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跳动模式对微球CH涂层表面粗糙度的影响 被引量：6
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作者 张宝玲 何智兵 +5 位作者 吴卫东 刘兴华 杨向东 马小军 杨蒙生 林华平 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1109-1113,共5页
采用低压等离子体化学气相沉积方法(LPPCVD),结合反弹盘系统制备了微球CH涂层,研究了跳动模式对微球CH涂层表面形貌的影响。利用光学显微镜和扫描电镜(SEM)对微球涂层表面形貌进行了分析;利用原子力显微镜(AFM)测定了微球CH涂层表面均... 采用低压等离子体化学气相沉积方法(LPPCVD),结合反弹盘系统制备了微球CH涂层,研究了跳动模式对微球CH涂层表面形貌的影响。利用光学显微镜和扫描电镜(SEM)对微球涂层表面形貌进行了分析;利用原子力显微镜(AFM)测定了微球CH涂层表面均方根粗糙度(RMS)并对球形度进行了表征;利用X光照相技术对同心度进行了表征。结果表明:采用间歇跳动模式可有效改善微球CH涂层的表面形貌,降低中高模数的粗糙度。在间歇跳动模式下,减小占空比,可使CH涂层的表面粗糙度得到进一步降低。在占空比为1/4的间歇跳动模式下制备的厚度为30μm的CH涂层,其表面均方根粗糙度低于30 nm,碳氢-聚苯乙烯(CH-PS)微球的球形度与同心度均优于99%。 展开更多
关键词 ICF靶丸 跳动模式 ch涂层 反弹盘 均方根粗糙度 功率谱
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