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Ar离子激光增强硅各向异性腐蚀速率的研究 被引量：10
1
作者 温殿忠 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期202-204,共3页
研究了Ａｒ离子激光器与硅各向异性腐蚀技术相结合制造硅杯的方法。结果表明，激光照射能增强浸于ＫＯＨ溶液中硅的化学腐蚀速率，在入射光强为４．６Ｗ，ＫＯＨ溶液浓度为０．２２ｍｏｌ，温度为９０℃的条件下，得到＜１００＞硅的腐... 研究了Ａｒ离子激光器与硅各向异性腐蚀技术相结合制造硅杯的方法。结果表明，激光照射能增强浸于ＫＯＨ溶液中硅的化学腐蚀速率，在入射光强为４．６Ｗ，ＫＯＨ溶液浓度为０．２２ｍｏｌ，温度为９０℃的条件下，得到＜１００＞硅的腐蚀速率为２１μｍ／ｍｉｎ，是无激光照射时硅各向异性腐蚀速率的多倍。进而讨论了硅在ＫＯＨ溶液中腐蚀速率对激光光强的依赖关系以及实验温度对腐蚀速率的影响问题。 展开更多
关键词 硅 各向异性 腐蚀 氩离子激光
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硅在KOH溶液中各向异性腐蚀机理的研究 被引量：4
2
作者 温殿忠 庄玉光 邱成军 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 1996年第3期55-58,54,共5页
本文应用碰撞理论研究了硅在ＫＯＨ溶液中各向异性腐蚀的机理。结果表明，硅在ＫＯＨ溶液中的各向异性腐蚀速率不但与硅材料晶面原子密度差异有关，而且还与活化离子ＯＨ－数有关，活化粒子数与成正比。应用本文给出的腐蚀机理能满意解... 本文应用碰撞理论研究了硅在ＫＯＨ溶液中各向异性腐蚀的机理。结果表明，硅在ＫＯＨ溶液中的各向异性腐蚀速率不但与硅材料晶面原子密度差异有关，而且还与活化离子ＯＨ－数有关，活化粒子数与成正比。应用本文给出的腐蚀机理能满意解释硅在ＫＯＨ溶液中各向异性腐蚀的实验结果。 展开更多
关键词 硅 各向异性 腐蚀 碰撞 氢氧化钾溶液
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