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大直径直拉硅单晶炉热场的改造及数值模拟 被引量:8
1
作者 任丙彦 刘彩池 +1 位作者 张志成 郝秋艳 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期381-385,共5页
为了降低大直径硅单晶生长过程中氧的引入 ,对常规的 4 0 6mm(16英寸 )热场进行了改造。设计了以矮加热器为核心的复合式加热器系统 ,使晶体生长过程中熔体热对流减小。通过对热场的数值模拟计算 ,分析了热场的温度分布 ,发现熔体的纵... 为了降低大直径硅单晶生长过程中氧的引入 ,对常规的 4 0 6mm(16英寸 )热场进行了改造。设计了以矮加热器为核心的复合式加热器系统 ,使晶体生长过程中熔体热对流减小。通过对热场的数值模拟计算 ,分析了热场的温度分布 ,发现熔体的纵向温度梯度下降 ,熔体热对流减小 ,硅单晶中氧含量降低。 展开更多
关键词 直拉硅单晶炉 热场 加热器 热对流 数值模拟 改造
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CZSi中Ge增强氧外扩散现象
2
作者 张维连 檀柏梅 +2 位作者 孙军生 张恩怀 张志成 《半导体杂志》 1999年第4期15-17,共3页
在退火处理时,Ge 易与Si 中O 形成易挥发的GeO 复合体,使硅片表面洁净区的形成受氧的外扩散和GeO 挥发两种因素制约。即从效果上看,Ge 增强了氧的外扩散。
关键词 CZSI 氧沉淀 氧外扩散 退火处理
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硅单晶生长中氩气流动对氧碳含量的影响 被引量:2
3
作者 任丙彦 张志成 +2 位作者 刘彩池 郝秋燕 王猛 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1416-1419,共4页
通过对 40 6 m m热场中氩气的流动方式及流速进行调整 ,得到了氧碳含量不同的硅单晶 ,并通过数值模拟计算将氩气流线图描绘出来 ,对实验结果进行了分析 。
关键词 氩气流动 数值模拟 氧碳含量 单晶生长
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锗对CZSi中氧沉淀成核和沉淀形态的影响
4
作者 张维连 檀柏梅 +1 位作者 张颖怀 孙军生 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期92-96,共5页
CZSi中掺入等价元素锗 ,能影响低温退火时氧沉淀过饱和成核的成核速率与密度。在70 0℃退火时 ,抑制杆状氧沉淀的生成 ,在 90 0℃退火时 ,锗对氧沉淀的形态和长大几乎没有影响。实验表明 ,锗并不作为氧沉淀的成核中心 ,氧沉淀及其衍生... CZSi中掺入等价元素锗 ,能影响低温退火时氧沉淀过饱和成核的成核速率与密度。在70 0℃退火时 ,抑制杆状氧沉淀的生成 ,在 90 0℃退火时 ,锗对氧沉淀的形态和长大几乎没有影响。实验表明 ,锗并不作为氧沉淀的成核中心 ,氧沉淀及其衍生的二次缺陷中也不包含锗。文中对锗影响氧沉淀的成核与形态进行了简要的讨论。 展开更多
关键词 直拉单晶硅 氧沉淀 CZSI 沉淀形态
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Effects of argon gas flow rate and guide shell on oxygen concentration in Czochralski silicon growth 被引量:3
5
作者 REN Bingyan ZHAO Long +4 位作者 ZHAO Xiuling WANG Huixian CAO Zhongqian ZHU Huimin FU Hongbo 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第1期7-10,共4页
φ200 mm silicon single crystals were grown in the φ450 mm hot zone of a Czochralski (CZ) furnace. By modifying the pattern and the velocity of the argon flow, the silicon single crystals with different oxygen conc... φ200 mm silicon single crystals were grown in the φ450 mm hot zone of a Czochralski (CZ) furnace. By modifying the pattern and the velocity of the argon flow, the silicon single crystals with different oxygen concentrations were obtained. Through numerical simulation, the velocity of the argon gas flow was plotted for the first time. The experiment resuits were analyzed and the optimum condition of the argon flow with the lowest oxygen concentration was obtained. 展开更多
关键词 inorganic non-metal material CZSI numerical simulation guide shell oxygen concentration
