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双介质体系双层膜位置对光学TES吸收率的影响
1
作者
刘海燕
周哲海
《数字技术与应用》
2021年第8期212-216,219,共6页
应用在光学波段的超导转变边沿传感器(TES)是一种极灵敏的单光子探测器,具备极优的能谱分辨能力,较高的量子效率几乎没有本征的暗计数率。双介质体系增透膜是进一步提高光学TES光子吸收效率常用的有效手段。实验中常选取具有良好低温特...
应用在光学波段的超导转变边沿传感器(TES)是一种极灵敏的单光子探测器,具备极优的能谱分辨能力,较高的量子效率几乎没有本征的暗计数率。双介质体系增透膜是进一步提高光学TES光子吸收效率常用的有效手段。实验中常选取具有良好低温特性的超导Ti-TES膜作为功能层生长于双面抛光型Si3N4的硅片上,通过TFCalc软件,分别仿真生长于正反两方向的Ti-TES对1550nm附近光子的光学吸收效率值确定较优的光学吸收方向。进一步地,在基底与Ti-TES之间不同位置处增加两种不同的双介质体系增透膜,通过仿真确定其不同位置对于光学波段TES吸收率的影响。
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关键词
TES
双介质体系增透膜
吸收率
仿真
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题名
双介质体系双层膜位置对光学TES吸收率的影响
1
作者
刘海燕
周哲海
机构
北京信息科技大学机械工业现代光电测试技术重点实验室
出处
《数字技术与应用》
2021年第8期212-216,219,共6页
文摘
应用在光学波段的超导转变边沿传感器(TES)是一种极灵敏的单光子探测器,具备极优的能谱分辨能力,较高的量子效率几乎没有本征的暗计数率。双介质体系增透膜是进一步提高光学TES光子吸收效率常用的有效手段。实验中常选取具有良好低温特性的超导Ti-TES膜作为功能层生长于双面抛光型Si3N4的硅片上,通过TFCalc软件,分别仿真生长于正反两方向的Ti-TES对1550nm附近光子的光学吸收效率值确定较优的光学吸收方向。进一步地,在基底与Ti-TES之间不同位置处增加两种不同的双介质体系增透膜,通过仿真确定其不同位置对于光学波段TES吸收率的影响。
关键词
TES
双介质体系增透膜
吸收率
仿真
Keywords
Metgy
TES
Dielectric
anti-reflection
bilayer
absorption
effiency
Simulation
分类号
TN2 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
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1
双介质体系双层膜位置对光学TES吸收率的影响
刘海燕
周哲海
《数字技术与应用》
2021
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