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表面带C=C端基活性膜SiO_2复合体的研究
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作者 闻荻江 朱新生 李敏 《武汉化工学院学报》 2002年第3期37-39,共3页
利用甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷合成了带 C=C端基的活性膜 / Si O2 复合体 ,探讨了其表面结构 .XPS表征表明 ,Si O2 表面的有机硅烷牢固结合 ,扫描电镜表征了硅烷化后 Si O2 表面的膜结构 。
关键词 c=c端 多孔SIO2 丙烯酰氧丙三甲氧硅烷 表面活性膜 合成技术
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