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Φ200mm CZSi复合式热场的数值模拟研究 被引量:2
6
作者 任丙彦 李洪源 +2 位作者 张燕 张兵 郭贝 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期161-164,共4页
对国产TDR-80型单晶炉的复合式热场系统进行了优化设计,建立了不同条件下的理论模型,采用有限元数值模拟的方法分析了主加热器的延伸率、埚径比和熔体高度变化对直拉硅单晶生长中的温度梯度和热流密度分布的影响,为提高晶体生长速率和... 对国产TDR-80型单晶炉的复合式热场系统进行了优化设计,建立了不同条件下的理论模型,采用有限元数值模拟的方法分析了主加热器的延伸率、埚径比和熔体高度变化对直拉硅单晶生长中的温度梯度和热流密度分布的影响,为提高晶体生长速率和质量提供了必要的理论依据。 展开更多
关键词 CZSI 热场 有限元 双加热器 热对流
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快速预热处理对大直径CZ-Si中FPDs及清洁区的影响 被引量:1
7
作者 张建强 刘彩池 +5 位作者 周旗钢 王敬 郝秋艳 孙世龙 赵丽伟 滕晓云 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期73-77,共5页
研究了不同气氛下快速预热处理(RTA)后,硅片中的流动图形缺陷(FPDs)密度和随后两步热处理形成的魔幻清洁区(MDZ)之间的关系.硅片经过高温快速预热处理后,再经过800℃(4h)+1000℃(16h)常规退火,以形成MDZ.研究发现,当硅片在Ar气氛或N2/O2... 研究了不同气氛下快速预热处理(RTA)后,硅片中的流动图形缺陷(FPDs)密度和随后两步热处理形成的魔幻清洁区(MDZ)之间的关系.硅片经过高温快速预热处理后,再经过800℃(4h)+1000℃(16h)常规退火,以形成MDZ.研究发现,当硅片在Ar气氛或N2/O2(9%)混合气氛下RTA预处理后,FPDs密度较低,随后热处理出现的氧沉淀诱生缺陷密度较高、清洁区较宽.对于N2/O2混和气氛,随着O2含量的增加,FPDs和氧沉淀诱生缺陷密度变小,纯O2气氛下预处理后硅片中FPDs和氧沉淀诱生缺陷密度最低.因此,可以通过调节N2/O2混合气氛中两种气氛的比例来控制空洞型微缺陷和硅片体内氧沉淀诱生缺陷的密度. 展开更多
关键词 CZSI 空洞型微缺陷 流动图形缺陷 快速热处理 MDZ
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Study on release rate of latent heat in Czochralski silicon growth 被引量:1
8
作者 REN Bingyan YANG Jiankun LI Yanlin LIU Xiaoping WANG Minhua 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z2期51-54,共4页
The pulling rate in czochralski silicon (CZSi) growth is important for reducing the cost of solar cell. In this paper, double-heater, heat shield and composite argon duct system were introduced in the Ф450 mm hot zon... The pulling rate in czochralski silicon (CZSi) growth is important for reducing the cost of solar cell. In this paper, double-heater, heat shield and composite argon duct system were introduced in the Ф450 mm hot zone of a Czochralski furnace. The pulling rate under different thermal system was recorded in experiments. Argon flow and temperature fields were simulated by finite element method(FEM). Experimental results and numerical simulation indicate that double-heater and composite argon duct system can enhance obviously the release rate of latent heat. In Φ 200 mm Czochralski silicon (CZSi) growth, average pulling rate can increase from 0.6 mm·min-1 in the conventional hot zone to 0.8 mm·min-1 in the modified hot zone. 展开更多
关键词 CZSI latent heat double-heater heat shield numerical simulation
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掺入杂质级等价元素锗的CZSi晶体性能研究
9
作者 张维连 冀志江 +1 位作者 刘彩池 王志军 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第4期352-356,共5页
