期刊文献+
共找到173篇文章
< 1 2 9 >
每页显示 20 50 100
油气藏盖层厚度与所封盖烃柱高度关系问题探讨 被引量:37
1
作者 蒋有录 《天然气工业》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期20-23,共4页
针对盖层厚度与所封盖烃柱高度之间存在着一种简单的线性正相关关系这一认识,在分析前人研究成果的基础上,根据济阳坳陷上第三系浅层气藏的统计资料,对盖层厚度与所封盖烃柱高度之间的关系问题进行了探讨。研究后认为:油气藏盖层厚... 针对盖层厚度与所封盖烃柱高度之间存在着一种简单的线性正相关关系这一认识,在分析前人研究成果的基础上,根据济阳坳陷上第三系浅层气藏的统计资料,对盖层厚度与所封盖烃柱高度之间的关系问题进行了探讨。研究后认为:油气藏盖层厚度与所封盖烃柱高度的关系不是呈简单的正比关系,而是存在一个变化范围;对于成藏地质条件相似地区的众多油气藏,所封盖烃柱高度与盖层最小厚度(或称临界厚度)具正相关性;具有相同烃柱高度的油气藏,其盖层厚度一般不应是某个确定值,而是变化于大于或等于临界厚度的若干值。通常大多数油气藏的盖层厚度远大于其临界厚度;油气藏的烃柱高度受多种因素的制约。 展开更多
关键词 盖层 厚度 油气藏 封盖烃柱高度 形成
下载PDF
ZnO压敏陶瓷晶界势垒高度和宽度的研究 被引量:20
2
作者 李盛涛 邹晨 刘辅宜 《电瓷避雷器》 CAS 北大核心 2004年第1期17-22,共6页
通过测量商用ZnO压敏陶瓷材料的泄漏电流I与绝对温度T,并利用场助热激发电流的表达式计算了势垒高度(活化能),发现它低于平衡状态时的势垒高度。在深入分析在电场作用下晶界区域中电子传导过程的基础上,认为这是在电导过程中通过正偏势... 通过测量商用ZnO压敏陶瓷材料的泄漏电流I与绝对温度T,并利用场助热激发电流的表达式计算了势垒高度(活化能),发现它低于平衡状态时的势垒高度。在深入分析在电场作用下晶界区域中电子传导过程的基础上,认为这是在电导过程中通过正偏势垒向晶界界面层中注入了大量电子,这些电子不仅填充了在平衡状态下尚未填充的电子陷阱(即表面态),而且还会在界面层形成自由电子空间电荷,这些自由电子在越过反偏Schottky势垒时需要克服的就不是平衡状态时的势垒高度,显然应低于平衡状态时的势垒高度,即导带底EC的最高点与费米能级Ef的差值(通常势垒高度的定义)。另外,根据场助热激发电流的表达式,提出了新的Schottky势垒宽度的计算公式,不仅求得了高场强和低场强时的势垒宽度,而且得到了势垒宽度随温度的变化规律,发现了在320K~350K温度范围内势垒宽度下降速度最快,结合介电温谱测量,证实了在此温度区间势垒宽度的快速下降是松弛过程引起的。 展开更多
关键词 ZNO压敏陶瓷 势垒高度 势垒宽度
下载PDF
公路分设型中央分隔带SA级混凝土护栏高度变化对防护性能影响研究 被引量:12
3
作者 邰永刚 《公路》 北大核心 2020年第11期258-262,共5页
护栏高度是影响其防护性能的重要因素,通过计算机仿真计算和实车碰撞试验方法对公路分设型中央分隔带混凝土护栏在高度变化时的防护性能进行分析,验证了目前规范中对于混凝土护栏在路面加铺时预留高度的合理性,提出了SA级分设型混凝土... 护栏高度是影响其防护性能的重要因素,通过计算机仿真计算和实车碰撞试验方法对公路分设型中央分隔带混凝土护栏在高度变化时的防护性能进行分析,验证了目前规范中对于混凝土护栏在路面加铺时预留高度的合理性,提出了SA级分设型混凝土护栏的高度变化~护栏变形变化曲线,为公路分设型中央分隔带混凝土护栏的设计提供了重要依据。 展开更多
关键词 混凝土护栏 分设型 高度 影响
原文传递
多重雷击下氧化锌避雷器的冲击老化特性 被引量:8
4
作者 周利军 魏仁伟 +3 位作者 刘聪 陈伟 黄林 马御棠 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第9期3507-3516,共10页
多重雷击会导致氧化锌避雷器老化速率加快,使用寿命及电气性能降低,甚至直接造成避雷器破裂损坏。为研究遭受多重雷击后氧化锌避雷器的介电性能及内部微观参量的变化规律,对氧化锌避雷器开展了多重雷击实验与冲击老化特性研究。首先,对... 多重雷击会导致氧化锌避雷器老化速率加快,使用寿命及电气性能降低,甚至直接造成避雷器破裂损坏。为研究遭受多重雷击后氧化锌避雷器的介电性能及内部微观参量的变化规律,对氧化锌避雷器开展了多重雷击实验与冲击老化特性研究。首先,对氧化锌避雷器进行了双重冲击实验,测量了不同冲击次数下避雷器的直流伏安特性曲线及频域介电谱数据;然后,利用避雷器的电流–温度特性研究了氧化锌晶界的势垒高度与耗尽层宽度随冲击次数变化的规律;最后,通过灰狼优化算法对基于扩展德拜模型(extended Debye model,EDM)的避雷器等效电路中的参数进行了辨识与分析。结果表明:无论是低温区还是高温区,氧化锌晶界的势垒高度均随冲击次数增加而降低,但高温区势垒高度下降速率更快;势垒宽度与冲击次数呈负相关关系,且低场强区的势垒宽度大于高场区的;EDM中的绝缘电阻R_(0)、几何支路时间常数τ和第1条极化支路时间常数τ随冲击次数增加而减小,第3条极化支路电容C随冲击次数增加而增加。研究成果可为氧化锌避雷器冲击老化的判断提供依据。 展开更多
关键词 多重雷击 氧化锌避雷器 频域介电谱 扩展德拜模型 势垒高度 耗尽层宽度
下载PDF
双线高速铁路桥最优风障高度及作用机理的数值研究 被引量:9
5
作者 项超群 郭文华 张佳文 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期2891-2898,共8页
