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掺硼金刚石的高温高压合成 被引量:7
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作者 张健琼 贾晓鹏 +3 位作者 马红安 任国仲 臧传义 姜一萍 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2005年第1期15-17,共3页
掺硼金刚石具有诸多优良的性质,因而成为当前金刚石掺杂中的研究热点。本文通过将一定比例的无定形硼粉均匀加入到粉末石墨--触媒体系中,在六面顶压机上利用高温高压方法合成了掺硼金刚石。考察了样品中不同的硼添加比例对合成金刚石最... 掺硼金刚石具有诸多优良的性质,因而成为当前金刚石掺杂中的研究热点。本文通过将一定比例的无定形硼粉均匀加入到粉末石墨--触媒体系中,在六面顶压机上利用高温高压方法合成了掺硼金刚石。考察了样品中不同的硼添加比例对合成金刚石最低压力点的影响,以及压力和温度对合成掺硼金刚石的影响。经过大量实验,总结出了合成金刚石的最低压力点与样品中硼添加比例的关系曲线。实验结果表明,合成温度是影响晶体中硼含量的主要因素。同时,实验还发现,硼在晶体中的分布情况存在着区域性,以及随着晶体内硼含量的增加,晶体晶形变差,而且容易生长聚晶。 展开更多
关键词 高温高压 硼掺杂 金刚石
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用STM研究渗硼改性碳纤维结构与力学性能的相关性 被引量:7
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作者 沈曾民 田艳红 +2 位作者 常维璞 J B Doneet T K Wang 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期7-11,共5页
 研究了PAN基碳纤维浸渍不同硼化物溶液进行高温热处理后(2500℃)对力学性能的影响。采用扫描隧道显微镜观察了渗硼处理对碳纤维表面微观形态结构的影响,同时还采用X-ray衍射技术分析了渗硼处理对纤维结构参数的影响。结果表明渗硼处...  研究了PAN基碳纤维浸渍不同硼化物溶液进行高温热处理后(2500℃)对力学性能的影响。采用扫描隧道显微镜观察了渗硼处理对碳纤维表面微观形态结构的影响,同时还采用X-ray衍射技术分析了渗硼处理对纤维结构参数的影响。结果表明渗硼处理可提高CF的力学性能,采用硼化物A浸渍热处理后CF的模量和强度分别提高了10.3%和15.3%。通过STM观察可以很清楚看到渗硼处理可提高CF的择优取向和晶体尺寸,减少表面缺陷。X-ray衍射分析结果与STM一致,渗硼热处理提高了CF的晶体尺寸。 展开更多
关键词 碳(石墨)纤维 渗硼 表面微观结构 STM XRD
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Boron-doped microporous nano carbon as cathode material for high-performance Li-S batteries 被引量:4
3
作者 Feng Wu Ji Qian +7 位作者 Weiping Wu Yusheng Ye Zhiguo Sun Bin Xu Xiaoguang Yang Yuhong Xu Jiatao Zhang Renjie Chen 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第2期426-436,共11页
In this study, a boron-doped microporous carbon (BMC)/sulfur nanocomposite is synthesized and applied as a novel cathode material for advanced Li-S batteries. The cell with this cathode exhibits an ultrahigh cycling... In this study, a boron-doped microporous carbon (BMC)/sulfur nanocomposite is synthesized and applied as a novel cathode material for advanced Li-S batteries. The cell with this cathode exhibits an ultrahigh cycling stability and rate capability. After activation, a capacity of 749.5 mAh/g was obtained on the 54t" cycle at a discharge current of 3.2 A/g. After 500 cycles, capacity of 561.8 mAh/g remained (74.96% retention), with only a very small average capacity decay of 0.056%. The excellent reversibility and stability of the novel sulfur cathode can be attributed to the ability of the boron-doped microporous carbon host to both physically confine polysulfides and chemically bind these species on the host surface. Theoretical calculations confirm that boron-doped carbon is capable of significantly stronger interactions with the polysulfide species than undoped carbon, most likely as a result of the lower electronegativity of boron. We believe that this doping strategy can be extended to other metal-air batteries and fuel cells, and that it has promising potential for many different applications. 展开更多
