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多弧离子镀(Ti,Cr)N镀层耐蚀性研究 被引量:4
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作者 郭巧琴 李建平 +1 位作者 郭永春 杨忠 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2017年第8期6-9,共4页
采用多弧离子镀技术在高速钢表面制备了(Ti,Cr)N镀层,通过电化学工作站对镀层的塔菲尔曲线进行测试,分析镀层的耐腐蚀性,并采用质量变化法对电化学测试结果进行了验证。利用扫描电子显微镜观察了(Ti,Cr)N镀层腐蚀前后的微观形貌。结果表... 采用多弧离子镀技术在高速钢表面制备了(Ti,Cr)N镀层,通过电化学工作站对镀层的塔菲尔曲线进行测试,分析镀层的耐腐蚀性,并采用质量变化法对电化学测试结果进行了验证。利用扫描电子显微镜观察了(Ti,Cr)N镀层腐蚀前后的微观形貌。结果表明,随电流比例ICr/ITi的增大,(Ti,Cr)N镀层表面晶粒尺寸逐渐减小。当ICr/ITi为90 A/60 A时,基体的自腐蚀电位由-0.750 V正移至-0.534 V,基体的腐蚀速率降低85.67%,耐蚀性提高。基体的腐蚀主要为点蚀和均匀腐蚀,(Ti,Cr)N镀层主要为小孔腐蚀。 展开更多
关键词 多弧离子镀 (Ti cr)n镀层 耐蚀性 自腐蚀电位
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Cr-N硬质镀层的断裂韧性和冲击疲劳特性研究 被引量:3
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作者 田林海 朱晓东 +2 位作者 唐宾 潘俊德 何家文 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第A01期35-38,共4页
采用离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N硬质镀层,用压入法评定镀层的断裂韧性,多次冲击试验法测定镀层的多冲疲劳抗力,探讨了多冲疲劳抗力与镀层组织结构和断裂韧性等机械性能的关系。结果表明,通过调节离子束辅助轰击能量,可以提... 采用离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N硬质镀层,用压入法评定镀层的断裂韧性,多次冲击试验法测定镀层的多冲疲劳抗力,探讨了多冲疲劳抗力与镀层组织结构和断裂韧性等机械性能的关系。结果表明,通过调节离子束辅助轰击能量,可以提高Cr-N镀层的硬度和断裂韧性。镀层断裂韧性的提高除了与晶块尺寸减小有关外,还与离子轰击导致镀层致密度增加相关。在冲击载荷作用下Cr-N镀层的失效方式为内聚力型疲劳剥落,随硬度和断裂韧性增加,镀层的抗多次冲击疲劳能力提高。 展开更多
关键词 cr-n镀层 离子束辅助磁控溅射 断裂韧性 多次冲击
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镁合金表面非平衡磁控溅射CrN镀层结合性能和摩擦磨损性能 被引量:3
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作者 姚晓红 田林海 +2 位作者 张杨 马永 唐宾 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期589-592,共4页
采用不同偏压闭合场非平衡磁控溅射技术在镁合金表面沉积Cr-N镀层,分别对镀层的组织结构、厚度、结合性能和摩擦磨损性能进行了表征和分析。结果表明,镀层主要由Cr(N)相和少量Cr2N相组成。在偏压为60V时镀层具有较高的硬度、良好的结合... 采用不同偏压闭合场非平衡磁控溅射技术在镁合金表面沉积Cr-N镀层,分别对镀层的组织结构、厚度、结合性能和摩擦磨损性能进行了表征和分析。结果表明,镀层主要由Cr(N)相和少量Cr2N相组成。在偏压为60V时镀层具有较高的硬度、良好的结合性能和摩擦磨损性能。偏压进一步升高,虽然镀层硬度有所提高,但结合性能和抗磨性能均下降。 展开更多
关键词 镁合金 cr-n镀层 磁控溅射 结合性能 摩擦磨损
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离子束增强沉积CrN镀层及热力学分析
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作者 唐宾 《金属热处理学报》 EI CAS CSCD 1999年第3期7-13,共7页
利用IBED 技术,在Si(111) 和GCr15 轴承钢基体上沉积CrN 镀层。研究N+ + N+2 离子轰击能量和Nions/Cratoms 到达比对镀层组织结构的影响。结果表明,氮离子轰击能量的增加促进CrNCrN... 利用IBED 技术,在Si(111) 和GCr15 轴承钢基体上沉积CrN 镀层。研究N+ + N+2 离子轰击能量和Nions/Cratoms 到达比对镀层组织结构的影响。结果表明,氮离子轰击能量的增加促进CrNCrN(200) 择尤生长;但Nions/Cr atoms 比从1.45 ×10 - 2 增至3.67 ×10 - 2 和5.87 ×10 - 2时,镀层中CrN 组分非但没有增多,Cr 反而以Cr2O3 形态存在。 展开更多
关键词 离子束增强沉积 热力学 cr-n镀层
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磁控溅射C靶电流对Cr/C和Cr/C/N复合镀层组织和性能的影响 被引量:1
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作者 贾贵西 李言 +1 位作者 李洪涛 蒋百灵 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期55-59,共5页
利用控溅射技术,通过改变溅射C靶电流工艺参数,在45#钢上制备出Cr/C和Cr/C/N复合镀层。用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)检测镀层的微观组织;用HX-1000型维氏显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验机(POD)、光学显微镜(OM... 利用控溅射技术,通过改变溅射C靶电流工艺参数,在45#钢上制备出Cr/C和Cr/C/N复合镀层。用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)检测镀层的微观组织;用HX-1000型维氏显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验机(POD)、光学显微镜(OM)测试镀层的力学性能。结果表明:随C靶电流增加,镀层微观结构都变得更加均匀和致密,硬度在变大,韧性在提高,耐磨性明显提高;所获C电流为1.2A的镀层有优异的摩擦磨损性能;Cr/C/N镀层综合力学性能优于Cr/C镀层。 展开更多
关键词 磁控溅射 C靶电流 cr/C镀层 cr/C/n镀层 性能
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