基于计算流体动力学理论,采用数值模拟的方法计算设置有不同高度风障的双线简支箱梁桥上高速列车的气动力,分析绕列车几何中心、迎风侧轮轨接触轴线和背风侧轮轨接触轴线的侧倾力矩,提出控制侧倾力矩和累计控制侧倾力矩的概念,并以此为... 基于计算流体动力学理论,采用数值模拟的方法计算设置有不同高度风障的双线简支箱梁桥上高速列车的气动力,分析绕列车几何中心、迎风侧轮轨接触轴线和背风侧轮轨接触轴线的侧倾力矩,提出控制侧倾力矩和累计控制侧倾力矩的概念,并以此为依据通过不断逼近的方法得到最优的风障高度,最后对风障改善列车气动性能的机理进行研究。研究结果表明:风障的高度对列车的气动力影响较大,但根据各分力得出的最优风障高度不一致;侧倾力矩对轮轨接触轴线比几何中心大,且对风障高度也更加敏感;控制侧倾力矩当风障高度较小时为对背风侧轮轨接触轴线之矩,当风障增加到一定高度后,将转移到迎风侧轮轨接触轴线,从而对于双线桥最优风障高度并不是对背风侧或迎风侧轮轨接触轴线侧倾力矩为0 N·m的风障高度;综合考虑列车位于两线路上的气动作用,根据累计控制侧倾力矩得出气动缩尺模型的最优风障高度为95 mm,从而可知双线高速铁路简支箱梁桥上1.9 m风障效果最好。 展开更多
关键词 铁路桥梁 高速列车 风障 气动力 最优高度
下载PDF
B_(2)O_(3)掺杂对直流ZnO压敏电阻老化特性的影响 被引量:8
6
作者 程宽 赵洪峰 周远翔 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2022年第13期3413-3421,共9页
ZnO压敏电阻是避雷器的核心部件,其性能的好坏直接影响着避雷器的电气性能。因此,该文致力于通过B_(2)O_(3)的掺杂以改善直流ZnO压敏电阻的非线性和高荷电率下的老化稳定性,并利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和电容-电压(C-V)... ZnO压敏电阻是避雷器的核心部件,其性能的好坏直接影响着避雷器的电气性能。因此,该文致力于通过B_(2)O_(3)的掺杂以改善直流ZnO压敏电阻的非线性和高荷电率下的老化稳定性,并利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和电容-电压(C-V)等特性测试研究B_(2)O_(3)掺杂对直流ZnO压敏电阻的微观结构和电气特性的影响。然后,在115℃、0.95E;的条件下对直流ZnO压敏电阻进行1000h的直流加速老化试验,以验证其在高荷电率下的老化稳定性。试验结果表明,B_(2)O_(3)的掺杂提高了晶界层的势垒高度,改善了直流ZnO压敏电阻的非线性特性,并降低了其在高荷电率下的老化系数。 展开更多
关键词 荷电率 非线性 势垒高度 老化系数
下载PDF
上浮剂隔层控制裂缝高度延伸实验研究 被引量:8
7
作者 胡永全 赵金洲 +2 位作者 林涛 谢朝阳 张烨 《西南石油大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期79-81,共3页
对于遮挡层(隔层)较差的低渗透储层,采用人工隔层控制压裂缝高非常必要。分析了影响人工隔层阻抗的因素,对岩芯流动装置进行了改造。用Malvern激光粒度测试了一种上浮剂的粒度分布,对岩芯进行沿轴向剖分2/3的特殊处理,通过岩芯流动实验... 对于遮挡层(隔层)较差的低渗透储层,采用人工隔层控制压裂缝高非常必要。分析了影响人工隔层阻抗的因素,对岩芯流动装置进行了改造。用Malvern激光粒度测试了一种上浮剂的粒度分布,对岩芯进行沿轴向剖分2/3的特殊处理,通过岩芯流动实验来模拟人工隔层的形成。按正交设计原理设计实验方案,并按照岩芯流动实验行业标准进行实验。应用非线性处理后的逐步回归方法得到了人工隔层强度与携带液黏度、上浮剂浓度和岩芯渗透率的统计公式。为指导现场控制缝高的压裂设计提供了依据。 展开更多
关键词 水力压裂 人工隔层 上浮剂 裂缝高度 流动实验
下载PDF
Bi_2O_3对TiO_2系压敏陶瓷性能的影响 被引量:7
8
作者 李莉 屈晓田 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期49-51,共3页
采用传统电子陶瓷工艺制作了TiO2系压敏陶瓷。通过测试其Ⅰ-Ⅴ特性、复阻抗特性、晶界电阻、晶粒电阻及势垒高度,研究了Bi2O3对TiO2-Bi2O3-Nb2O5-SrO系压敏陶瓷微结构及电性能的影响。结果表明,Bi2O3的适当掺杂范围在0.3%-0.5%(... 采用传统电子陶瓷工艺制作了TiO2系压敏陶瓷。通过测试其Ⅰ-Ⅴ特性、复阻抗特性、晶界电阻、晶粒电阻及势垒高度,研究了Bi2O3对TiO2-Bi2O3-Nb2O5-SrO系压敏陶瓷微结构及电性能的影响。结果表明,Bi2O3的适当掺杂范围在0.3%-0.5%(摩尔分数)。其掺杂量的变化,可显著改变TiO2-Bi2O3-Nb2O5-SrO系压敏陶瓷的晶界电阻及势垒高度,进而对压敏陶瓷的电学非线性特性产生影响。当x(Bi2O3)为0.4%时,压敏陶瓷的Ⅴ1mA与α分别为40V/mm与6.2。 展开更多
关键词 电子技术 TiO2系压敏陶瓷 Bi2O3添加剂 复阻抗 势垒高度
下载PDF
一维/二维半导体器件肖特基势垒高度的调整方法 被引量:1
9
作者 孟建平 李正国 李舟 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第9期1342-1352,共11页
