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三值T门组合网络自动综合的理论和算法
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作者 姜恩华 姜文彬 《浙江大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期741-747,共7页
利用具有补运算三值格代数系统和三值T代数系统的基本运算和主要性质,提出了基于三值逻辑函数简化不相交积之和形式的三值T门组合网络自动综合的一些理论问题和算法,并给出了应用实例.利用CMOS管电路实现了三值T门模块和应用实例中的三... 利用具有补运算三值格代数系统和三值T代数系统的基本运算和主要性质,提出了基于三值逻辑函数简化不相交积之和形式的三值T门组合网络自动综合的一些理论问题和算法,并给出了应用实例.利用CMOS管电路实现了三值T门模块和应用实例中的三值T门组合网络.HSPICE仿真实验验证了所设计的三值T门组合网络逻辑功能正确,表明该算法是有效的.该方法易实现三值T门组合网络的自动综合. 展开更多
关键词 三值格代数 cmos T门网络 最小化 计算机辅助设计
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Comparison of radiation degradation induced by x-ray and 3-MeV protons in 65-nm CMOS transistors
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作者 丁李利 Simone Gerardin +3 位作者 Marta Bagatin Dario Bisello Serena Mattiazzo Alessandro Paccagnella 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第9期468-473,共6页
The total ionizing dose(TID) response of 65-nm CMOS transistors is studied by 10-ke V x-ray and 3-Me V protons up to 1 Grad(SiO_2) total dose.The degradation levels induced by the two radiation sources are differe... The total ionizing dose(TID) response of 65-nm CMOS transistors is studied by 10-ke V x-ray and 3-Me V protons up to 1 Grad(SiO_2) total dose.The degradation levels induced by the two radiation sources are different to some extent.The main reason is the interface dose enhancement due to the thin gate oxide and the low energy photons.The holes' recombination also contributes to the difference.Compared to these two mechanisms,the influence of the dose rate is negligible. 展开更多
关键词 total ionizing dose(TID) effects grad dose x-ray and protons 65-nm cmos transistors
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后摩尔时代的碳基电子技术:进展、应用与挑战 被引量:7
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作者 刘一凡 张志勇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期386-421,共36页
近六十年来,以硅为核心材料的半导体技术,特别是CMOS集成电路技术推动了人类信息社会的深刻变革,但也逐渐接近其物理极限和工程极限,全球半导体产业已经进入后摩尔时代.半导体性碳纳米管具有高迁移率、超薄体等诸多优异的电学特性,因此... 近六十年来,以硅为核心材料的半导体技术,特别是CMOS集成电路技术推动了人类信息社会的深刻变革,但也逐渐接近其物理极限和工程极限,全球半导体产业已经进入后摩尔时代.半导体性碳纳米管具有高迁移率、超薄体等诸多优异的电学特性,因此成为后摩尔时代新型半导体材料的有力候选.基于碳纳米管的碳基电子技术历经二十余年发展,在材料制备、器件物理和晶体管制备等基础性问题中也已经取得了根本性突破,其产业化进程从原理上看已经没有不可逾越的障碍.因此,本文着重介绍了碳基电子技术在后摩尔时代的本征优势,综述了碳基电子技术的基础性问题、进展和下一步的优化方向,及其在数字集成电路、射频电子、传感器、三维集成和特种芯片等领域的应用前景.最后,本文还分析了碳基电子技术产业化进程中的综合性挑战,并对其未来发展做出预测和展望. 展开更多
关键词 碳纳米管 碳基电子技术 cmos 晶体管 集成电路
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CMOS技术的现状与展望综述
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作者 王光伟 曹继华 +1 位作者 宋延民 张建民 《天津工程师范学院学报》 2005年第1期10-12,共3页
概述了几十年来集成电路基本单元CMOS晶体管特征尺寸的缩小以及由此带来电路性能的提高和出现的问题。其主要的挑战集中在研发成本的上升、能耗的增大和可靠性问题。阐明了驱动CMOS晶体管尺寸缩小的原因除了技术进步,更在于电路可售出... 概述了几十年来集成电路基本单元CMOS晶体管特征尺寸的缩小以及由此带来电路性能的提高和出现的问题。其主要的挑战集中在研发成本的上升、能耗的增大和可靠性问题。阐明了驱动CMOS晶体管尺寸缩小的原因除了技术进步,更在于电路可售出成本的下降。 展开更多
关键词 cmos晶体管 半导体器件 特征尺寸缩小 集成电路 芯片 集成电路
