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双面抛光机气动加载的建模与仿真 被引量：2
1
作者 茅小海 李伟 黄洁 《新技术新工艺》 2011年第4期55-57,共3页
双面抛光机广泛用于硅片、蓝宝石、陶瓷、磁性材料、电子器材的表面超光滑无损伤的平整加工。气动加载系统是双面抛光机实现精密抛光非常关键的部分。抛光压力加载精度的高低直接决定了抛光机性能的好坏。本文利用法国AMESim软件对气动... 双面抛光机广泛用于硅片、蓝宝石、陶瓷、磁性材料、电子器材的表面超光滑无损伤的平整加工。气动加载系统是双面抛光机实现精密抛光非常关键的部分。抛光压力加载精度的高低直接决定了抛光机性能的好坏。本文利用法国AMESim软件对气动加载系统进行建模,通过仿真得出了一组最佳PID参数,满足了系统要求,并使系统性能得到提高。 展开更多
关键词 双面抛光机 气动加载 抛光压力 AMESIM
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新型恒速变向平动双面抛光机设计 被引量：1
2
作者 胡晓珍 陈毓 李伟 《新技术新工艺》 2009年第5期49-52,共4页
常用行星式双面抛光机中工件及载体的内外缘速差会引起抛光垫变形,降低晶片平面度。本文设计了一种圆平动或摆动式新型双面抛光机,其工件平面相对于抛光盘的运动速度大小恒定,方向沿圆周轨迹的切线方向循序渐变,且能把抛光压力均匀压在... 常用行星式双面抛光机中工件及载体的内外缘速差会引起抛光垫变形,降低晶片平面度。本文设计了一种圆平动或摆动式新型双面抛光机,其工件平面相对于抛光盘的运动速度大小恒定,方向沿圆周轨迹的切线方向循序渐变,且能把抛光压力均匀压在载体内的工件上,该新型双面抛光机具有恒速变向抛光的优点,有较高的抛光效率和抛光精度,体积小,结构紧凑。 展开更多
关键词 恒速 变向 双面抛光机
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线性自抗扰控制在大口径双面抛光机速度伺服系统中的应用
3
作者 李阳 肖博 王春阳 《长春理工大学学报（自然科学版）》 2022年第2期58-64,共7页
大口径双面抛光机对速度控制精度和抗干扰能力提出了较高的要求,将线性自抗扰控制器应用于抛光机的速度控制中。在Simotion平台上,采用模块化编程方法,使用梯形图实现了线性自抗扰控制器。进行了驱动器控制和LADRC控制的阶跃响应实验和... 大口径双面抛光机对速度控制精度和抗干扰能力提出了较高的要求,将线性自抗扰控制器应用于抛光机的速度控制中。在Simotion平台上,采用模块化编程方法,使用梯形图实现了线性自抗扰控制器。进行了驱动器控制和LADRC控制的阶跃响应实验和抗扰能力实验,以及在驱动器性能不佳的情况下LADRC对控制对象的改造实验。实验结果均表明线性自抗扰控制器显著提高了系统的响应速度、控制精度和抗干扰能力。最后给出了线性自抗扰控制器在数控机床中编程、调试和应用的总结,为在大型运动控制场合应用线性自抗扰控制器提供了经验和依据。 展开更多
关键词 大口径双面抛光机 线性自抗扰控制器 速度伺服系统 运动控制
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双面抛光机气动伺服加载系统分析 被引量：11
4
作者 钱宁 阮健 李伟 《机床与液压》 北大核心 2006年第8期72-74,共3页
在双面抛光机中,气动加载系统要求对加载在工件上的抛光压力进行精确控制,从而保证抛光质量。为了达到这一要求,提出了气动伺服加载系统并引入特殊设计的气动数字伺服阀。同时对气动伺服加载系统进行数学建模和模块化分析,最后进行了实... 在双面抛光机中,气动加载系统要求对加载在工件上的抛光压力进行精确控制,从而保证抛光质量。为了达到这一要求,提出了气动伺服加载系统并引入特殊设计的气动数字伺服阀。同时对气动伺服加载系统进行数学建模和模块化分析,最后进行了实验研究。结果表明气动伺服加载系统能满足双面抛光的要求,可以加工出双面超平滑的硅片。 展开更多
关键词 气动数字伺服阀 气动伺服加载系统 双面抛光机 模块化分析
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高精度大尺寸硅晶片的双面研磨抛光机改进设计 被引量：6
5
作者 陈毓 胡晓珍 李伟 《浙江海洋学院学报（自然科学版）》 CAS 2010年第6期586-590,共5页
随着IC设计技术和制造技术的发展和进步,集成电路芯片的集成度在不断提高,芯片密度呈指数增长趋势。硅晶片作为集成电路芯片的主要材料,尺寸越来越大。在分析国内双面抛光机典型机型原理和特点的基础上,针对运用于大尺寸甚至是直径400 m... 随着IC设计技术和制造技术的发展和进步,集成电路芯片的集成度在不断提高,芯片密度呈指数增长趋势。硅晶片作为集成电路芯片的主要材料,尺寸越来越大。在分析国内双面抛光机典型机型原理和特点的基础上,针对运用于大尺寸甚至是直径400 mm的硅晶片,提出高精度双面研磨抛光机在机械结构和控制系统等方面的改进措施,很好地解决了国内目前对大尺寸硅晶片加工难、加工精度不高等难题。 展开更多
关键词 大尺寸硅晶片 高精度 双面研磨抛光机 改进设计
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双面抛光机上研磨盘振动抑制的半主动控制方法
6
作者 徐慧鑫 赵文宏 +2 位作者 陈晨 周芬芬 程城远 《机电工程》 CAS 2012年第11期1255-1258,共4页
振动是影响超精密加工质量的关键因素之一,弹簧加压式双面抛光机在抛光过程中的上研磨盘振动现象严重制约了产品的加工精度。为解决这一问题,提出了在弹簧加压装置中加入磁流变阻尼器的方法,通过控制磁流变阻尼器阻尼系数来实现对双面... 振动是影响超精密加工质量的关键因素之一,弹簧加压式双面抛光机在抛光过程中的上研磨盘振动现象严重制约了产品的加工精度。为解决这一问题,提出了在弹簧加压装置中加入磁流变阻尼器的方法,通过控制磁流变阻尼器阻尼系数来实现对双面抛光和上研磨盘振动的半主动控制,以达到抑制振动的效果。首先,对改进后的压力加载系统进行了数学建模,得到了抛光过程中上研磨盘的运动方程式;接着,对半主动控制的控制策略进行了设计,得到了其控制算法;最后,在Simulink中对半主动控制策略下的系统进行了仿真分析,并将其仿真结果与未加控制时的系统仿真结果进行了比较分析。比较分析结果表明,所设计的半主动控制方法能够有效抑制双面抛光机上研磨盘的振动现象。 展开更多
关键词 双面抛光机 上研磨盘 振动抑制 磁流变阻尼器 半主动控制
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