The Schottky contact which is a crucial interface between semiconductors and metals is becoming increasingly significant in nano-semiconductor devices. A Schottky barrier, also known as the energy barrier, controls th... The Schottky contact which is a crucial interface between semiconductors and metals is becoming increasingly significant in nano-semiconductor devices. A Schottky barrier, also known as the energy barrier, controls the depletion width and carrier transport across the metal–semiconductor interface.Controlling or adjusting Schottky barrier height(SBH) has always been a vital issue in the successful operation of any semiconductor device. This review provides a comprehensive overview of the static and dynamic adjustment methods of SBH, with a particular focus on the recent advancements in nanosemiconductor devices. These methods encompass the work function of the metals, interface gap states,surface modification, image-lowering effect, external electric field, light illumination, and piezotronic effect. We also discuss strategies to overcome the Fermi-level pinning effect caused by interface gap states, including van der Waals contact and 1D edge metal contact. Finally, this review concludes with future perspectives in this field. 展开更多
关键词 Schottky contact Schottky barrier height Adjustment methods One-and two-dimensional semiconductor
原文传递
Monolayer MoS_(2)-based transistors with low contact resistance by inserting ultrathin Al_(2)O_(3)interfacial layer 被引量:3
10
作者 CHEN Gang LIN Xin +9 位作者 LIU Yuan WANG Fang HU Kai SHAN Xin WU ZeYu ZHANG YuPeng NIE WeiCan ZHONG JiXiang REN TianLing ZHANG KaiLiang 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第6期1831-1840,共10页
Transition metal dichalcogenides(TMDCs)are promising high performance electronic materials due to their interesting semiconductor properties.However,it is acknowledged that the effective electrical contact between TMD... Transition metal dichalcogenides(TMDCs)are promising high performance electronic materials due to their interesting semiconductor properties.However,it is acknowledged that the effective electrical contact between TMDCs-layered materials and metals remains one of the major challenges.In this work,the homogeneous monolayer MoS_(2)films with high crystalline quality were prepared by chemical vapor deposition method on SiO2/Si substrates.The back-gate field-effect transistors(FETs)were fabricated by inserting an