直拉硅单晶中掺入等价元素锗可以有效地抑制氧施主,提高硅片机械强度,改善氧沉淀的状况。研究了锗的最低有效浓度并探讨了其机理。
关键词 直拉硅单晶 等价掺杂 晶体 半导体材料 性能
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Mathematical model of oxygen outdiffusion
10
作者 Liu Rong Cheng, Qiuping Li Yidong She Siming(Central South University of Techology Chngsha 410083) 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 1994年第3期71-76,共6页
MATHEMATICALMODELOFOXYGENOUTDIFFUSIONONLiuRong;Cheng,QiupingLi;YidongSheSiming(CentralSouthUniversityofTecho... MATHEMATICALMODELOFOXYGENOUTDIFFUSIONONLiuRong;Cheng,QiupingLi;YidongSheSiming(CentralSouthUniversityofTechologyChngsha410083... 展开更多
关键词 CZSI outdiffusion INTRINSIC GETTERING
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掺杂剂种类对大直径直拉硅单晶中void微缺陷的影响
11
作者 郝秋艳 孙文秀 +2 位作者 刘彩池 张建强 姚素英 《南开大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期64-67,共4页
研究了掺杂剂原子种类及快速热处理技术对大直径直拉硅单晶中空洞型微缺陷密度的影响.实验结果发现,掺入半径较大杂质原子的硅片,空洞型微缺陷密度相对较高,掺入半径较小杂质原子的硅片,空洞型微缺陷的密度相对较低.高温快速热处理后,... 研究了掺杂剂原子种类及快速热处理技术对大直径直拉硅单晶中空洞型微缺陷密度的影响.实验结果发现,掺入半径较大杂质原子的硅片,空洞型微缺陷密度相对较高,掺入半径较小杂质原子的硅片,空洞型微缺陷的密度相对较低.高温快速热处理后,硅片中FPD s的密度都有很大程度降低,而A r气氛退火对vo id微缺陷密度的影响要优于N2气氛.轻掺B硅片在O2气氛退火后FPD s密度下降最多,而重掺Sb硅片在O2气氛退火后FPD s密度下降最少. 展开更多
关键词 CZSI 空洞型微缺陷 FPDS 快速热处理
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Effects of CZSi furnace modification on density of grown-in defects
12
作者 任丙彦 郝秋燕 +2 位作者 张志成 王猛 刘彩池 《Science China Mathematics》 SCIE 2002年第6期778-782,共5页
During large diameter Czochralski silicon growth, heat zone and argon flow influence the formation of defects in silicon crystal by changing the distribution of temperature. Different silicon crys tals with various de... During large diameter Czochralski silicon growth, heat zone and argon flow influence the formation of defects in silicon crystal by changing the distribution of temperature. Different silicon crys tals with various density of grown-in defects were grown by replacing the popular heater with the com posite heater and changing the popular argon flow into a controlled flow. The experimental results have been explained well by the numeric simulation of argon flow. 展开更多
关键词 CZSi grown-in defects heat zone ARGON flow numeric simulation.
原文传递
直拉硅单晶炉热系统的改造对氧、碳含量的影响 被引量:2
13
作者 申少华 胡波 秦先志 《湖南科技大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2009年第3期103-107,共5页
为了降低大直径硅单晶生长过程中所引入的氧、碳杂质含量,提高硅单晶质量,特对18英寸直拉硅单晶炉的热系统进行了改进.实验结果表明,通过改变氩气流向和加热器的尺寸的改进型热系统,可降低了硅单晶中的氧、碳含量,缩短拉制晶体时间,降... 为了降低大直径硅单晶生长过程中所引入的氧、碳杂质含量,提高硅单晶质量,特对18英寸直拉硅单晶炉的热系统进行了改进.实验结果表明,通过改变氩气流向和加热器的尺寸的改进型热系统,可降低了硅单晶中的氧、碳含量,缩短拉制晶体时间,降低消耗功率,提高硅单晶质量.图10,表1,参13. 展开更多