关键词 boron-doping microporous carbon binding energy Li-S batteries
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渗硼提高炭材料抗氧化性研究进展 被引量:5
4
作者 任研研 郭宁 吴明铂 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期183-188,共6页
综述了气体渗硼、液体渗硼和固体渗硼三种主要渗硼方式、各自优缺点及适用范围,分析了微波对炭材料渗硼的促进作用,给出了渗硼提高炭材料抗氧化性的机理,对渗硼技术的今后发展进行了展望。
关键词 炭材料 渗硼 抗氧化
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Boron and nitrogen dual-doped carbon as a novel cathode for high performance hybrid ion capacitors 被引量:1
5
作者 Jiangmin Jiang Ping Nie +5 位作者 Shan Fang Yadi Zhang Yufeng An Ruirui Fu Hui Dou Xiaogang Zhang 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第4期624-628,共5页
Hybrid ion capacitors have been considered as a very attractive energy source with high energy density and power density since it combines both merits of lithium ion batteries and supercapacitors. However,their commer... Hybrid ion capacitors have been considered as a very attractive energy source with high energy density and power density since it combines both merits of lithium ion batteries and supercapacitors. However,their commercial application has been limited by the mismatch of charge-storage capacity and electrode kinetics between the capacitor-type cathode and battery-type anode. Herein, B and N dual-doped 3D superstructure carbon cathode is prepared through a facile template method. It delivers a high specific capacity, excellent rate capability and good cycling stability due to the B, N dual-doping, which has a profound effect in control the porosity, functional groups, and electronic conductivity for the carbon cathode. The hybrid ion capacitors using B, N dual-doping carbon cathode and prelithiated graphite anode show a high energy density of 115.5 Wh/kg at 250 W/kg and remain about 53.6 Wh/kg even at a high power density of 10 kW/kg. Additionally, the novel hybrid device achieves 76.3% capacity retention after 2000 cycles tested at 1250 W/kg power density. Significantly, the simultaneous manipulation of heteroatoms in carbon materials provides new opportunities to boost the energy and power density for hybrid ion capacitors. 展开更多
关键词 Hybrid ion capacitors boron-doping Nitrogen-doping Dual-doped carbon Template method Energy density
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硼掺杂对碳纳米管形貌和磁性能的影响 被引量:4