ultrathin Al_(2)O_(3)interlayer between the metal electrodes and MoS_(2)nanosheets.With the addition of an ultrathin 0.8 nm Al_(2)O_(3)interlayer,the contact resistance decreased dramatically from 59.9 to 1.3 kΩμm and the Schottky barrier height(SBH)dropped from 102 to 27 meV compared with devices without the Al_(2)O_(3)interlayer.At the same time,the switching ratio increased from~106to~108,and both the on-current and field-effect mobility were greatly improved.We find that the ultrathin Al_(2)O_(3)interlayer can not only reduce the SBH to alleviate the Fermi level pinning phenomenon at the interface,but also protect the channel materials from the influence of air and moisture as a covering layer.In addition,the lattice and band structures of Al_(2)O_(3)/MoS_(2)film were calculated and analyzed by first-principles calculation.It is found that the total density of states of the Al_(2)O_(3)/MoS_(2)film exhibits interfacial polarized metals property,which proves the higher carrier transport characteristics.FETs with Al_(2)O_(3)interlayers have excellent stability and repeatability,which can provide effective references for future low power and high performance electronic devices. 展开更多
关键词 MoS_(2) Schottky barrier height contact resistance Al_(2)O_(3)interlayer first-principles calculation
原文传递
化学沉淀法的醇水比对氧化锌压敏电阻性能的影响研究
11
作者 董曼玲 王博闻 +4 位作者 郭磊 程思远 姚伟 王伟 詹振宇 《电瓷避雷器》 CAS 2024年第2期51-57,共7页
通过化学沉淀法制备得到ZnO压敏电阻样品并分析研究了样品的显微结构特性、宏观电学参量和介电响应特性,包括阻抗谱和介电损耗谱。采用XRD和SEM观测分析了ZnO压敏电阻的物相组成和微观结构。电学参数测试结果表明,当化学沉淀法的醇水比... 通过化学沉淀法制备得到ZnO压敏电阻样品并分析研究了样品的显微结构特性、宏观电学参量和介电响应特性,包括阻抗谱和介电损耗谱。采用XRD和SEM观测分析了ZnO压敏电阻的物相组成和微观结构。电学参数测试结果表明,当化学沉淀法的醇水比为2∶1时,ZnO压敏电阻表现出的各项电性能均比较好:电压梯度为584.01 V/mm,非线性系数为73.43,泄漏电流为0.13μA/cm^(2)。该结果表明化学沉淀法可以作为制造高性能ZnO压敏电阻的有效途径。另外,通过介电谱的测试结果可以看出,介电损耗峰的峰值能体现出ZnO压敏陶瓷中缺陷的浓度,改变化学共沉淀法中的醇水比能够相应地改变ZnO压敏陶瓷中本征点缺陷的浓度。 展开更多
关键词 氧化锌电阻片 化学沉淀法 晶界 势垒高度
原文传递
In-doping collaboratively controlling back interface and bulk defects to achieve efficient flexible CZTSSe solar cells
12
作者 Quanzhen Sun Yifan Li +6 位作者 Caixia Zhang Shunli Du Weihao Xie Jionghua Wu Qiao Zheng Hui Deng Shuying Cheng 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第2期10-17,I0002,共9页
