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磁控溅射沉积参数对硼碳氮薄膜沉积速率的影响 被引量：2
1
作者 徐淑艳 马欣新 +1 位作者 唐光泽 孙明仁 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2009年第7期31-33,共3页
利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮(B-C-N)薄膜,通过改变靶功率、基体偏压、沉积温度和励磁线圈电流,在相同沉积时间内得到不同厚度的薄膜。采用纳米压入仪分析了沉积参数改变对B-C-N薄膜沉积速率的影响规律。结果表明,在低靶功率... 利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮(B-C-N)薄膜,通过改变靶功率、基体偏压、沉积温度和励磁线圈电流,在相同沉积时间内得到不同厚度的薄膜。采用纳米压入仪分析了沉积参数改变对B-C-N薄膜沉积速率的影响规律。结果表明,在低靶功率和高励磁电流的条件下沉积的薄膜,随着靶功率和励磁电流的增加薄膜沉积速率呈线性增长;薄膜的沉积速率随基体偏压的增加呈抛物线状下降;薄膜的沉积速率受基体是否升温影响很大,而受基体所加温度大小影响较小。 展开更多
关键词 硼碳氮(b-c-n)薄膜 工艺参数 沉积速率
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射频磁控溅射沉积系统制备BCN薄膜的研究（英文）
2
作者 王健 张东 +9 位作者 王晓文 赵琰 李昱材 王刚 王宝石 郭瑞 宋世巍 丁艳波 刘莉莹 王晗 《沈阳师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2015年第3期333-336,共4页
在自然界中,金刚石是最硬的一种材料,但把金刚石高温暴露在空气中时变得容易被氧化,所以在该条件下它不能用来做成切割工具。立方氮化硼有许多优异的特性,但它的内应力比较大,很大程度上影响了它在工业生产上的发展。人们期望能够合成... 在自然界中,金刚石是最硬的一种材料,但把金刚石高温暴露在空气中时变得容易被氧化,所以在该条件下它不能用来做成切割工具。立方氮化硼有许多优异的特性,但它的内应力比较大,很大程度上影响了它在工业生产上的发展。人们期望能够合成出一种新的三元化合物硼碳氮材料,并且希望这种化合物既具有金刚石和c-BN的优点而且还能克服2种物质原有的缺点。采用射频磁控溅射方法,以石墨靶材和甲烷气体作为碳源,通过调控石墨靶功率在硅基片上沉积非晶B-C-N薄膜。利用傅里叶变换红外光谱(FTIR),原子力显微镜(AFM),X射线衍射(XRD),台阶仪等表征手段,分别对B-C-N薄膜的表面形貌粗糙度、成键、沉积速率进行分析。 展开更多
关键词 cn薄膜 磁控溅射 基片 靶材
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氮含量对Ti-B-C-N薄膜微观结构和性能的影响
3
作者 陈向阳 张瑾 +1 位作者 马胜利 胡海霞 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期62-66,共5页
采用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备氮原子分数分别为10.8%,15.6%,28.1%,36.4%的Ti-B-C-N薄膜,研究了氮含量对薄膜微观结构、硬度和摩擦磨损性能的影响。结果表明:Ti-B-C-N薄膜均由α-Fe和Ti(C,N)纳米晶组成,具有Ti(C,N)纳米晶镶嵌... 采用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备氮原子分数分别为10.8%,15.6%,28.1%,36.4%的Ti-B-C-N薄膜,研究了氮含量对薄膜微观结构、硬度和摩擦磨损性能的影响。结果表明:Ti-B-C-N薄膜均由α-Fe和Ti(C,N)纳米晶组成,具有Ti(C,N)纳米晶镶嵌在非晶基体相中的纳米复合结构;随着氮含量增加,非晶相含量增加,Ti(C,N)纳米晶的含量和晶粒尺寸减小;随着氮含量增加,Ti-B-C-N薄膜的显微硬度增大,摩擦因数和磨损率均减小,表面磨痕变浅,磨损机制由剥落和微观犁削转变为微观抛光。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 Ti-b-c-n薄膜 纳米复合结构 硬度 摩擦磨损性能
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立方氮化硼薄膜的制备及研究 被引量：3
4
作者 王明娥 马国佳 董闯 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期950-955,共6页
通过工艺对比,考察了过渡层在降低立方氮化硼薄膜内应力方面的作用,并研究了薄膜的力学性能。结果表明B-C-N三元过渡层的添加有效地降低了薄膜内应力。X射线光电子能谱结果显示在B-C-N三元过渡层内形成了成分的逐渐变化,同时各元素间杂... 通过工艺对比,考察了过渡层在降低立方氮化硼薄膜内应力方面的作用,并研究了薄膜的力学性能。结果表明B-C-N三元过渡层的添加有效地降低了薄膜内应力。X射线光电子能谱结果显示在B-C-N三元过渡层内形成了成分的逐渐变化,同时各元素间杂化成键。过渡层的添加使得在硅片基底上成功制备了性能稳定的立方氮化硼厚膜。 展开更多
关键词 立方氮化硼薄膜 b-c-n过渡层 应力 X射线光电子能谱
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