球磨使Ni、W粉末充分混合,优化冷轧和热处理工艺制备出高立方织构的Ni7W合金基带。基带晶粒大小均匀,电子背散射衍射技术(EBSD)测试结果显示:该Ni7W基... 采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni-7W(at%,下同)(Ni7W)合金初始锭,通过高能球磨使Ni、W粉末充分混合,优化冷轧和热处理工艺制备出高立方织构的Ni7W合金基带。基带晶粒大小均匀,电子背散射衍射技术(EBSD)测试结果显示:该Ni7W基带表面10°以内立方织构晶粒含量高达99.4%,10°以内晶界长度含量为93.6%;XRD测得的基带(111)Phi扫描和(200)摇摆曲线表明:基带的面内和面外半高宽分别是6.32°和5.4°,表明基带具有锐利的立方织构。在该基带上制备的La2Zr2O7(LZO)过渡层显示,LZO很好地外延生长了基底的织构,LZO薄膜(222)面φ扫描和(400)面摇摆曲线的半高宽值分别为7.57o°和5.73°。 展开更多
关键词 Ni7W基带 织构 再结晶退火 电子背散射衍射(EBSD) LZO过渡层
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GaN HEMT器件的AlN缓冲层MOCVD外延生长研究
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作者 倪洪亮 吴金星 《舰船电子对抗》 2020年第5期116-120,共5页
探讨了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的基础——AlN缓冲层的制备,运用金属有机化学气相沉淀(MOCVD)技术,采用脉冲原子层外延(PALE)和传统连续生长相结合的方法,在提高AlN缓冲层生长速度的同时改善晶体的质量。采用优化后的生长工艺,... 探讨了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的基础——AlN缓冲层的制备,运用金属有机化学气相沉淀(MOCVD)技术,采用脉冲原子层外延(PALE)和传统连续生长相结合的方法,在提高AlN缓冲层生长速度的同时改善晶体的质量。采用优化后的生长工艺,降低了AlN模板的半高宽,有效改善了缓冲层的晶体质量和表面形貌,为后续高性能GaN HEMT器件的外延结构制备打下了基础。 展开更多
关键词 GAN高电子迁移率晶体管 ALN缓冲层 金属有机化学气相沉淀 脉冲原子层外延
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