Focusing on the low open circuit voltage(V_(OC))and fill factor(FF)in flexible Cu_(2)ZnSn(S,Se)_(4)(CZTSSe)solar cells,indium(In)ions are introduced into the CZTSSe absorbers near Mo foils to modify the back interface... Focusing on the low open circuit voltage(V_(OC))and fill factor(FF)in flexible Cu_(2)ZnSn(S,Se)_(4)(CZTSSe)solar cells,indium(In)ions are introduced into the CZTSSe absorbers near Mo foils to modify the back interface and passivate deep level defects in CZTSSe bulk concurrently for improving the performance of flexible device.The results show that In doping effectively inhibits the formation of secondary phase(Cu(S,Se)_(2))and VSndefects.Further studies demonstrate that the barrier height at the back interface is decreased and the deep level defects(Cu_(Sn)defects)in CZTSSe bulk are passivated.Moreover,the carrier concentration is increased and the V_(OC) deficit(V_(OC,def))is decreased significantly due to In doping.Finally,the flexible CZTSSe solar cell with 10.01%power conversion efficiency(PCE)has been obtained.The synergistic strategy of interface modification and bulk defects passivation through In incorporation provides a new thought for the fabrication of efficient flexible kesterite-based solar cells. 展开更多
关键词 Flexible solar cells Cu_(2)ZnSn(S Se)_(4) Back interface Deep level defects barrier height
下载PDF
SiO_(2)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻电气性能的影响
13
作者 石钤文 赵洪峰 +1 位作者 谢清云 蒙晓记 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期57-62,共6页
采用传统方法制备了掺杂不同物质的量分数(0.01%,0.05%,0.10%,0.15%,0.20%)SiO_(2)的SnO_(2)压敏电阻,研究了SiO_(2)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻电气性能的影响。结果表明:随着SiO_(2)掺杂量的增加,SnO_(2)压敏电阻的电压梯度、非线性系数... 采用传统方法制备了掺杂不同物质的量分数(0.01%,0.05%,0.10%,0.15%,0.20%)SiO_(2)的SnO_(2)压敏电阻,研究了SiO_(2)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻电气性能的影响。结果表明:随着SiO_(2)掺杂量的增加,SnO_(2)压敏电阻的电压梯度、非线性系数、势垒高度、施主密度和界面态密度均先增大后减小,泄漏电流密度先减小后增大,晶界电阻增大;当SiO_(2)物质的量分数为0.10%时,SnO_(2)压敏电阻的综合电气性能最佳,其电压梯度、非线性系数、施主密度、界面态密度、势垒高度最大,泄漏电流密度最小,分别为582 V·mm^(-1),33,1.7×10^(23)m-3,6.7×10^(16)m^(-2),2.03 eV,7.06μA·cm^(-2)。 展开更多
关键词 SnO_(2)压敏电阻 电气性能 电压梯度 势垒高度
下载PDF
金属 /有机界面势垒对单层有机电致发光器件发光效率的影响(英文) 被引量:6
14
作者 赵楚军 李宏建 +4 位作者 黄伯云 易丹青 姚凌江 许雪梅 彭景翠 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期401-406,共6页
基于高场下电荷的注入过程及激子的解离和复合过程 ,建立了单层有机发光器件电致发光 (EL)效率的理论模型。计算表明 :(1)当金属 /有机界面势垒高度大于 0 .3eV时 ,器件的EL效率很低 ,降低金属 /有机界面势垒可以显著提高器件的EL效率 ;... 基于高场下电荷的注入过程及激子的解离和复合过程 ,建立了单层有机发光器件电致发光 (EL)效率的理论模型。计算表明 :(1)当金属 /有机界面势垒高度大于 0 .3eV时 ,器件的EL效率很低 ,降低金属 /有机界面势垒可以显著提高器件的EL效率 ;(2 )在较低偏压下 ,注入过程对器件的电致发光效率起主要作用 ,但在高偏压下复合过程起支配作用。这一模型可以阐明注入和复合过程对有机发光器件EL效率的影响 ,对选择发光材料、优化器件结构和提高器件EL效率具有指导意义。 展开更多
关键词 有机电致发光器件 金属/有机界面 势垒高度 电致发光效率