6
作者 钱兰 江奇 +2 位作者 易锦 朱晓彤 赵勇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1398-1400,共3页
以碳纳米管为原料,利用真空封管技术在高温下用硼粉对碳纳米管进行掺杂处理,获得了碳化硼纳米管(纤维)。利用透射电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱和磁性测试设备对样品的形貌、结构、组分和磁性能进行了表征。结果表明,掺硼后... 以碳纳米管为原料,利用真空封管技术在高温下用硼粉对碳纳米管进行掺杂处理,获得了碳化硼纳米管(纤维)。利用透射电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱和磁性测试设备对样品的形貌、结构、组分和磁性能进行了表征。结果表明,掺硼后的碳纳米管(纤维)不仅在形貌上有很大改变,而且其磁性能也有了很大的改变。 展开更多
关键词 碳纳米管 硼掺杂 磁性能
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自支撑硼掺杂金刚石膜残余应力和微观应力的XRD分析 被引量:4
7
作者 徐跃 张彤 +3 位作者 李柳暗 李红东 吕宪义 金曾孙 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期264-268,共5页
利用XRD(包括sin^2ψ法)研究了电子辅助热灯丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)生长的自支撑硼掺杂多晶金刚石薄膜的残余应力和微观应力。结果表明,薄膜的残余应力为压应力,随着薄膜制备过程中硼流量的增加,应力值有减小的趋势。薄膜的微观应... 利用XRD(包括sin^2ψ法)研究了电子辅助热灯丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)生长的自支撑硼掺杂多晶金刚石薄膜的残余应力和微观应力。结果表明,薄膜的残余应力为压应力,随着薄膜制备过程中硼流量的增加,应力值有减小的趋势。薄膜的微观应力随着硼流量的增加,由拉应力转变为压应力然后又转变为拉应力。残余应力和微观应力的变化归因于一定量的硼掺杂导致的多晶膜中晶粒尺寸、晶面取向及孪晶变化的共同作用。 展开更多
关键词 无机非金属材料 CVD金刚石膜 硼掺杂 XRD 残余应力 微观应力
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硼掺杂石墨烯气凝胶的制备及在超级电容器中电化学性能研究 被引量:4
8
作者 任帅 容萍 +2 位作者 于琦 姜立运 李亚鹏 《炭素技术》 CAS 北大核心 2019年第4期23-27,共5页
以氧化石墨烯(GO)为碳源,以硼酸为硼源,利用简单的一步水热合成法制备了稳定高性能的硼掺杂石墨烯气凝胶(BGA)。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、红外光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)等技术手段表征了B-GA的表面形貌和化学状态... 以氧化石墨烯(GO)为碳源,以硼酸为硼源,利用简单的一步水热合成法制备了稳定高性能的硼掺杂石墨烯气凝胶(BGA)。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、红外光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)等技术手段表征了B-GA的表面形貌和化学状态,并且在三电极体系下测试了B-GA的电化学性能。实验结果显示,通过水热法成功地将硼元素掺入石墨烯的晶格内并使其表现出优异的热稳定性。B-GA在1 A/g的电流密度下的比电容高达267.1 F/g,这证实了B-GA作为超级电容器电极材料在储能领域的应用潜力。 展开更多
关键词 石墨烯 硼掺杂 水热法 超级电容器
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炭纤维硼改性的研究进展 被引量:3
9
作者 田艳红 常维璞 沈曾民 《炭素技术》 CAS CSCD 1999年第5期24-28,共5页
详细论述了炭纤维渗硼的各种方法及其优缺点,并讨论了渗硼处理对炭纤维力学性能、微观结构的影响。对于PAN 基炭纤维,渗硼处理后强度和模量都有一定的改善。扫描电镜观察发现,硼处理前后纤维表面没有明显区别。透射电镜分析表明... 详细论述了炭纤维渗硼的各种方法及其优缺点,并讨论了渗硼处理对炭纤维力学性能、微观结构的影响。对于PAN 基炭纤维,渗硼处理后强度和模量都有一定的改善。扫描电镜观察发现,硼处理前后纤维表面没有明显区别。透射电镜分析表明,硼处理后纤维近表面区域的有序程度更高。利用光电子能谱测定了纤维中硼的存在形式,结果表明,硼主要以碳化硼形式存在,也有少部分单质硼。X-ray 衍射分析表明,渗硼处理减小了层间距,增大了微晶尺寸(La ,Lc)。 展开更多
关键词 炭纤维 渗硼 性能 结构 改性
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CVD金刚石厚膜电加工表面粗糙度分析 被引量:2
10
作者 曹振中 左敦稳 +1 位作者 黎向锋 卢文壮 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2005年第1期11-14,共4页