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碳基CMOS集成电路技术:发展现状与未来挑战 被引量:4
5
作者 刘晨晨 张志勇 《中国科学:化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第11期1457-1473,共17页
碳纳米管凭借其优良的电学性质、准一维尺寸以及稳定的结构成为后摩尔时代最理想的半导体材料.目前碳基电子学已经取得很大进展,例如可以在4寸晶圆上得到高半导体纯度(超过99.9999%)的密排(100~200 CNTs/μm)阵列碳纳米管,晶体管栅长可... 碳纳米管凭借其优良的电学性质、准一维尺寸以及稳定的结构成为后摩尔时代最理想的半导体材料.目前碳基电子学已经取得很大进展,例如可以在4寸晶圆上得到高半导体纯度(超过99.9999%)的密排(100~200 CNTs/μm)阵列碳纳米管,晶体管栅长可以缩至5 nm且具备超越硅基的性能,世界首个碳基现代微处理器RV16XNANO已经问世.本文综述了近年来碳纳米管在材料、器件和集成电路方面的发展,以及未来可能在光电、传感、显示和射频等领域的应用前景.最后,文章列举了碳基CMOS集成电路推向产业化的过程中面临的一系列挑战,并对碳基技术发展路线做了进一步展望. 展开更多
关键词 碳纳米管 cmos晶体管 集成电路 纳米电子学
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Design and simulation of charge sensitive preamplifier with CMOS FET implemented as feedback capacitor C_(fp) 被引量:3
6
作者 WEMBE TAFO Evariste SU Hong +1 位作者 GAO Yanni WU Ming 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2008年第4期241-245,共5页
In this paper,to design a new preamplifier for optimum performances with charged-particle or heavy-ion detectors,the CMOS FET is implemented as a feedback capacitor Cfp,so that the entire system should be built only w... In this paper,to design a new preamplifier for optimum performances with charged-particle or heavy-ion detectors,the CMOS FET is implemented as a feedback capacitor Cfp,so that the entire system should be built only with MOSFET. This work is a revolution design because to realize an ASIC for a preamplifier circuit,the capacitor will also be included. We succeed after a simulation to maintain a rise time less than 3 ns,the output resistance less than 94 ? and the linearity almost good. 展开更多
关键词 电流放大器 粒子探测技术 模拟实验 放射学
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Design and simulation of Gaussian shaping amplifier made only with CMOS FET for FEE of particle detector 被引量:2
7
作者 WEMBE TAFO Evariste SU Hong +2 位作者 QIAN Yi KONG Jie WANG Tongxi 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2010年第5期312-315,共4页
The objective of this paper is to design and simulate a shaping amplifier circuit for silicon strip,Si(Li),CdZnTe and CsI detectors,etc.,which can be further integrated the whole system and adopted to develop CMOS-bas... The objective of this paper is to design and simulate a shaping amplifier circuit for silicon strip,Si(Li),CdZnTe and CsI detectors,etc.,which can be further integrated the whole system and adopted to develop CMOS-based application,specific integrated circuit for Front End Electronics(FEE) of read-out system of nuclear physics,particle physics and astrophysics research,etc.It's why we used only CMOS transistor to develop the entire system.A Pseudo-Gaussian shaping amplifier made by fourth-order integration stage and a differentiation stage give a result same as a true CR-RC4 filter,we perform shaping time in the range,465 ns to 2.76μs with a low output resistance and the linearity almost good. 展开更多