下载PDF
6H-SiC肖特基源漏MOSFET的模拟仿真研究 被引量:6
15
作者 王源 张义门 +1 位作者 张玉明 汤晓燕 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第10期2553-2557,共5页
给出了一种新型SiCMOSFET——— 6H SiC肖特基源漏MOSFET .这种器件结构制备工艺简单 ,避免了长期困扰常规SiCMOSFET的离子注入工艺难度大、退火温度高、晶格损伤大 ,注入激活率低等问题 .分析了该器件的电流输运机理 ,并通过MEDICI模... 给出了一种新型SiCMOSFET——— 6H SiC肖特基源漏MOSFET .这种器件结构制备工艺简单 ,避免了长期困扰常规SiCMOSFET的离子注入工艺难度大、退火温度高、晶格损伤大 ,注入激活率低等问题 .分析了该器件的电流输运机理 ,并通过MEDICI模拟 ,给出了SiC肖特基源漏MOSFET伏安特性以及其和金属功函数、栅氧化层厚度和栅长关系 . 展开更多
关键词 碳化硅 MOSFET 肖特基源漏 模拟 仿真 势垒高度 伏安特性 6H-SIC 肖特基接触
原文传递
离子注入降低PtSi肖特基二极管的势垒高度 被引量:4
16
作者 刘爽 宁永功 +3 位作者 杨忠孝 陈艾 熊平 杨家德 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第10期1024-1027,共4页
Pt Si肖特基二极管的势垒高度制约 Pt Si红外探测器的截止波长和量子效率 .在 Pt Si/Si界面注入 In+ 、B+ ,采用高浓度、浅层注入避免隧穿效应 ,用 Ar气保护热处理消除注入损伤 ,附加掩膜层控制离子注入深度 ,成功地将 Pt Si肖特基二极... Pt Si肖特基二极管的势垒高度制约 Pt Si红外探测器的截止波长和量子效率 .在 Pt Si/Si界面注入 In+ 、B+ ,采用高浓度、浅层注入避免隧穿效应 ,用 Ar气保护热处理消除注入损伤 ,附加掩膜层控制离子注入深度 ,成功地将 Pt Si肖特基二极管的势垒高度降低到 0 .1 5e V. 展开更多
关键词 PTSI 肖特基二极管 势垒高度 离子注入
下载PDF
混凝土护栏高度影响防护性能机理研究
17
作者 贾宁 李伟 +2 位作者 幺瑶 冯移冬 张耿朝 《交通工程》 2024年第5期114-119,共6页
为了研究混凝土护栏高度影响防护性能的机理,采用经实车碰撞试验校核的高精度车辆碰撞护栏仿真模型,针对SA级和SS级带阻爬坎的F型坡面混凝土护栏以及单坡面混凝土护栏,进行小型客车、大型客车和大型货车3种车型碰撞护栏数值仿真模拟,对... 为了研究混凝土护栏高度影响防护性能的机理,采用经实车碰撞试验校核的高精度车辆碰撞护栏仿真模型,针对SA级和SS级带阻爬坎的F型坡面混凝土护栏以及单坡面混凝土护栏,进行小型客车、大型客车和大型货车3种车型碰撞护栏数值仿真模拟,对比护栏高度降低和标准护栏高度时护栏防护性能指标的差别。研究结果表明,对于带阻爬坎的F型坡面混凝土护栏,由于各种车型车体结构和特征几何参数等的差异,与阻爬坎碰撞接触作用效果不同,护栏高度降低后对防护性能的影响也有所区别,特别是SS级混凝土护栏,护栏高度降低后对大型货车设计防护车型的防护效果更优;对于单坡面混凝土护栏,总体而言护栏高度降低后防护效果更不利,但对护栏导向功能未产生不利影响。 展开更多
关键词 交通工程 混凝土护栏 高度 防护性能 碰撞数值仿真模拟
下载PDF
Effect of Temperature on Photovoltaic Solar Cell Cadmium Telluride Thin Film
18
作者 Kishan C. Rathod Vishalkumar R. More +7 位作者 Jayashree S. Kshirsagar Santosh R. Sonwane Kallapa R. Sanadi Pradip D. Kamble Ganesh S. Kamble Sandip V. Mahamuni Muddsar L. Gaur Yong-Chein Ling 《Advances in Materials Physics and Chemistry》 CAS 2023年第1期1-15,共15页
Solar cell technology comes with unique temperature coefficients. These temperature coefficients are important and temperature of the solar cell has direct influence on the power output of a photovoltaic cells. CdTe i... Solar cell technology comes with unique temperature coefficients. These temperature coefficients are important and temperature of the solar cell has direct influence on the power output of a photovoltaic cells. CdTe is a very robust and chemically stable material and for this reason its related solar cell. Thin film photovoltaic