由于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)金刚石厚膜的加工极其困难,本文提出了一种金刚石厚膜精加工的新工艺,即通过掺杂使金刚石膜导电,利用电火花对掺杂金刚石膜进行加工。掺杂后金刚石厚膜电阻率范围达到0.00243-0.063... 由于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)金刚石厚膜的加工极其困难,本文提出了一种金刚石厚膜精加工的新工艺,即通过掺杂使金刚石膜导电,利用电火花对掺杂金刚石膜进行加工。掺杂后金刚石厚膜电阻率范围达到0.00243-0.0634W×cm,研究了电参数对金刚石厚膜电火花加工表面粗糙度和材料去除速率的影响,结果表明二者都随着峰值电流和脉冲宽度的增大而增大。通过回归计算得出了电火花加工表面粗糙度的经验公式,二元回归分析的相关系数达0.96,证实了经验公式的有效性。 展开更多
关键词 金刚石厚膜 电加工 表面粗糙度 掺硼
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B掺杂对平面结构MOCVD-ZnO薄膜性能的影响(英文) 被引量:3
11
作者 陈新亮 薛俊明 +3 位作者 张德坤 孙建 赵颖 耿新华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期997-1002,共6页
本文研究了B2H6掺杂流量(B掺杂)对平面结构MOCVD—ZnO薄膜的微观结构和光电性能影响。XRD、SEM和AFM测试的研究结果表明,玻璃衬底上制备的ZnO薄膜具有(002)峰择优取向的平面结构,B掺杂使薄膜的球状晶粒尺寸变小,10sccm流量时晶... 本文研究了B2H6掺杂流量(B掺杂)对平面结构MOCVD—ZnO薄膜的微观结构和光电性能影响。XRD、SEM和AFM测试的研究结果表明,玻璃衬底上制备的ZnO薄膜具有(002)峰择优取向的平面结构,B掺杂使薄膜的球状晶粒尺寸变小,10sccm流量时晶粒尺寸为-15nm。ZnO:B薄膜的最小电阻率为5.7× 10^-3 Ω · cm。生长的ZnO薄膜(厚度d=1150nm)在400-900nm范围的透过率为82%-97%,且随着BzH6掺杂流量增大,光学吸收边呈现蓝移(即光学带隙t展宽)现象。 展开更多
关键词 MOCVD ZNO薄膜 B掺杂 太阳电池
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固体渗硼增强多孔炭的抗氧化性(英文) 被引量:3
12
作者 查庆芳 胡兴华 +3 位作者 郭燕生 吴明铂 李兆丰 张玉贞 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期356-360,共5页
以KOH化学活化法制备的多孔炭为原料,通过固体渗硼(渗剂的质量分数为10%)而后850℃进行5h热处理以增加其抗氧化性能。结果表明:渗硼后多孔炭表面的活性点数量明显减少,有效抑制了氧化性气体与多孔炭的反应,从而提高了多孔炭的抗氧化能... 以KOH化学活化法制备的多孔炭为原料,通过固体渗硼(渗剂的质量分数为10%)而后850℃进行5h热处理以增加其抗氧化性能。结果表明:渗硼后多孔炭表面的活性点数量明显减少,有效抑制了氧化性气体与多孔炭的反应,从而提高了多孔炭的抗氧化能力。与多孔炭原料相比,尽管渗硼后微孔、中孔体积和比表面积降低,但其微反活性仍可达到70%。 展开更多
关键词 多孔炭 渗硼 抗氧化性
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硼添加对Al0.1CoCrFeNi高熵合金压缩性能的影响 被引量:3
13
作者 杨静 马胜国 +1 位作者 赵聃 吴桂英 《热加工工艺》 北大核心 2020年第6期70-72,76,共4页
采用真空电弧熔炼炉制备Al0.1CoCrFeNiBx(x为摩尔分数,x=0,0.1,0.3)高熵合金,通过X射线衍射分析、光学电镜和扫描电镜观察以及压缩性能的测试,分析了少量硼加入对Al0.1CoCrFeNi高熵合金微观组织和压缩性能的影响。结果表明,少量硼加入... 采用真空电弧熔炼炉制备Al0.1CoCrFeNiBx(x为摩尔分数,x=0,0.1,0.3)高熵合金,通过X射线衍射分析、光学电镜和扫描电镜观察以及压缩性能的测试,分析了少量硼加入对Al0.1CoCrFeNi高熵合金微观组织和压缩性能的影响。结果表明,少量硼加入使单相的Al0.1CoCrFeNi高熵合金析出了第二相,显著地提高了Al0.1CoCrFeNi的压缩强度,而压缩塑性没有下降。当加入摩尔分数为0.1的硼后,合金屈服强度增加了1.2倍;而加入摩尔分数为0.3的硼后,合金屈服强度增加了4.3倍。 展开更多
关键词 高熵合金 硼添加 微观组织 压缩性能 析出强化
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Boron-doped silicon film as a recombination layer in the tunnel junction of a tandem solar cell 被引量:1
14
作者 石明吉 王占国 +4 位作者 刘石勇 彭文博 肖海波 张长沙 曾湘波 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期25-28,共4页
Boron-doped hydrogenated silicon films with different gaseous doping ratios(B2H6/SiH4) were deposited in a plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD) system.The microstructure of the films was investigated b... Boron-doped hydrogenated silicon films with different gaseous doping ratios(B2H6/SiH4) were deposited in a plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD) system.The microstructure