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CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构 被引量:6
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作者 林松盛 代明江 +5 位作者 朱霞高 李洪武 侯惠君 林凯生 况敏 戴达煌 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期259-264,共6页
采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分... 采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分析证实,所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN结构相吻合;在梯度过渡中,不同层之间界面体现为渐变过渡过程;沉积制备的多元多层梯度膜硬度高达26.31GPa,膜/基结合力大于80N,摩擦因数低至0.113,力学性能优良。 展开更多
关键词 crtialcn薄膜 磁控溅射 离子束辅助
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磁控溅射法制备CrTiAlCN镀层中主要元素的化学态 被引量:3
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作者 胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期41-44,共4页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电... 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,碳元素主要以C-C、C-Cr和C-Ti键形式存在;N元素是主要以CrN、Cr2N和TiN的形式存在;Cr元素主要以CrN、Cr2N及CrCx的形式存在。 展开更多
关键词 磁控溅射 crtialcn镀层 X射线衍射 X射线光电子能谱 碳键
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