technology is now the only thin film technology in the first top 10 producers in the world. The strong improvement in efficiency in the last 7 years was obtained by a new redesign of the CdTe solar cell device reaching a single solar cell. In this paper, we describe the fabrication process following the history of the solar cell as it was developed in the early years up to the latest development and changes. The configuration of fabricated cell is n-CdTe/NaOH (0.15 M) + S (0.15 M) + Na<sub>2</sub>S (0.15 M)/C<sub>(graphite)</sub>. The junction ideality factor was found to be 2.63, 2.13, and 1.89. The flat band potential is found to be -0.400, -0.450, -0.501 V. The barrier height value was found to be 0.523, 0.487, and 0.436 eV. The study of power output characteristic shows open circuit voltage, short circuit current, fill factor and efficiency were found to be 120 mV, 24.2 μA, 32.68%, 26.18%, and 19.73% and 0.63%, 0.37%, and 0.23%, respectively. The lighted ideality factor was calculated and found to be 3.26, 1.87, and 1.17. Spectra attain maximum value of current at λ = 580 nm and decrease with increase in wavelength. The photovoltaic cell characterization of the thin films is carried out by studying current-voltage characteristics in dark, capacitance-voltage in dark, barrier height measurements, power output characteristics. 展开更多
关键词 CBD Power Output barrier height Photo Response Spectral Response
下载PDF
风障对桥上高速列车气动特性影响的风洞试验 被引量:5
19
作者 张佳文 郭文华 +2 位作者 熊安平 项超群 王嘉奇 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期3888-3897,共10页
为考虑侧风作用下风障对桥上高速列车气动特性的影响,以高速列车与双线简支箱梁桥为原型,自主研制了缩尺比为1:20的风障-车-桥模型风洞试验模型装置。测试高速列车的头车、中车及尾车各自的气动力。分析风速、列车位于桥梁的横向位置、... 为考虑侧风作用下风障对桥上高速列车气动特性的影响,以高速列车与双线简支箱梁桥为原型,自主研制了缩尺比为1:20的风障-车-桥模型风洞试验模型装置。测试高速列车的头车、中车及尾车各自的气动力。分析风速、列车位于桥梁的横向位置、不同风障高度与透风率、风偏角对高速列车气动系数的影响,最后以静力轮重减载率作为风障防风效果评价指标,给出风障气动选型参数建议值。研究结果表明:雷诺数对车-桥系统的气动性能影响有限;桥梁上设置风障可明显减小列车所受气动力;列车位于迎风侧线路时运行时所受气动荷载较大;随着风障高度的增大,列车气动力系数减小;当风障增加到某一高度后列车气动系数基本不再随风障高度变化,但随着透风率增大而增大;当风偏角小于等于20°时,高度为4 m,透风率为0%风障的挡风效果较好,而当风偏角大于20°时,高度为4 m,透风率为30%风障的挡风效果较优。研究结论可为实际工程中风障气动选型提供参考。 展开更多
关键词 风障 侧风 高速列车 风洞试验 气动力系数 高度 透风率
下载PDF
金属-半导体接触势垒高度的理论计算 被引量:3
20
作者 李书平 王仁智 蔡淑惠 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期412-415,453,共5页
采用平均键能作为参考能级计算了十种金属 -半导体接触势垒高度 ,其计算结果与实验值的符合程度不亚于 Tersoff和 M o¨ nch所采用的电中性能级方法 ,计算结果表明平均键能方法和 Tersoff提出的电中性能级方法一样 ,可作为金属
关键词 金属-半导体 势垒高度 平均键能 电中性能级 费米能级 接触势垒
下载PDF
上一页 1 2 9 下一页 到第
使用帮助 返回顶部