关键词 MOS场效应管 探测器 放大器 设计 高斯 cmos晶体管 颗粒 成型
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1609补偿声波测井仪发射电路的改进 被引量:1
8
作者 牛伟 韩素云 +3 位作者 冯爱莉 吝强 李荣桂 李振玉 《石油仪器》 2004年第5期39-40,43,共3页
文章针对 1 6 0 9补偿声波测井仪发射电路稳定性差、压控元件易击穿等问题提出改进方法 ,用可控硅代替原来的CMOS场效应管来改善仪器的工作性能。实际应用表明 ,改进后的仪器工作性能和技术指标稳定 ,很好地满足了生产需要。
关键词 cmos 发射电路 可控硅 逻辑脉冲 孔隙度
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DOE技术在低电压CMOS晶体管中的质量控制 被引量:1
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作者 张霞 袁陈晨 +2 位作者 郑祺 徐士美 童庆强 《电子器件》 CAS 北大核心 2014年第6期1043-1048,共6页
采用DOE(Design of Experiment)试验方法进行了CMOS晶体管工艺流片的分卡操作,研究18个样品的Vt区注入Dvt、N场注入DNF、TEMP注入DP这3种注入剂量变化的情形下阈值电压Vtn和Vtp的调控优化值。通过最大跨导法测试阈值电压Vtn和Vtp,考查3... 采用DOE(Design of Experiment)试验方法进行了CMOS晶体管工艺流片的分卡操作,研究18个样品的Vt区注入Dvt、N场注入DNF、TEMP注入DP这3种注入剂量变化的情形下阈值电压Vtn和Vtp的调控优化值。通过最大跨导法测试阈值电压Vtn和Vtp,考查3种注入剂量对Vtn和Vtp的影响趋势,发现Dvt和DNF直接决定Vtn,Dvt和DP直接决定Vtp。结果表明,Vtn为0.082 V^0.600 V,关系式为Vtn=0.15791Dvt+0.12320DNF+0.11433;Vtp为0.0535 V^0.6300 V,关系式为V2tp=-0.03077D2vt-0.01688D2P+0.71899。 展开更多
关键词 cmos晶体管 阈值电压 DOE 注入剂量
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用于粒子探测器的CMOS FET采样保持电路的设计与仿真(英文)
10
作者 WEMBE TAFO Evariste 苏弘 +2 位作者 千奕 周朝阳 王同喜 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期459-463,共5页
介绍了一个峰保持电路。该电路适用于silicon strip,Si(Li),CdZn Te and CsI等探测器,实现采样-保持功能。已成功进行了基于CMOSFET的采样-保持电路的设计和仿真,通过使用Proteus的PSPICE仿真器和BSIMV3.3模型参数完成了电路性能的仿真... 介绍了一个峰保持电路。该电路适用于silicon strip,Si(Li),CdZn Te and CsI等探测器,实现采样-保持功能。已成功进行了基于CMOSFET的采样-保持电路的设计和仿真,通过使用Proteus的PSPICE仿真器和BSIMV3.3模型参数完成了电路性能的仿真。同时,实现了采样时间可在60ns到4.44s范围内进行选择,该电路具有较好的线性。 展开更多
关键词 采样保持 cmos场效应管 峰值 仿真
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基于CMOS晶体管的太赫兹探测器研究进展
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作者 付元旭 梁志茂 +2 位作者 范菁 张广求 赵波 《云南民族大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第2期203-208,共6页
随着太赫兹波的广泛应用,太赫兹探测技术成为研究的热点,探测器件主要以肖特基二极管,量子阱二极管,CMOS晶体管为主,CMOS晶体管探测器件具有响应度高,信噪比好,等效功率高等优点.首先介绍了太赫兹探测器的技术指标,接着从结构及材料两... 随着太赫兹波的广泛应用,太赫兹探测技术成为研究的热点,探测器件主要以肖特基二极管,量子阱二极管,CMOS晶体管为主,CMOS晶体管探测器件具有响应度高,信噪比好,等效功率高等优点.首先介绍了太赫兹探测器的技术指标,接着从结构及材料两方面对近年来CMOS晶体管的改进方案进行了综述对比,最后介绍了太赫兹探测器的应用并对应用前景及未来发展方向进行了展望. 展开更多
关键词 太赫兹探测器 cmos晶体管 器件响应度 等效噪声功率
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模拟电子技术发展的新趋势 被引量:2
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作者 于晓权 赖凡 付晓君 《微电子学》 CAS 北大核心 2021年第6期773-777,共5页
半导体科技是未来信息和通信技术发展的主要推动力,模拟电子技术是半导体科技的不可或缺的组成部分。文章阐述了受未来信息系统更大处理能力、更高传输能力、更低延时感知等需求的拉动,模拟电子技术在智能化感知和执行、新计算处理架构... 半导体科技是未来信息和通信技术发展的主要推动力,模拟电子技术是半导体科技的不可或缺的组成部分。文章阐述了受未来信息系统更大处理能力、更高传输能力、更低延时感知等需求的拉动,模拟电子技术在智能化感知和执行、新计算处理架构、高能量效率、整体协同开发平台等方面的几大主要技术发展趋势。讨论了模拟电子技术在晶体管、电路、模拟学习架构、先进工艺技术等基础层面以及通信领域中的重要研究方向。该综述研究显示了未来十年模拟电子关键技术的发展轮廓。 展开更多
关键词 模拟电子 半导体 信息和通信技术 智能化感知和执行 模拟生物启发学习 模拟ML架构 能量效率 硅突触晶体管 太赫兹cmos晶体管 FPAA 神经形态ADC/DAC 异构集成 整体协同开发
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CMOS器件辐照后热退火过程中激发能分布的确定 被引量:2