关键词 直拉单晶硅 热系统 氩气流向 加热器 氧、碳含量
原文传递
直拉硅单晶中的流动图形缺陷 被引量:2
14
作者 刘彩池 乔治 +5 位作者 周旗钢 王敬 郝秋艳 张建峰 李养贤 任丙彦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期60-63,共4页
用 Secco腐蚀液对直径 15 0 mm p型 (10 0 )直拉硅单晶片进行择优腐蚀后 ,得到了流动图形缺陷 (FPDs) ,并通过原子力显微镜 (AFM)对其微观结构进行观察 .实验发现 ,在 FPDs缺陷的尖端存在有几百纳米的由 (111)面构成的八面体空洞 ,这与 ... 用 Secco腐蚀液对直径 15 0 mm p型 (10 0 )直拉硅单晶片进行择优腐蚀后 ,得到了流动图形缺陷 (FPDs) ,并通过原子力显微镜 (AFM)对其微观结构进行观察 .实验发现 ,在 FPDs缺陷的尖端存在有几百纳米的由 (111)面构成的八面体空洞 ,这与 Takeno等人的实验结果相反 ,他们认为 FPD的端部是间隙型的位错环 ;实验还发现 。 展开更多
关键词 直拉硅单晶 FPDS 空洞 原子力显微镜
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NTDCZSi中氧的沉淀与吸除 被引量:1
15
作者 张维连 王志军 +2 位作者 孙军生 张颖怀 张恩怀 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期596-597,共2页
在适当温度退火时,中子嬗变掺杂(NTD)的CZSi中产生的大量亚稳态辐照缺陷在退火过程中会增强氧的外扩散与沉淀。根据CZSi中热施主与电阻率的关系,利用扩展电阻(SR-100C)法测量了硅片退火后氧的纵向分布形式,发现辐照缺陷的存在... 在适当温度退火时,中子嬗变掺杂(NTD)的CZSi中产生的大量亚稳态辐照缺陷在退火过程中会增强氧的外扩散与沉淀。根据CZSi中热施主与电阻率的关系,利用扩展电阻(SR-100C)法测量了硅片退火后氧的纵向分布形式,发现辐照缺陷的存在影响了硅中氧的扩散与沉淀行为。 展开更多
关键词 中子嬗变掺杂 辐照缺陷 CZSI 氧沉淀退火
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直拉硅片杂质缺陷的控制与利用 被引量:1
16
作者 李养贤 郝秋艳 +1 位作者 杨帅 马巧云 《河北工业大学学报》 CAS 2004年第2期67-71,共5页
简要叙述了直拉硅中缺陷工程的研究进展.提出了采用中子辐照或掺杂技术,在硅中引入杂质缺陷,并通过其相互作用实现对硅中杂质和缺陷的控制与利用.此项研究是硅片缺陷工程的新内容.
关键词 缺陷工程 中子辐照 杂质 缺陷 直拉硅
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热场分布对大直径CZSi单晶中氧含量的影响
17
作者 任丙彦 张志成 +1 位作者 刘彩池 郝秋艳 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期328-332,共5页
为了降低大直径 CZSi单晶生长过程中氧的引入,采用不同的热场,通过最优化方法,得到了适于大直径(154mm)晶体生长的热场温度分布,使熔体的纵向温度梯度下降,热对流减小。
关键词 硅单晶 直接法生长 氧含量 热场分布 热对流 数值模拟
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氮气氛直拉硅中氧沉淀的研究
18
作者 佘思明 廖平婴 +1 位作者 彭世宽 李立本 《中南矿冶学院学报》 CSCD 1993年第2期267-272,共6页
用傅里叶红外光谱、透射电镜和化学腐蚀研究了氮气氛直拉硅(NCZSi)中的氧沉淀。结果指出,原生NCZSi中存在氧对-硅-氧复合物;N集中于氧沉淀的中心区域;N参子的中心区域表现出热稳定性。文中还提出了关于NCZSi中氧沉淀形核和生长途径的假设。
关键词 直拉硅 氧沉淀 缺陷
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光激电流法测量掺锗CZSi中的深能级
19
作者 张维连 闫书霞 冀志江 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1996年第3期266-267,共2页
用光激电流法研究了Ge作为杂质掺入到Si中可能引入的深能级,发现掺锗量小于或等于1.0wt%(重量比)时,不会在CZSi中引入与锗有关的深能级;锗的引入降低了硅中点缺陷的浓度。
关键词 等电子掺杂 深能级 光激电流法 掺锗 硅晶体
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氮气氛直拉硅的本征吸杂的研究
20
作者 佘思明 李立本 彭世宽 《浙江大学学报(自然科学版)》 CSCD 1993年第4期498-506,共9页
本文利用化学腐蚀、扩展电阻探针、透射电镜和电子探针等研究了氮气氛直拉硅的本征吸杂。经高——低——高三段热处理可获得比较完整的洁净区,体内有高密度且分布均匀的氧沉淀及其诱生缺陷,它们具有吸杂能力。洁净区内有片状残余缺陷。... 本文利用化学腐蚀、扩展电阻探针、透射电镜和电子探针等研究了氮气氛直拉硅的本征吸杂。经高——低——高三段热处理可获得比较完整的洁净区,体内有高密度且分布均匀的氧沉淀及其诱生缺陷,它们具有吸杂能力。洁净区内有片状残余缺陷。跟氩气氛直拉硅相比,氮气氛直拉硅的氧沉淀及其诱生缺陷有些不同。体内沉淀除片状外,主要是四面体。层错中央无氧沉淀。位错环是由氧沉淀诱生位错成为F—R源增殖的。 展开更多
关键词 直拉硅 本征吸杂 氮气氛
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