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射频磁控溅射Cr/CrN膜微结构和力学性能研究 被引量：7
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作者 李立 刘峰 +3 位作者 柴立全 王娟 孟月冬 任兆杏 《中国民航学院学报》 2006年第5期56-59,共4页
利用射频磁控溅射制备了Cr/CrN多层薄膜,并对比单层CrN薄膜,分析研究了多层膜周期与结构和性能之间的关系。研究结果表明:多层膜中没有出现柱状晶体结构,而且结晶取向与单层CrN有显著区别;多层膜的应力普遍小于单层CrN,硬度略高于或接... 利用射频磁控溅射制备了Cr/CrN多层薄膜,并对比单层CrN薄膜,分析研究了多层膜周期与结构和性能之间的关系。研究结果表明:多层膜中没有出现柱状晶体结构,而且结晶取向与单层CrN有显著区别;多层膜的应力普遍小于单层CrN,硬度略高于或接近于单层CrN,在外力作用下的抗变形能力远高于单层CrN;多层膜的应力和硬度随周期厚度的减小而增大,在周期15 nm时硬度值达到最大23.8 GPa,表明Cr/CrN多层膜的硬度与周期结果有关,而且存在使薄膜性能达到最佳的周期值。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 cdcrn多层薄膜 微结构 纳米硬度 内应力
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