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PCVD法制取β-SiC超微粉末 被引量:4
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作者 郭家银 郑国梁 《化工冶金》 CSCD 北大核心 1991年第1期1-7,共7页
本文以 CH_3SiCl_3为原料,利用 PCVD(Plasma Chemical Vapor Depo-sition)法制取了β—SiC 超微陶瓷粉末。平均粒径<0.1μm,SiC 含量可达到96%,氧含量可小于1.5%。实验探讨了粉末成分与诸因素关系;提供了粉末烧结性能的初步试验研究... 本文以 CH_3SiCl_3为原料,利用 PCVD(Plasma Chemical Vapor Depo-sition)法制取了β—SiC 超微陶瓷粉末。平均粒径<0.1μm,SiC 含量可达到96%,氧含量可小于1.5%。实验探讨了粉末成分与诸因素关系;提供了粉末烧结性能的初步试验研究结果. 展开更多
关键词 Β-SIC 超微粉末 气相法 ch3sicl3
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