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作者 何宝平 陈伟 +1 位作者 张凤祁 姚志斌 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期232-236,共5页
对CMOS晶体管辐照后的等温、等时退火特性进行研究,给出辐照敏感参数在等温、等时退火过程中随退火时间、退火温度的变化关系。根据退火模型计算了CMOS器件辐照后25、100℃等温和25-250℃等时退火过程中激发能的分布。结果表明:25、10... 对CMOS晶体管辐照后的等温、等时退火特性进行研究,给出辐照敏感参数在等温、等时退火过程中随退火时间、退火温度的变化关系。根据退火模型计算了CMOS器件辐照后25、100℃等温和25-250℃等时退火过程中激发能的分布。结果表明:25、100℃等温退火激发能范围为0.65~0.76eV和0.75~0.95eV;25-250℃等时退火的激发能范围在0.5~1.1eV之间,峰值位于0.81eV。 展开更多
关键词 辐照后cmos器件 等时退火 等温退火 激发能
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一种用于AC-DC的可修条振荡器的设计
14
作者 袁蕊林 王林 《电子质量》 2011年第8期35-36,50,共3页
该文主要设计了一种用于AC-DC电源管理芯片中的频率为100khz的可修条高精度振荡器,它以比较器为核心电路,并利用系统内部产生的恒流源对电容进行充放电,经过控制电路的作用后,使输出波形为线性度很好的三角波。通过HSPICE的仿真结果表明... 该文主要设计了一种用于AC-DC电源管理芯片中的频率为100khz的可修条高精度振荡器,它以比较器为核心电路,并利用系统内部产生的恒流源对电容进行充放电,经过控制电路的作用后,使输出波形为线性度很好的三角波。通过HSPICE的仿真结果表明,三角波具有较好的线性度,其信号振荡频率随电源电压和温度的波动变化较小,性能良好,可广泛用于PWM(脉宽调制)等各种电子电路中。电路在0.6μmCMOS工艺下得到验证。 展开更多
关键词 cmos晶体管电路 可修条振荡器 比较器 恒流源
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一种新型Rail-to-Rail运算放大器的设计与分析 被引量:3
15
作者 张杰伟 柯菁华 赖宗声 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期57-60,共4页
提出了一种采用线性跨导输入级的Rail-to-Rail运算放大器,输入级的跨导基本实现了与共模输入电压无关,而只与工艺参数和工作电压有关。采用了复合晶体管的设计,使等效NMOS和等效PMOS的电学参数一致,摈弃了由于PMOS及NMOS的不一致性而采... 提出了一种采用线性跨导输入级的Rail-to-Rail运算放大器,输入级的跨导基本实现了与共模输入电压无关,而只与工艺参数和工作电压有关。采用了复合晶体管的设计,使等效NMOS和等效PMOS的电学参数一致,摈弃了由于PMOS及NMOS的不一致性而采取的补偿措施,输出级采用甲乙类CMOS结构。 展开更多
关键词 线性跨导输入 运算放大器 设计
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Wide Symmetrical Dynamic Range PWM Neuron Circuit with Power Efficient Architecture
16
作者 陈继伟 石秉学 《Tsinghua Science and Technology》 SCIE EI CAS 2002年第5期513-516,共4页
A novel pulse stream neuron circuit is presented whose output pulse width facilitates sigmoid activation to activate the function of neurons. The wide symmetrical dynamic range of this neuron ensures high noise immuni... A novel pulse stream neuron circuit is presented whose output pulse width facilitates sigmoid activation to activate the function of neurons. The wide symmetrical dynamic range of this neuron ensures high noise immunity. The pulsed activation strategy provides a power efficient architecture, so the circuit has very low power dissipation. The simplicity of the circuit ensures its suitability for large-scale integration. 展开更多
关键词 neuron network pulsed activation pulse width modulation (PWM) low power design very large scale integration (VLSI) complementary metal-oxide-semiconductor (cmos) transistor
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衬底偏压效应在电路中的影响
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作者 陈智 孙大成 《微处理机》 2009年第1期39-40,共2页
在介绍衬底偏压效应产生原理的基础上,给出了衬底偏压效应的定义,并详细介绍了CMOS传输门的衬底偏压效应。接下来以实际电路高速CMOS 16位双向收发器为例介绍了衬底偏压效应对电路的影响,并给出了一种消除衬偏效应的设计方法。
关键词 衬底偏压效应 cmos传输门 双向收发器
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