of the films was investigated by atomic force microscopy(AFM) and Raman scattering spectroscopy.The electrical properties of the films were characterized by their room temperature electrical conductivity(σ) and the activation energy(Ea).The results show that with an increasing gaseous doping ratio,the silicon films transfer from a microcrystalline to an amorphous phase,and corresponding changes in the electrical properties were observed.The thin boron-doped silicon layers were fabricated as recombination layers in tunnel junctions.The measurements of the I-V characteristics and the transparency spectra of the junctions indicate that the best gaseous doping ratio of the recombination layer is 0.04,and the film deposited under that condition is amorphous silicon with a small amount of crystallites embedded in it.The junction with such a recombination layer has a small resistance,a nearly ohmic contact,and a negligible optical absorption. 展开更多
关键词 PECVD boron-doping tunnel junction recombination rate RECTIFICATION
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石油焦系活性炭抗氧化性能研究 被引量:2
15
作者 杨晓宏 胡兴华 李军 《广东化工》 CAS 2012年第1期25-27,共3页
活性炭在高温下极易被氧化,极大的限制了其在催化领域的应用,为了提高活性炭在高温下的抗氧化能力,文章以NaOH化学活化法制备的活性炭为原料,通过固体渗硼对活性炭进行基体改性。实验结果表明:渗硼后活性炭表面的活性点数量明显减少,... 活性炭在高温下极易被氧化,极大的限制了其在催化领域的应用,为了提高活性炭在高温下的抗氧化能力,文章以NaOH化学活化法制备的活性炭为原料,通过固体渗硼对活性炭进行基体改性。实验结果表明:渗硼后活性炭表面的活性点数量明显减少,抑制了氧化性气体与活性炭的反应,从而提高了活性炭的抗氧化能力。并且渗剂在活性炭中含量为10%、渗剂中B4C含量为25%、热处理时间为5 h时,与活性炭原料相比,基体改性后600℃活性炭氧化失重率由70%左右降低到20%左右,比表面积降低10%~20%,活性炭材料的微反活性仍可达到70.25。 展开更多
关键词 活性炭 渗硼 抗氧化性 氧化失重
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固体渗硼提高多孔炭抗氧化性能的研究 被引量:2
16
作者 胡兴华 查庆芳 +1 位作者 吴明铂 李兆丰 《燃料化学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期349-353,共5页
空气中多孔炭在高温下极易被氧化,极大地限制了其在催化领域的应用。为了提高多孔炭在高温下的抗氧化能力,以KOH化学活化法制备的多孔炭为原料,通过固体渗硼对多孔炭进行热处理。结果表明,渗硼后多孔炭表面的活性点数量明显减少,抑制了... 空气中多孔炭在高温下极易被氧化,极大地限制了其在催化领域的应用。为了提高多孔炭在高温下的抗氧化能力,以KOH化学活化法制备的多孔炭为原料,通过固体渗硼对多孔炭进行热处理。结果表明,渗硼后多孔炭表面的活性点数量明显减少,抑制了氧化性气体与多孔炭的反应,从而提高了多孔炭的抗氧化能力。并且渗剂在多孔炭中的质量分数为10%、渗剂中B4C的质量分数为25%、热处理5 h时,与多孔炭原料相比,渗硼后600℃多孔炭氧化失重率由70%左右降低到20%左右,比表面积降低10%-20%,多孔炭材料的微反活性仍可达到70.25。 展开更多
关键词 多孔炭 渗硼 抗氧化性 氧化失重
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掺硼CVD金刚石的电加工表面分析 被引量:1
17
作者 曹振中 褚向前 +1 位作者 黎向峰 左敦稳 《苏州大学学报(工科版)》 CAS 2004年第5期78-80,共3页
金刚石具有一系列独特的力学、热学、声学、电学、光学和化学性能,在高科技领域具有广阔的应用前景。普通CVD金刚石膜是高度绝缘的,不能采用如电火花等加工导电聚晶金刚石(PCD)的方法和设备对其进行加工。本文通过掺硼实现了金刚石膜的... 金刚石具有一系列独特的力学、热学、声学、电学、光学和化学性能,在高科技领域具有广阔的应用前景。普通CVD金刚石膜是高度绝缘的,不能采用如电火花等加工导电聚晶金刚石(PCD)的方法和设备对其进行加工。本文通过掺硼实现了金刚石膜的导电,开展了电火花成型和线切割的实验研究,并通过SEM、Raman分析和粗糙度测量对加工后的表面进行了分析。 展开更多
关键词 掺硼CVD金刚石 导电 电火花成型 线切割 粗糙度 表面质量
