期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
加Si提高PCVD TiN基镀层的耐蚀性和力学性能
1
作者 陈华 白辰东 +1 位作者 胡奈赛 何家文 《表面工程》 CAS CSCD 1996年第2期8-12,共5页
在直流PCVDTiN镀膜过程中，加入Si形成（Ti，Si）N镀层。用SiH4作为气源，代替一部分金属卤化物，可降低镀层中的氯含量。含16％Si的（Ti，St）N比二元TiN镀层有较高的硬度。用划痕法和对滚法评定了二者的结合强度。三元镀层在界面上用... 在直流PCVDTiN镀膜过程中，加入Si形成（Ti，Si）N镀层。用SiH4作为气源，代替一部分金属卤化物，可降低镀层中的氯含量。含16％Si的（Ti，St）N比二元TiN镀层有较高的硬度。用划痕法和对滚法评定了二者的结合强度。三元镀层在界面上用TiN作底层，则TiN和（Ti，Si）N的界面疲劳强度是相同的。（Ti，Si）N比TiN在高温下有较高的抗氧化性能。用电化学腐蚀方法测定在3．5％NaCl溶液中的耐腐蚀性表明，（Ti，Si）N镀层优于TiN。 展开更多
关键词 TiN基镀层 耐蚀性 力学性能 PCVD 硅
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部