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基于ULVI技术的PVDF隔膜显微结构表征研究
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作者 季英瑜 倪成员 +1 位作者 丁小康 张奇 《材料科学》 2018年第10期988-996,共9页
PVDF隔膜为绝缘高分子材料,在扫描电镜观察时易产生放电问题,降低了成像图片的分辨率与清晰度,使得到的电子图像不能反映样品表面的真实形貌。通过DSC图谱分析其热稳定性,采用低加速电压成像技术,对扫描电子显微镜的工作电压(Vacc)、工... PVDF隔膜为绝缘高分子材料,在扫描电镜观察时易产生放电问题,降低了成像图片的分辨率与清晰度,使得到的电子图像不能反映样品表面的真实形貌。通过DSC图谱分析其热稳定性,采用低加速电压成像技术,对扫描电子显微镜的工作电压(Vacc)、工作电流(le)、工作距离(WD)、扫描方式及电子信号这5个参数进行优化调整,最终选择在工作电流为5 μA,工作电压为1.5 kv,工作距离为4.5 mm,扫描方式为快速扫描,采用背散射电子信号进行成像的工艺,利用这种分析工艺能更好的表征出PVDF复合隔膜表面微观形貌及断面微观形貌。 展开更多
关键词 PVDF隔膜 dsc图谱分析 荷电效应 低加速电压成像
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