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双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究
被引量：
4
1
作者
王贺权
王志坚
+3 位作者
巴德纯
沈辉
陈达
闻立时
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期450-453,共4页
应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜。当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响。结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1∶1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了...
应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜。当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响。结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1∶1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了该样品的太阳吸收率和发射率分别αs=0.920、ε=0.03。
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关键词
直流反应磁控溅射
TiOxNy
选择性吸收薄膜
反射率
下载PDF
职称材料
题名
双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究
被引量：
4
1
作者
王贺权
王志坚
巴德纯
沈辉
陈达
闻立时
机构
沈阳航空工业学院
东北大学
中山大学
中国科学院金属研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期450-453,共4页
基金
辽宁省教育厅科技攻关项目(No.05L314)
辽宁省自然科学基金(No.20072013)
文摘
应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜。当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响。结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1∶1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了该样品的太阳吸收率和发射率分别αs=0.920、ε=0.03。
关键词
直流反应磁控溅射
TiOxNy
选择性吸收薄膜
反射率
Keywords
dc
reactive
magnetron
sputtefing
TiOxNy
Selective
Absorbing
Films
Reflectivity
分类号
O614.411 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究
王贺权
王志坚
巴德纯
沈辉
陈达
闻立时
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
4
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