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多晶硅绕镀层的去除工艺研究 被引量:2
18
作者 张婷 刘大伟 +3 位作者 宋志成 倪玉凤 杨露 刘军保 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第9期1641-1645,共5页
本文旨在针对TOPCon(Tunnel Oxide Passivated Contact背面隧穿氧化钝化接触)晶硅电池制备过程中,背面钝化多晶硅层沉积引起的硅片正面边缘沉积多晶硅绕镀层的去除进行工艺研究,进一步解决了电池外观不良和该多晶硅层对电池正面光的吸... 本文旨在针对TOPCon(Tunnel Oxide Passivated Contact背面隧穿氧化钝化接触)晶硅电池制备过程中,背面钝化多晶硅层沉积引起的硅片正面边缘沉积多晶硅绕镀层的去除进行工艺研究,进一步解决了电池外观不良和该多晶硅层对电池正面光的吸收影响。文中分别尝试采用HF-HNO 3混酸溶液和KOH碱溶液两种方式进行腐蚀处理,然后通过对处理后硅片正面的工艺控制点监控和电池EL检测等手段评估去除效果。其中HF 1wt%、HNO 350wt%混合溶液时腐蚀4 min以上可去除该绕镀层,但是大于6 min后硅片正面的方块电阻提升、硼掺杂浓度等变化幅度很大。KOH质量分数0.1wt%、添加剂体积分数5vol%混合溶液60℃时,腐蚀2.5 min以上可去除该绕镀层且方块电阻等测试相对变化幅度较小。故前者对电池后期电极的制备工艺要求更高否则容易引起欧姆接触不良,后者则对电池电极的制备工艺控制窗口更大。所以认为在多晶硅绕镀层的去除方面KOH腐蚀更适合工业批量化生产工艺选择。 展开更多
关键词 TOPCon电池 多晶硅绕镀层 腐蚀 硼掺杂 去除工艺
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掺硼锯齿型单壁碳纳米管的电子结构 被引量:2
19
作者 宋久旭 杨银堂 +1 位作者 刘红霞 石立春 《电子器件》 CAS 2008年第5期1529-1532,共4页
为了研究掺硼碳纳米管的电子结构,对可能存在掺杂方式进行了结构优化,得到掺硼碳纳米管最可能的存在结构。采用密度泛函理论下的第一性原理计算,对不同掺杂浓度的最可能存在掺杂结构进行了计算,结果表明随着掺杂浓度的增加碳纳米管的能... 为了研究掺硼碳纳米管的电子结构,对可能存在掺杂方式进行了结构优化,得到掺硼碳纳米管最可能的存在结构。采用密度泛函理论下的第一性原理计算,对不同掺杂浓度的最可能存在掺杂结构进行了计算,结果表明随着掺杂浓度的增加碳纳米管的能带间隙呈现增大的趋势。 展开更多
关键词 掺硼 电子结构 单壁碳纳米管 第一性原理
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The Effects of Boron-Doping on the Electronic Properties of Blue Phosphorene
20
作者 Yejin Wu Kexin Ma +1 位作者 Zhiyong Wang Xueqiong Dai 《Graphene》 2021年第3期41-47,共7页
In this paper, the effects of different boron (nitrogen)-doping on the electronic properties of blue phosphorene have been investigated by the first-</span></span><span><span><span style=&qu... In this paper, the effects of different boron (nitrogen)-doping on the electronic properties of blue phosphorene have been investigated by the first-</span></span><span><span><span style="font-family:""> </span></span></span><span style="font-family:Verdana;"><span style="font-family:Verdana;"><span style="font-family:Verdana;">principles calculations. We have taken eight doping configurations into account, the calculated results show that the bond length of P-B is decreasing with the doping concentration increasing. For the four boron atoms doping configuration, the geometric structure appears the distinct distortion. The band gap is decreasing with the doping concentration increasing, and it appears the transition from indirect band gap to direct band gap for boron doping configurations. It is hoped that the calculated results may be useful for designing electronic devices based on blue phosphorene. 展开更多
关键词 Blue Phosphorene boron-doping Band Gap
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